用于校准的系统和方法与流程

技术特征：
1.一种方法，包括：(a)获得在材料制造或加工机器中提供的材料表面的一个或多个图像，其中所述材料表面包括一个或多个校准特征；(b)至少部分地基于所述一个或多个图像确定所述一个或多个校准特征的一个或多个空间特性，其中所述一个或多个空间特性包括以下中的一个或多个：(i)所述一个或多个校准特征之间的距离，(ii)所述一个或多个校准特征的位置，(iii)所述一个或多个校准特征的取向，(iv)所述一个或多个校准特征的对准，(v)所述一个或多个校准特征的大小或(vi)所述一个或多个校准特征的形状；以及(c)使用所述一个或多个空间特性来调整以下中的至少一个：(i)成像单元相对于所述材料表面或相对于所述材料制造或加工机器的位置或取向，(ii)所述材料表面相对于所述成像单元的角度或倾斜度，以及(iii)所述成像单元的一个或多个成像参数，其中所述一个或多个成像参数包括与所述成像单元相关联的曝光时间、快门速度、光圈、胶片速度、视场、对焦区域、对焦距离、拍摄率或拍摄时间。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述一个或多个校准特征包括一个或多个零维(0-d)特征。3.根据权利要求2所述的方法，其中所述一个或多个零维(0-d)特征包括一个或多个点。4.根据权利要求3所述的方法，其中所述一个或多个点包括一个或多个激光点。5.根据权利要求1所述的方法，其中所述一个或多个校准特征包括一个或多个一维(1-d)特征。6.根据权利要求5所述的方法，其中所述一个或多个一维(1-d)特征包括一条或多条线。7.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少一条基本上是直的或线性的。8.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少一条基本上是非线性的。9.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少一条具有弯曲部分。10.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少一条为实线。11.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少一条是包含两条或更多条线段的虚线。12.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少两条彼此平行。13.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少两条彼此不平行。14.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少两条彼此呈斜角。15.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少两条彼此相交。16.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少两条彼此不相交。17.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少两条彼此垂直。18.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少两条彼此不垂直。19.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少两条彼此重叠。20.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少两条在一点处会聚。21.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少一条沿垂直轴延伸。22.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少一条沿水平轴延伸。
23.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少一条以一定角度延伸，其中所述角度为约0度至约360度。24.根据权利要求1所述的方法，其中所述一个或多个校准特征包括一个或多个二维(2d)特征。25.根据权利要求24所述的方法，其中所述一个或多个二维(2d)特征包括一个或多个形状。26.根据权利要求25所述的方法，其中所述形状中的至少一个为规则形状。27.根据权利要求26所述的方法，其中所述规则形状包括圆形、椭圆形或多边形。28.根据权利要求27所述的方法，其中所述多边形为n边多边形，并且其中n大于3。29.根据权利要求25所述的方法，其中所述形状中的至少一个是不规则形状或无定形形状。30.根据权利要求24所述的方法，其中所述形状中的至少两个被分开提供而彼此不重叠。31.根据权利要求24所述的方法，其中所述形状中的至少两个彼此重叠。32.根据权利要求24所述的方法，其中所述形状中的至少两个沿公共水平轴。33.根据权利要求24所述的方法，其中所述形状中的至少两个沿公共垂直轴。34.根据权利要求24所述的方法，其中所述形状中的至少两个沿公共轴，所述公共轴以从约0度至约360度的角度延伸。35.根据权利要求1所述的方法，其中所述一个或多个校准特征包括一个或多个三维(3d)特征。36.根据权利要求35所述的方法，其中所述一个或多个三维(3d)特征包括一个或多个全息特征。37.根据权利要求1所述的方法，其中所述一个或多个校准特征包括一个或多个边缘标记。38.根据权利要求37所述的方法，其中所述一个或多个边缘标记被投影在所述材料表面的一个或多个拐角或边缘处或附近。39.根据权利要求1所述的方法，其中所述一个或多个校准特征包括选自条形码和快速响应(qr)码的一个或多个校准图像。40.根据权利要求1所述的方法，其中(a)包括将所述校准特征中的至少一个投影在所述材料表面的中心区域处或附近。41.根据权利要求1所述的方法，其中(a)包括通过使用一个或多个激光源将所述校准特征光学投影到所述材料表面上来生成所述一个或多个校准特征。42.根据权利要求41所述的方法，其中所述一个或多个激光源包括一个或多个线激光器。43.根据权利要求41所述的方法，其中所述一个或多个激光源包括一个或多个交叉激光器。44.根据权利要求41所述的方法，其中(c)(i)包括至少部分地基于由所述一个或多个激光源投影的两条或更多条激光线之间的对准来调整所述成像单元的所述位置或所述取向。
45.根据权利要求1所述的方法，其中(c)(i)包括至少部分地基于比较：(1)具有所述一个或多个空间特性的所述一个或多个校准特征的图像，与(2)包括具有一组参考空间特性的一组参考校准特征的参考图像，来调整所述成像单元的所述位置或所述取向。46.根据权利要求1所述的方法，其中在(c)(i)中调整所述成像单元的所述位置或所述取向包括修改所述成像单元相对于所述材料表面或所述材料制造机器的距离或角度。47.根据权利要求1所述的方法，其中(c)(i)包括至少部分地基于所述材料表面的深度图来调整所述成像单元的所述位置或所述取向。48.根据权利要求47所述的方法，其中所述深度图是使用深度传感器获得的。49.根据权利要求48所述的方法，其中所述深度传感器包括立体相机或飞行时间相机。50.根据权利要求47所述的方法，其中所述深度图包括关于所述成像单元与位于所述材料表面上的多个点之间的相对距离的信息。51.根据权利要求41所述的方法，其中(c)(ii)包括至少部分地基于由所述一个或多个激光源投影的两条或更多条激光线之间的对准来调整所述材料表面的所述角度或所述倾斜度。52.根据权利要求1所述的方法，其中(c)(ii)包括至少部分地基于比较：(1)具有所述一个或多个空间特性的所述一个或多个校准特征的图像，与(2)包括具有一组参考空间特性的一组参考校准特征的参考图像，来调整所述材料表面的所述角度或所述倾斜度。53.根据权利要求1所述的方法，其中(c)(ii)包括至少部分地基于所述材料表面的深度图来调整所述材料表面的所述角度或所述倾斜度。54.根据权利要求41所述的方法，其中(c)(iii)包括至少部分地基于由所述一个或多个激光源投影的两条或更多条激光线之间的对准来调整所述一个或多个成像参数。55.根据权利要求1所述的方法，其中(c)(iii)包括至少部分地基于比较：(1)具有所述一个或多个空间特性的所述一个或多个校准特征的图像，与(2)包括具有一组参考空间特性的一组参考校准特征的参考图像，来调整所述一个或多个成像参数。56.根据权利要求1所述的方法，其中(c)(iii)包括至少部分地基于所述材料表面的深度图来调整所述一个或多个成像参数。57.根据权利要求1所述的方法，还包括：使用所述成像单元至少确定所述材料表面内或所述材料表面上的一个或多个缺陷的类型、形状或大小。58.根据权利要求57的方法，其中所述材料表面位于卷对卷生产或加工的材料片材上。59.根据权利要求1所述的方法，其中所述材料制造机器包括圆形针织机或织布机。60.一种方法，包括：(a)获得在材料制造或加工机器中提供的材料表面的一个或多个图像，其中所述材料表面包括一个或多个校准特征，并且其中所述一个或多个校准特征包括一个或多个故意创建的缺陷、图案或特征；(b)确定所述一个或多个校准特征的一个或多个空间特性，其中所述一个或多个空间特性包括以下中的一个或多个：(i)所述一个或多个校准特征之间的距离，(ii)所述一个或多个校准特征的位置，(iii)所述一个或多个校准特征的取向，(iv)所述一个或多个校准特征的对准，(v)所述一个或多个校准特征的大小或(vi)所述一个或多个校准特征的形状；以及
(c)使用所述一个或多个空间特性来调整以下中的至少一个：(i)成像单元相对于所述材料表面或相对于所述材料制造或加工机器的位置或取向，(ii)所述材料表面相对于所述成像单元的角度或倾斜度，以及(iii)所述成像单元的一个或多个成像参数，其中所述一个或多个成像参数包括与所述成像单元相关联的曝光时间、快门速度、光圈、胶片速度、视场、对焦区域、对焦距离、拍摄率或拍摄时间。61.根据权利要求60所述的方法，其中所述一个或多个故意创建的缺陷、图案或特征被直接集成到所述材料表面。62.根据权利要求60所述的方法，其中所述一个或多个故意创建的缺陷、图案或特征是通过在所述材料表面的制造或加工期间向所述材料表面中添加包含不同颜色、尺寸或材料的一个或多个绳、线或纱线而生成的。63.根据权利要求60所述的方法，其中所述一个或多个故意创建的缺陷、图案或特征是通过在所述材料表面的制造或加工期间向所述材料表面中添加或从所述材料表面中移除一个或多个绳、线或纱线而生成的。64.根据权利要求63所述的方法，其中向所述材料表面中添加或从所述材料表面中移除所述一个或多个绳、线或纱线在所述材料表面内产生一个或多个线、图案、间隙或特征。65.一种方法，包括：(a)获得在材料制造或加工机器中提供的材料表面的一个或多个图像，其中所述材料表面包括一个或多个校准特征，并且其中所述一个或多个校准特征包括未被光学投影到所述材料表面的一个或多个校准工具或校准装置；(b)确定所述一个或多个校准特征的一个或多个空间特性，其中所述一个或多个空间特性包括以下中的一个或多个：(i)所述一个或多个校准特征之间的距离，(ii)所述一个或多个校准特征的位置，(iii)所述一个或多个校准特征的取向，(iv)所述一个或多个校准特征的对准，(v)所述一个或多个校准特征的大小或(vi)所述一个或多个校准特征的形状；以及(c)使用所述一个或多个空间特性来调整以下中的至少一个：(i)成像单元相对于所述材料表面或相对于所述材料制造或加工机器的位置或取向，(ii)所述材料表面相对于所述成像单元的角度或倾斜度，以及(iii)所述成像单元的一个或多个成像参数，其中所述一个或多个成像参数包括与所述成像单元相关联的曝光时间、快门速度、光圈、胶片速度、视场、对焦区域、对焦距离、拍摄率或拍摄时间。66.根据权利要求65所述的方法，其中所述一个或多个校准工具或校准装置被粘贴到所述材料表面或其一部分。67.根据权利要求65所述的方法，其中所述一个或多个校准工具或校准装置包括可释放地附接或耦合到所述材料表面的至少一部分以帮助校准的一个或多个物理对象。68.根据权利要求67所述的方法，其中使用销、钳子、夹子、钩子、磁体或黏合材料将所述一个或多个物理对象耦合到所述材料表面。69.根据权利要求65所述的方法，其中所述一个或多个校准工具或校准装置包括粘贴或附接到所述材料表面的贴纸、条形码、快速响应(qr)码或图像。70.一种系统，包括：成像单元，所述成像单元被配置为获得在材料制造或加工机器中提供的材料表面的一
个或多个图像，其中所述材料表面包括一个或多个校准特征；校准分析单元，所述校准分析单元被配置为至少部分地基于所述一个或多个图像确定所述一个或多个校准特征的一个或多个空间特性，其中所述一个或多个空间特性包括以下中的一个或多个：(i)所述一个或多个校准特征之间的距离，(ii)所述一个或多个校准特征的位置，(iii)所述一个或多个校准特征的取向，(iv)所述一个或多个校准特征的对准，(v)所述一个或多个校准特征的大小或(vi)所述一个或多个校准特征的形状；以及校准单元，所述校准单元被配置为使用所述一个或多个空间特性来调整以下中的至少一个：(i)所述成像单元相对于所述材料表面或相对于所述材料制造或加工机器的位置或取向，(ii)所述材料表面相对于所述成像单元的角度或倾斜度，以及(iii)所述成像单元的一个或多个成像参数，其中所述一个或多个成像参数包括与所述成像单元相关联的曝光时间、快门速度、光圈、胶片速度、视场、对焦区域、对焦距离、拍摄率或拍摄时间。71.根据权利要求70所述的系统，其中所述校准分析单元被配置为向所述成像单元提供反馈，并且其中所述成像单元被配置为基于所述反馈进行校准。72.根据权利要求70所述的系统，还包括投影单元，其被配置为通过将所述一个或多个校准特征光学投影到所述材料表面上来生成所述一个或多个校准特征。73.根据权利要求72所述的系统，其中所述校准单元被配置为使用所述一个或多个空间特性来调整所述投影单元的一个或多个操作参数。74.根据权利要求1所述的方法，还包括基于所述一个或多个图像来检测所述材料表面中的一个或多个缺陷。75.根据权利要求1所述的方法，还包括基于所述一个或多个图像来确定或监测所述材料表面的质量。76.根据权利要求1所述的方法，还包括通过将所述一个或多个校准特征光学投影到所述材料表面上来生成所述一个或多个校准特征。77.根据权利要求60所述的方法，还包括基于所述一个或多个图像来检测所述材料表面中的一个或多个缺陷。78.根据权利要求60所述的方法，还包括基于所述一个或多个图像来确定或监测所述材料表面的质量。79.根据权利要求65所述的方法，还包括基于所述一个或多个图像来检测所述材料表面中的一个或多个缺陷。80.根据权利要求65所述的方法，还包括基于所述一个或多个图像来确定或监测所述材料表面的质量。81.根据权利要求59所述的方法，还包括使用位于所述圆形针织机内部的一个或多个相机来获得所述一个或多个图像。82.根据权利要求59所述的方法，还包括使用位于所述圆形针织机的管状部分内部的一个或多个相机来获得所述一个或多个图像。

技术总结
本公开内容提供了用于校准的系统和方法。在一个示例中，该方法可以包括用于校准的光学图像分析。该方法可包括生成一个或多个校准特征在材料制造或加工机器中提供的材料表面上的光学投影，并确定校准特征的一个或多个空间特性。一个或多个空间特性可以包括一个或多个校准特征的距离、位置、取向、对准、大小或形状。一个或多个空间特性可以用于调整以下中的至少一个：(i)成像单元相对于材料表面和材料制造或加工机器的位置或取向，(ii)材料表面相对于成像单元的角度或倾斜度，以及(iii)成像单元的一个或多个成像参数。元的一个或多个成像参数。元的一个或多个成像参数。


技术研发人员：吉尔伯图
受保护的技术使用者：斯玛特克斯欧洲一人有限公司
技术研发日：2021.03.29
技术公布日：2023/2/3