一种掩模优化方法及存储介质与流程

一种掩模优化方法及存储介质
【技术领域】
1.本发明涉及集成电路掩模设计技术领域，特别涉及一种掩模优化方法及存储介质。


背景技术：

2.掩模图形经过opc(optical proximity correction)进行掩模优化后，在被发送到掩模生产厂之前，必须要做掩模制造规则检查(mask rule check，mrc)。mrc检查根据掩模版厂提供的规则，确认掩模图形中所有图形适合掩模版制备工艺。mrc规则主要包括如下内容：
3.(1)对图形的最小线宽(minwidth)，线间距(minspace)做出规定。
4.(2)对图形拐角之间间距(corner-to-corner)的最小值做出规定。
5.(3)对图形的最小面积(minimun area)做出限定。
6.目前已公开的技术中，掩模优化和掩模制造规则检查是两个相对独立的过程，掩模优化是为了使制造所获得的图形与芯片设计图形尽可能保持一致。然而掩模优化后进行掩模制造规则检查时，对发现违反掩模制造规则的掩模图形需要进行调整，这个调整的过程会耗费相当大的时间和精力，降低了掩模生产的效率。同时，调整过后的掩模图形制造后获得的图形可能与设计图形存在较大误差，不一定符合设计要求，降低了掩模的良品率。


技术实现要素：

7.为提高掩模生产效率，本发明提供了一种掩模优化方法及存储介质。
8.本发明解决技术问题的方案是提供一种掩模优化方法，包括以下步骤：
9.获取初始设计图形；
10.对所述初始设计图形进行边打断；
11.基于掩模制造规则与每一条打断的边的位置获取每一条打断的边能够移动的第一距离与第二距离；
12.对所述初始设计图形进行掩模优化，并将每一条打断的边能够移动的第一距离与第二距离作为优化算法的约束条件进行掩模优化得到目标优化图形。
13.优选地，对所述初始设计图形进行掩模优化包括以下步骤：
14.在打断的边上预设评估点；
15.基于评估点调整打断的边的位置进行掩模优化。
16.优选地，对所述初始设计图形进行掩模优化利用误差函数实现。
17.优选地所述误差函数设置为：
[0018][0019]
其中，l表示第l个工艺条件，c
l
为工艺条件误差对cost的权重，i表示第i个评估
点，wi为第i个评估点的权重，epe
l,i
为评估点在第l个工艺条件时的边放置误差，p为指数；cost(mrc)为将设计图形中违反掩模制造规则的线段定量表示到cost，cost(sidelobe)为将亚分辨辅助图形经过曝光形成的轮廓表示到cost，etc表示其他误差项。
[0020]
优选地，其他误差项包括cost(pinch brige)，cost(pinch brige)为连续轮廓的表示或断开轮廓的表示。
[0021]
优选地，所述第一距离为该打断的边朝第一方向移动的最大距离；所述第二距离为该打断的边朝与第一方向相反的第二方向移动的最大距离。
[0022]
优选地，所述第一方向与所述第二方向为以该打断的边为坐标原点建立的坐标系中坐标轴的相反的两方向。
[0023]
优选地，所述优化算法为l-bfgs-b算法，所述优化算法的目标函数设置为：
[0024]
min f(m)subject to m∈ω
[0025]
其中，m∈ω＝{m∈rn|li≤mi≤ui}，ω为搜索空间，li∈r，ui∈r，n＝{1,2，...，n}，li与ui分别为参数mi的上界与下界，li代表所述第一距离，ui代表所述第二距离；f(m)代表误差函数；subject to表示约束条件。
[0026]
优选地，获取每一条打断的边能够移动的第一距离和第二距离包括以下步骤：
[0027]
获取任意一条打断的边，所述打断的边为第一可移动边；
[0028]
获取该第一可移动边周围的所有边为第二可移动边，并分别计算每条第二可移动边与该第一可移动边之间的距离；
[0029]
基于每条第二可移动边与第一可移动边之间的距离以及掩模制造规则要求的最小距离得到多个差值；
[0030]
基于每个差值得到第一可移动边能够移动的多个边界值；
[0031]
以多个边界值中绝对值最小的负数作为第一距离，以多个边界值中数值最小的正数作为第二距离。
[0032]
本发明为解决上述技术问题还提供一种存储介质，其上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现上述的掩模优化方法。
[0033]
与现有技术相比，本发明的一种掩模优化方法、事件抽取系统及存储介质具有以下优点：
[0034]
1、本发明的掩模优化方法，包括以下步骤：获取初始设计图形；对初始设计图形进行边打断；基于掩模制造规则与每一条打断的边的位置获取每一条打断的边能够移动的第一距离与第二距离；对初始设计图形进行掩模优化，并将每一条打断的边能够移动的第一距离与第二距离作为优化算法的约束条件进行掩模优化得到目标优化图形。本发明通过基于模型的掩模优化，将掩模制造规则应用到掩模优化中，保证优化过程中的优化图形和目标优化图形满足掩模制造规则要求，掩模优化结束之后即可进行掩模生产，无需额外单独进行掩模制造规则检查，极大地提高了掩模生产的效率，并且保证了掩模的良品率。
[0035]
2、本发明的掩模优化方法中优化算法为l-bfgs-b算法，该算法通过借助置信区间技术和梯度投影技术来进行l-bfgs算法的hessian矩阵更新和线搜索算法的运行，并且该算法只需要用户提供目标函数及其梯度函数而不需要计算hessian矩阵，降低了计算复杂度，并提高了计算速度。
[0036]
3、本发明的掩模优化方法中利用误差函数对初始设计图形进行掩模优化，自由度
高、优化效果好。
[0037]
4、本发明的掩模优化方法中误差函数由多项误差组成，用户可以根据不同的需求调整误差函数各项误差的权重，可以适应不同掩模优化需求，丰富了使用场景。
[0038]
5、本发明的掩模优化方法中第一距离为该打断的边朝第一方向移动的最大距离；第二距离为该打断的边朝与第一方向相反的第二方向移动的最大距离。可以理解，通过限制打断的边的移动距离使优化过程中的图形符合掩模制造规则，进而使目标优化图形符合掩模制造规则，有利于提高掩模的生产效率以及良品率。
[0039]
6、本发明还提供一种存储介质，其上存储有计算机程序，该计算机程序被执行时实现上述掩模优化方法，具有与上述掩模优化方法相同的有益效果，在此不做赘述。
【附图说明】
[0040]
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0041]
图1是本发明第一实施例提供的一种掩模优化方法的步骤流程图。
[0042]
图2是本发明第一实施例提供的一种掩模优化方法之步骤s4的流程图。
[0043]
图3是本发明第一实施例提供的一种掩模优化方法之优化结果示例图一。
[0044]
图4是本发明第一实施例提供的一种掩模优化方法之优化结果示例图二。
[0045]
附图标识说明：
[0046]
1、第一边优化结果；2、第二边优化结果；3、第一角优化结果；4、第二角优化结果；
[0047]
10、初始设计图形。
【具体实施方式】
[0048]
为了使本发明的目的，技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施实例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
[0049]
请参阅图1，本发明第一实施例提供一种掩模优化方法，包括以下步骤：
[0050]
s1、获取初始设计图形；
[0051]
s2、对初始设计图形进行边打断；
[0052]
s3、基于掩模制造规则与每一条打断的边的位置获取每一条打断的边能够移动的第一距离与第二距离；
[0053]
s4、对初始设计图形进行掩模优化，并将每一条打断的边能够移动的第一距离与第二距离作为优化算法的约束条件进行掩模优化得到目标优化图形。
[0054]
具体地，本发明第一实施例提供的优化算法为l-bfgs-b算法，l-bfgs-b(limited-memory broyden-fletcher-goldfarb-shanno bound-constrained optimization)是求解带约束大规模优化问题的方法，其目标函数设置为：
[0055]
min f(m)subject to m∈ω
[0056]
其中，m∈ω＝{m∈rn|li≤mi≤ui}，ω为搜索空间，li∈r，ui∈r，n＝{1,2，...，n}，
li与ui分别为参数mi的上界与下界，li代表第一距离，ui代表第二距离；f(m)代表误差函数；subject to表示约束条件。l-bfgs-b算法通过借助置信区间技术和梯度投影技术来进行l-bfgs算法的hessian矩阵更新和线搜索算法的运行，l-bfgs-b算法只需要用户提供目标函数及其梯度函数而不需要计算hessian矩阵，计算复杂度低，计算速度快。
[0057]
可以理解，本发明第一实施例将每一条打断的边能够移动的第一距离与第二距离作为l-bfgs-b算法的约束条件，迭代优化，以避免每一轮迭代中的当前优化图形出现违反掩模制造规则的行为，进而保证目标优化图形保持掩模制造规则。因此，通过本发明第一实施例提供的掩模优化方法进行掩模优化，掩模优化结束之后即可进行掩模生产，无需额外单独进行掩模制造规则检查，在保证掩模良品率的同时极大地提高了掩模生产的效率；并且通过本发明第一实施例的掩模优化方法同时可以保证获得的目标优化图形与初始设计图形之间的误差较小，生产出来的掩模也符合设计要求。
[0058]
可以理解，l-bfgs-b算法有三个终止准则：达到最大迭代次数，目标函数的变动量很小，投影梯度的模足够小，在本发明第一实施例中可以任选其一作为l-bfgs-b算法的终止条件。
[0059]
进一步地，第一距离为该打断的边朝第一方向移动的最大距离；第二距离为该打断的边朝与第一方向相反的第二方向移动的最大距离。具体地，第一方向与第二方向为以该打断的边为坐标原点建立的坐标系中坐标轴的相反的两方向。
[0060]
进一步地，步骤s3中获取每一条打断的边能够移动的第一距离与第二距离的具体步骤包括：
[0061]
s31、获取任意一条打断的边，打断的边为第一可移动边；
[0062]
s32、获取该第一可移动边周围的所有边为第二可移动边，并分别计算每条第二可移动边与该第一可移动边之间的距离；
[0063]
s33、基于每条第二可移动边与第一可移动边之间的距离以及掩模制造规则要求的最小距离得到多个差值；
[0064]
s34、基于每个差值得到第一可移动边能够移动的多个边界值；
[0065]
s35、以多个边界值中绝对值最小的负数作为第一距离，以多个边界值中数值最小的正数作为第二距离。
[0066]
具体地，步骤s33中通过分别用每条第二可移动边与第一可移动边之间的距离(这里的距离均为正数)减去掩模规则要求的最小距离得到多个差值。
[0067]
进一步地，步骤s34的具体步骤为：用每个差值乘以第一权重得到第一可移动边能够移动的多个边界值。进一步地，本发明第一实施例中还包括第二权重，步骤s33中的得到的各差值乘以第二权重得到的是对应的第二可移动边能够移动的边界值，如：一个差值是第一可移动边与某一条第二可移动边的距离减去掩模规制造规则要求的最小距离得到的差值，则该差值乘以第二权重得到的就是该第二可移动边能够移动的边界值。具体地，第一权重与第二权重均大于等于0，小于等于1，且第一权重与第二权重之和为1，第一权重与第二权重的具体值视实际需求定义，不做限制。
[0068]
可以理解，在计算第一可移动边能够移动的边界值时一般以该第一可移动边为原点建立坐标系获取该第一可移动边周围的第二可移动边，然后计算出第一距离与第二距离，第一距离与第二距离为该第一可移动边在某一坐标轴上朝相反方向能够移动的最大距
离，因此，第一距离为负数，负号仅代表移动方向，第一距离的绝对值代表移动的最大距离。示例性地，比如某一条第一可移动边的坐标为0，第一距离为-1，表示该第一可移动边能朝第一方向移动的最大距离为1；第二距离为5，表示该第一可移动边能朝第二方向移动的最大距离为5，则该第一可移动边可以移动的范围为[-1,5]，即该第一可移动边可以在坐标-1到5的范围内移动。
[0069]
进一步地，请参阅图2，步骤s4中对初始设计图形进行掩模优化具体包括以下步骤：
[0070]
s41、在打断的边上预设评估点；
[0071]
s42、基于评估点调整打断的边的位置进行掩模优化。
[0072]
具体地，步骤s41的具体步骤包括：
[0073]
s411、获取一条打断的边；
[0074]
s412、判断该打断的边的前一条边及后一条边是否都与该打断的边在同一直线上；若是，则在该打断的边上预设评估点；若不是，则寻找一个在预设半径内与该打断的边以及与该打断的边非平行的前一条边或后一条边相切的圆形，并在相切的圆形弧段上预设评估点。
[0075]
具体地，步骤s412中的相切的圆形弧段包括与该打断的边相切的圆形弧段和非平行的前一条边或后一条边相切圆形弧段。比如，若一条打断的边的前一条边与其非平行，则寻找一个在预设半径内与该打断的边以及与该前一条边相切的圆形，评估点可以预设在该圆形与该打断的边的切点处和该圆形与该前一条边的切点处。可以理解，若一条打断的边的后一条边与其非平行也采用类似的方法预设评估点。
[0076]
具体地，s412中的预设半径一般为纳米级大小，用户根据实际需求自己定义具体的数值。
[0077]
可以理解，步骤s42的优化目标是移动打断的边使曝光之后的图形的轮廓与对应评估点之间的距离尽可能小。因此，步骤s4的优化目标则是在每一条打断的边能够移动的第一距离与第二距离的约束下使曝光之后的图形的轮廓与对应评估点之间的距离尽可能小。
[0078]
进一步地，步骤s4中对初始设计图形进行掩模优化利用误差函数实现，即通过尽可能地降低误差函数的函数值实现掩模优化。
[0079]
具体地，在本发明第一实施例中误差函数设置为：cost＝∑
lcl
(∑iwi·
(epe
l,
)
p
) cost(mrc) cost(sidelobe) etc.其中，l表示第l个工艺条件，c
l
为工艺条件误差对cost的权重；i表示第i个评估点，wi为第i个评估点的权重(通常评估点的权重与该评估点在初始设计图形上的位置相关，比如处于图形拐角处或图形末端处的评估点的权重会比处于直线上的评估点的权重要低)；epe
l,i
为第i个评估点在第l个工艺条件时的边放置误差；p为指数，如2次方等。cost(mrc)是将图形中违反掩模制造规则的线段定量表示到cost里面，若cost(mrc)为0则代表这个图形满足mrc规则。cost(sidelobe)是将亚分辨辅助图形形成的轮廓表示到cost里面，可以理解，有时候在掩模优化中会加入其他亚分辨辅助图形，这些图形经过曝光出来会形成轮廓，如果形成轮廓就是sidelobe，我们不希望这类图形形成轮廓，因此通过在误差函数里加上cost(sidelobe)就是为了减少亚分辨辅助图形形成的side lobe。etc表示其他误差项。
[0080]
进一步地，其他误差项包括cost(pinch brige)，cost(pinch brige)为连续轮廓的表示或断开轮廓的表示。比如有些图形的轮廓连接起来了，但不希望图形的轮廓连接起来，或者有些图形的轮廓断了，但不希望图形的轮廓断，就加入cost(pinch brige)。可以理解，误差函数里面还可以根据实际需求加入其他有需要的误差项。
[0081]
可以理解，本发明第一实施例提供的误差函数由多项误差组成，可以通过权重系数调整每一项误差占总误差的比例，进而调整优化结果。
[0082]
可以理解，本发明第一实施例中仅示例性地说明了如何使目标优化图形中两条边之间的线间距保持掩模制造规则，而对如何使目标优化图形中的线宽、拐角之间的间距等保持掩模制造规则可采用同样的方法进行，在此不做详细说明。
[0083]
示例性地，请参阅图3，图3展示了初始设计图形10的第一边优化结果1中边与边的距离(图3所示的d1)，以及第二边优化结果2中边与边的距离(图3所示的d2)，另外，图3所示初始设计图形10的掩模制造规则要求的边与边的最小距离为0.045。其中，第一边优化结果1为无掩模制造规则边界约束的优化结果，第二边优化结果2为加入掩模制造规则边界约束的优化结果，即利用本发明第一实施例提供的掩模优化方法得到的目标优化图形。进一步地，第一边优化结果1中边与边的距离d1为0.040800，d1小于0.045，不符合掩模制造规则要求；第二边优化结果2中边与边的距离d2为0.45600，d2恰好略大于0.045，符合掩模制造规则的要求。
[0084]
示例性地，请参阅图4，图4展示了初始设计图形10的第一角优化结果3中角和角的距离(图4所示的d1)，与第二角优化结果4中角和角的距离(图4所示的d2)，并且，图4所示的初始设计图形10的掩模制造规则要求的角和角的最小距离为0.09。其中，第一角优化结果3为无掩模制造规则边界约束的优化结果，第二角优化结果4为加入掩模制造规则边界约束的优化结果，即利用本发明第一实施例提供的掩模优化方法得到的目标优化图形。进一步地，第一角优化结果3中角和角的距离d1为0.079271，d1小于0.09，不符合掩模制造规则的要求；第二角优化结果4中角和角的距离d2为0.090092，d2恰好略大于0.09，符合掩模制造规则的要求。
[0085]
因此，利用本发明第一实施例的掩模优化方法进行掩模优化，优化之后的目标优化图形既满足设计要求又符合掩模制造规则的要求，能够极大地提高掩模的生产效率以及生产质量。
[0086]
本发明第二实施例提供一种存储介质，其上存储有计算机程序，该计算机程序被处理器执行时实现本发明第一实施例提供的掩模优化方法。本发明第二实施例提供的存储介质与本发明第一实施例提供的掩模优化方法有益效果相同，在此不做赘述。
[0087]
可以理解地，根据本发明公开的实施例，上文参考流程图描述的过程可以被实现为计算机软件程序。例如，本公开的实施例包括一种计算机程序产品，其包括承载在计算机可读介质上的计算机程序，该计算机程序包含用于执行流程图所示的方法的程序代码。在这样的实施例中，该计算机程序可以通过通信部分从网络上被下载和安装，和/或从可拆卸介质被安装。在该计算机程序被中央处理单元(cpu)执行时，执行本技术的方法中限定的上述功能。需要说明的是，本技术所述的计算机可读介质可以是计算机可读信号介质或者计算机可读存储介质或者是上述两者的任意组合。计算机可读存储介质例如包括但不限于电、磁、光、电磁、红外线、或半导体的系统、装置或器件，或者任意以上的组合。计算机可读
存储介质的更具体的例子可以包括但不限于：具有一个或多个导线的电连接、便携式计算机磁盘、硬盘、随机访问存储器(ram)、只读存储器(rom)、可擦式可编程只读存储器(eprom或闪存)、光纤、便携式紧凑磁盘只读存储器(cd-rom)、光存储器件、磁存储器件、或者上述的任意合适的组合。在本技术中，计算机可读存储介质可以是任何包含或存储程序的有形介质，该程序可以被指令执行系统、装置或者器件使用或者与其结合使用。而在本技术中，计算机可读的信号介质可以包括在基带中或者作为载波一部分传播的数据信号，其中承载了计算机可读的程序代码。这种传播的数据信号可以采用多种形式，包括但不限于电磁信号、光信号或上述的任意合适的组合。计算机可读的信号介质还可以是计算机可读存储介质以外的任何计算机可读介质，该计算机可读介质可以发送、传播或者传输用于由指令执行系统、装置或者器件使用或者与其结合使用的程序。计算机可读介质上包含的程序代码可以用任何适当的介质传输，包括但不限于：无线、电线、光缆、rf等等，或者上述的任意合适的组合。
[0088]
可以以一种或多种程序设计语言或其组合来编写用于执行本技术的操作的计算机程序代码，所述程序设计语言包括面向对象的程序设计语言诸如java、smalltalk、c ，还包括常规的过程式程序设计语言诸如“c”语言或类似的程序设计语言。程序代码可以完全地在用户计算机上执行、部分地在用户计算机上执行、作为一个独立的软件包执行、部分在用户计算机上部分在远程计算机上执行、或者完全在远程计算机或服务端上执行。在涉及远程计算机的情形中，远程计算机可以通过任意种类的网络包括局域网(lan)或广域网(wan)连接到用户计算机，或者，可以连接到外部计算机(例如利用因特网服务提供商来通过因特网连接)。
[0089]
在本发明所提供的实施例中，应理解，“与a对应的b”表示b与a相关联，根据a可以确定b。但还应理解，根据a确定b并不意味着仅仅根据a确定b，还可以根据a和/或其他信息确定b。
[0090]
应理解，说明书通篇中提到的“一个实施例”或“一实施例”意味着与实施例有关的特定特征、结构或特性包括在本发明的至少一个实施例中。因此，在整个说明书各处出现的“在一个实施例中”或“在一实施例中”未必一定指相同的实施例。此外，这些特定特征、结构或特性可以以任意适合的方式结合在一个或多个实施例中。本领域技术人员也应该知悉，说明书中所描述的实施例均属于可选实施例，所涉及的动作和模块并不一定是本发明所必须的。
[0091]
在本发明的各种实施例中，应理解，上述各过程的序号的大小并不意味着执行顺序的必然先后，各过程的执行顺序应以其功能和内在逻辑确定，而不应对本发明实施例的实施过程构成任何限定。
[0092]
在本发明的附图中的流程图和框图，图示了按照本技术各种实施例的系统、方法和计算机程序产品的可能实现的体系架构、功能和操作。在这点上，流程图或框图中的每个方框可以代表一个模块、程序段、或代码的一部分，该模块、程序段、或代码的一部分包含一个或多个用于实现规定的逻辑功能的可执行指令。也应当注意，在有些作为替换的实现方案中，方框中所标注的功能也可以不同于附图中所标注的顺序发生。例如，两个接连地表示的方框实际上可以基本并行地执行，它们有时也可以按相反的顺序执行，在此基于涉及的功能而确定。需要特别注意的是，框图和/或流程图中的每个方框、以及框图和/或流程图中
的方框的组合，可以用执行规定的功能或操作的专用的基于硬件的系统来实现，或者可以用专用硬件与计算机指令的组合来实现。
[0093]
与现有技术相比，本发明的一种掩模优化方法及存储介质具有以下优点：
[0094]
1、本发明的掩模优化方法，包括以下步骤：获取初始设计图形；对初始设计图形进行边打断；基于掩模制造规则与每一条打断的边的位置获取每一条打断的边能够移动的第一距离与第二距离；对初始设计图形进行掩模优化，并将每一条打断的边能够移动的第一距离与第二距离作为优化算法的约束条件进行掩模优化得到目标优化图形。本发明通过基于模型的掩模优化，将掩模制造规则应用到掩模优化中，保证优化过程中的优化图形和目标优化图形满足掩模制造规则要求，掩模优化结束之后即可进行掩模生产，无需额外单独进行掩模制造规则检查，极大地提高了掩模生产的效率，并且保证了掩模的良品率。
[0095]
2、本发明的掩模优化方法中优化算法为l-bfgs-b算法，该算法通过借助置信区间技术和梯度投影技术来进行l-bfgs算法的hessian矩阵更新和线搜索算法的运行，并且该算法只需要用户提供目标函数及其梯度函数而不需要计算hessian矩阵，降低了计算复杂度，并提高了计算速度。
[0096]
3、本发明的掩模优化方法中利用误差函数对初始设计图形进行掩模优化，自由度高、优化效果好。
[0097]
4、本发明的掩模优化方法中误差函数由多项误差组成，用户可以根据不同的需求调整误差函数各项误差的权重，可以适应不同掩模优化需求，丰富了使用场景。
[0098]
5、本发明的掩模优化方法中第一距离为该打断的边朝第一方向移动的最大距离；第二距离为该打断的边朝与第一方向相反的第二方向移动的最大距离。可以理解，通过限制打断的边的移动距离使优化过程中的图形符合掩模制造规则，进而使目标优化图形符合掩模制造规则，有利于提高掩模的生产效率以及良品率。
[0099]
6、本发明还提供一种存储介质，其上存储有计算机程序，该计算机程序被执行时实现上述掩模优化方法，具有与上述掩模优化方法相同的有益效果，在此不做赘述。
[0100]
以上对本发明实施例公开的一种掩模优化方法及存储介质进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制，凡在本发明的原则之内所作的任何修改，等同替换和改进等均应包含本发明的保护范围之内。