转印膜及层叠体的制造方法与流程

技术特征：
1.一种转印膜，其具有临时支承体及配置于临时支承体上的感光性组合物层，所述感光性组合物层包含碱溶性树脂、聚合性化合物以及由式i或式ii表示的聚合引发剂，所述聚合引发剂的含量相对于所述感光性组合物层的总质量为0.1质量％～3.0质量％，式i中，x1表示由-s-r
11
表示的基团或由-r
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表示的基团，r
11
及r
12
分别独立地表示碳原子数2以上的1价的有机基团，式ii中，x2表示n价的连接基团，式i及式ii中，y1及y2分别独立地表示任选地具有取代基的烷基或任选地具有取代基的芳基，式i及式ii中，z1及z2分别独立地表示任选地具有取代基的烷基或任选地具有取代基的芳基，其中，当z1及z2为任选地具有取代基的烷基时，z1与z2任选地连接而形成环，式i及式ii中，x3为1价的取代基，式i及式ii中，m表示0～3的整数，当m为2以上时，多个x3彼此相同或不同，式ii中，n为2或3。2.根据权利要求1所述的转印膜，其中，式i中，x1为具有芳香环的基团。3.根据权利要求1或2所述的转印膜，其中，所述感光性组合物层还包含除了由所述式i表示的聚合引发剂及由所述式ii表示的聚合引发剂以外的聚合引发剂。4.根据权利要求3所述的转印膜，其中，所述感光性组合物层中的、由所述式i表示的聚合引发剂及由所述式ii表示的聚合引发剂的总含量相对于除了由所述式i表示的聚合引发剂及由所述式ii表示的聚合引发剂以外的聚合引发剂的含量的质量比为0.5～10。5.根据权利要求1至4中任一项所述的转印膜，其中，所述聚合性化合物包含(甲基)丙烯酸酯化合物，该(甲基)丙烯酸酯化合物具有在环内任选地含有氧原子或氮原子的脂肪族环且在一分子中具有2个以上的烯属不饱和基团。6.根据权利要求1至5中任一项所述的转印膜，其中，所述聚合性化合物包含在一分子中具有2个烯属不饱和基团的(甲基)丙烯酸酯化合物及在一分子中具有3个～6个烯属不饱和基团的(甲基)丙烯酸酯化合物。7.根据权利要求1至6中任一项所述的转印膜，其中，所述碱溶性树脂包含具有芳香环的结构单元及具有脂肪族环的结构单元中的至少一
种结构单元。8.根据权利要求1至7中任一项所述的转印膜，其中，所述碱溶性树脂包含具有自由基聚合性基团的结构单元。9.根据权利要求1至8中任一项所述的转印膜，其中，所述感光性组合物层还包含封端异氰酸酯化合物。10.根据权利要求1至9中任一项所述的转印膜，其还包含折射率调整层，所述折射率调整层与所述感光性组合物层接触而配置，所述折射率调整层的折射率为1.60以上。11.根据权利要求1至10中任一项所述的转印膜，其中，所述感光性组合物层用于触摸面板电极保护膜的形成。12.一种层叠体的制造方法，其具有：贴合工序，使权利要求1至11中任一项所述的转印膜的所述临时支承体上的所述感光性组合物层与具有导电层的基板接触而贴合，从而获得依次具有所述基板、所述导电层、所述感光性组合物层及所述临时支承体的带感光性组合物层的基板；曝光工序，对所述感光性组合物层进行图案曝光；及显影工序，对经曝光的所述感光性组合物层进行显影而形成图案，所述层叠体的制造方法还具有剥离工序，该剥离工序在所述贴合工序与所述曝光工序之间或所述曝光工序与所述显影工序之间，从所述带感光性组合物层的基板剥离所述临时支承体。

技术总结
本发明的课题在于提供一种能够形成透湿性低且耐弯曲性优异的固化膜的转印膜。并且，本发明的课题还在于提供一种使用上述转印膜而成的层叠体的制造方法。本发明的转印膜具有临时支承体及配置于临时支承体上的感光性组合物层，感光性组合物层包含碱溶性树脂、聚合性化合物及由式I或式II表示的聚合引发剂，聚合引发剂的含量相对于感光性组合物层的总质量为0.1～3.0质量％。X1为由-S-R


技术研发人员：儿玉邦彦 霜山达也
受保护的技术使用者：富士胶片株式会社
技术研发日：2021.06.01
技术公布日：2023/2/13