一种硅片外观检测设备的制作方法

技术特征：
1.一种硅片外观检测设备，包括工作台，其特征在于，在工作台设有：硅片供给机构，包括硅片摆放盒、转移机构，所述转移机构通过真空吸附的方式对硅片进行取放；输送机构，为传送带输送机构，用于输送硅片；除尘机构，设置于输送机构的输送通道上，包括罩盖，罩盖倒扣于输送机构上，且形成进料口和出料口，在罩盖内设有风机，所述风机朝向输送机构，风机用于清除硅片表面的灰尘颗粒，且风机启动时，在罩盖内形成正向风道，使罩盖内的气压大于外界气压；检测机构，设置在所述出料口侧，用于对硅片的外观进行检测。2.根据权利要求1所述的硅片外观检测设备，其特征在于，所述检测机构包括检测镜头，在所述检测镜头外侧设有防尘罩，所述防尘罩用于在检测过程中防止受到空气粉尘的干扰。3.根据权利要求1所述的硅片外观检测设备，其特征在于，输送机构包括第一输送机构和第二输送机构，所述第一输送机构与所述进料口连通，在第一输送机构与第二输送机构之间设有直线振动筛，直线振动筛位于所述罩盖内。4.根据权利要求1所述的硅片外观检测设备，其特征在于，所述传送带输送机构为圆带轮传送带输送机构。5.根据权利要求1所述的硅片外观检测设备，其特征在于，在所述检测机构的下方，设有顶升机构，用于将硅片顶升至与输送机构分离。6.根据权利要求1所述的硅片外观检测设备，其特征在于，所述罩盖为透明盖体。

技术总结
本实用新型提供了一种硅片外观检测设备，包括工作台，在工作台设有：硅片供给机构，输送机构，用于输送硅片，除尘机构，设置于输送机构的输送通道上，风机用于清除硅片表面的灰尘颗粒，检测机构，设置在所述出料口侧，用于对硅片的外观进行检测；本实用新型在对硅片检测之前，通过除尘机构对附着在硅片表面的细小粉尘颗粒进行清洁，采用风机能够有效去除硅片表面的粉尘颗粒物，经过清洁后的硅片在送至检测机构处进行检测，极大的提高了检测的准确性，避免了非必要的浪费。免了非必要的浪费。免了非必要的浪费。


技术研发人员：沈志文
受保护的技术使用者：深圳杰微芯片科技有限公司
技术研发日：2022.09.28
技术公布日：2023/2/13