黑矩阵基板及其制作方法以及具有黑矩阵基板的显示装置与流程

技术特征：
1.一种黑矩阵基板，具备：基板；以及遮光膜，位于所述基板上，并具备多个开口，所述遮光膜包含：所述基板上的基膜；所述基膜上的金属膜；以及低反射膜，位于所述基膜与所述金属膜之间，与所述金属膜相比光反射率低。2.根据权利要求1所述的黑矩阵基板，其中，所述基膜包含树脂和无机化合物中的至少一者。3.根据权利要求2所述的黑矩阵基板，其中，所述树脂选自丙烯酸树脂、环氧树脂、聚硅氧烷树脂、聚酰亚胺树脂以及聚酰胺树脂，所述无机化合物选自含硅无机化合物。4.根据权利要求1所述的黑矩阵基板，其中，所述基膜的厚度比所述金属膜的厚度和所述低反射膜的厚度中的任意一者都大。5.根据权利要求1所述的黑矩阵基板，其中，所述遮光膜的宽度随着离所述基板的距离增大而减少。6.根据权利要求1所述的黑矩阵基板，其中，所述黑矩阵基板还具备配置在所述多个开口的多个彩色滤光片，相邻的所述彩色滤光片的颜色相互不同，并且均与所述基膜的颜色不同。7.根据权利要求6所述的黑矩阵基板，其中，所述多个彩色滤光片与所述基膜接触。8.根据权利要求6所述的黑矩阵基板，其中，所述多个彩色滤光片与所述基板接触。9.根据权利要求6所述的黑矩阵基板，其中，所述多个彩色滤光片中的至少一个彩色滤光片覆盖所述金属膜的上表面。10.根据权利要求6所述的黑矩阵基板，其中，所述多个彩色滤光片的高度比所述遮光膜的高度小。11.根据权利要求6所述的黑矩阵基板，其中，所述黑矩阵基板还具备与所述彩色滤光片和所述遮光膜的上表面接触的保护层。12.根据权利要求1所述的黑矩阵基板，其中，所述基板和所述遮光膜的上表面与保护层接触。13.根据权利要求1所述的黑矩阵基板，其中，所述基膜具有透光性。14.一种显示装置，具备：阵列基板，具有多个像素；以及所述阵列基板上的黑矩阵基板，所述黑矩阵基板具备：对置基板；遮光膜，位于所述对置基板下，并具备多个开口；以及
多个彩色滤光片，配置在所述多个开口，所述遮光膜包含：所述对置基板下的基膜；所述基膜下的金属膜；以及低反射膜，位于所述基膜与所述金属膜之间，与所述金属膜相比光反射率低。15.根据权利要求14所述的显示装置，其中，所述基膜包含树脂和无机化合物中的至少一者。16.根据权利要求15所述的显示装置，其中，所述树脂选自丙烯酸树脂、环氧树脂、聚硅氧烷树脂、聚酰亚胺树脂以及聚酰胺树脂，所述无机化合物选自含硅无机化合物。17.根据权利要求14所述的显示装置，其中，所述基膜的厚度比所述金属膜的厚度和所述低反射膜的厚度中的任意一者都大。18.根据权利要求14所述的显示装置，其中，所述遮光膜的宽度随着离所述对置基板的距离增大而减少。19.根据权利要求14所述的显示装置，其中，相邻的所述彩色滤光片的颜色相互不同，并且均与所述基膜的颜色不同。20.根据权利要求14所述的显示装置，其中，所述多个彩色滤光片与所述基膜接触。21.根据权利要求14所述的显示装置，其中，所述多个彩色滤光片与所述对置基板接触。22.根据权利要求14所述的显示装置，其中，所述多个彩色滤光片中的至少一个彩色滤光片覆盖所述金属膜的上表面。23.根据权利要求14所述的显示装置，其中，所述多个彩色滤光片的高度比所述遮光膜的高度小。24.根据权利要求14所述的显示装置，其中，所述显示装置还具备与所述彩色滤光片和所述遮光膜的上表面接触的保护层。25.根据权利要求24所述的显示装置，其中，所述对置基板与所述保护层接触。26.根据权利要求13所述的黑矩阵基板，其中，所述基膜具有透光性。27.一种制作黑矩阵基板的方法，包含：通过在基板上依次形成基膜、低反射膜以及金属膜，从而在所述基板上形成遮光膜；在所述遮光膜上形成具有多个贯通孔的抗蚀剂掩模；在所述抗蚀剂掩模的所述多个贯通孔中将所述低反射膜和所述金属膜一并蚀刻，从而形成使所述基膜露出的多个开口；以及通过蚀刻来去除所述抗蚀剂掩模，同时去除与所述多个开口重叠的所述基膜。28.根据权利要求27所述的方法，其中，所述基膜包含树脂和无机化合物中的至少一者。29.根据权利要求28所述的方法，其中，
所述树脂选自丙烯酸树脂、环氧树脂、聚硅氧烷树脂、聚酰亚胺树脂以及聚酰胺树脂，所述无机化合物选自含硅无机化合物。30.根据权利要求27所述的方法，其中，所述遮光膜的所述形成是以基膜的厚度比所述金属膜的厚度和所述低反射膜的厚度中的任意一者都大的方式进行的。31.根据权利要求27所述的方法，其中，所述低反射膜、所述金属膜以及所述基膜的所述蚀刻是以遮光膜的宽度随着离所述基板的距离增大而减少的方式进行的。32.根据权利要求27所述的方法，其中，所述方法还包含在将所述基膜去除后在所述多个开口分别形成彩色滤光片，所述彩色滤光片的所述形成是以相邻的所述彩色滤光片的颜色相互不同的方式进行的，相邻的所述彩色滤光片的所述颜色均与所述基膜的颜色不同。33.根据权利要求27所述的方法，其中，所述基膜具有透光性。

技术总结
本发明的实施方式涉及黑矩阵基板及其制作方法以及具有黑矩阵基板的显示装置。提供能应用于超高清晰的显示装置的带遮光膜的基板及其制作方法。带遮光膜的基板具备基板、位于基板上并具备多个开口的遮光膜、以及配置在多个开口的多个彩色滤光片。遮光膜包含基板上的基膜、基膜上的金属膜、以及位于基膜与金属膜之间且与金属膜相比光反射率较低的低反射膜。基膜能够包含树脂和无机化合物中的至少一者。基膜能够包含树脂和无机化合物中的至少一者。基膜能够包含树脂和无机化合物中的至少一者。


技术研发人员：安达浩一郎
受保护的技术使用者：株式会社日本显示器
技术研发日：2022.07.04
技术公布日：2023/2/6