静电吸盘装置的制作方法

技术特征：
1.一种静电吸盘装置，其具备：静电吸盘板，具有电介质基板和位于所述电介质基板的内部的吸附电极，所述电介质基板具有载置晶片的载置面；金属基台，从与所述载置面相反的背面侧支承所述静电吸盘板；及聚焦环，设置于所述静电吸盘板的外周部，并围绕所述载置面，其中，所述静电吸盘板在与所述载置面相同的一侧的面具有与所述聚焦环吸附的环吸附区域，并且在位于与所述载置面相反的一侧的背面具有与所述金属基台吸附的基台吸附区域。2.根据权利要求1所述的静电吸盘装置，其中，在所述静电吸盘板的所述基台吸附区域及所述金属基台的与所述基台吸附区域对置的面中的任一方或双方具有沿静电吸盘板的平面方向分布的多个突起部。3.根据权利要求2所述的静电吸盘装置，其中，所述多个突起部的分布密度在所述基台吸附区域中俯视时与所述载置面重叠的区域和俯视时与所述环吸附区域重叠的区域中彼此不同。4.根据权利要求1至3中任一项所述的静电吸盘装置，其中，所述吸附电极具有：第1电极部，位于所述电介质基板的所述载置面侧的表层部；第2电极部，位于所述电介质基板的所述金属基台侧的表层部；及连接销，在所述电介质基板的内部将所述第1电极部与所述第2电极部进行连接。5.根据权利要求4所述的静电吸盘装置，其中，所述吸附电极具有第3电极部，所述第3电极部位于比所述第1电极部更靠外周侧的位置且位于所述环吸附区域的表层部。6.根据权利要求1至5中任一项所述的静电吸盘装置，其中，所述静电吸盘板在所述载置面与所述环吸附区域之间具有高低差，所述环吸附区域的与所述聚焦环对置的面位于比所述载置面靠近所述金属基台的位置。7.根据权利要求1至6中任一项所述的静电吸盘装置，其中，所述静电吸盘板在俯视时的所述背面的中央部具有固着于所述金属基台的基台固着部，所述基台吸附区域包围所述基台固着部而配置。8.根据权利要求1所述的静电吸盘装置，其中，所述静电吸盘板为双面吸附型的静电吸盘板。9.根据权利要求2所述的静电吸盘装置，其中，在所述静电吸盘板的所述基台吸附区域及所述金属基台的与所述基台吸附区域对置的面双方具有沿静电吸盘板的平面方向分布的多个突起部。10.根据权利要求3所述的静电吸盘装置，其中，所述基台吸附区域中俯视时与所述环吸附区域重叠的区域的突起部的直径大于俯视时与所述载置面重叠的区域的突起部的突起部的直径。11.根据权利要求3所述的静电吸盘装置，其中，所述基台吸附区域中俯视时与所述环吸附区域重叠的区域的突起部的配置密度大于
俯视时与所述载置面重叠的区域的突起部的突起部的配置密度。12.根据权利要求3所述的静电吸盘装置，其中，所述基台吸附区域中俯视时与所述环吸附区域重叠的区域的突起部的直径小于俯视时与所述载置面重叠的区域的突起部的突起部的直径。13.根据权利要求3所述的静电吸盘装置，其中，所述基台吸附区域中俯视时与所述环吸附区域重叠的区域的突起部的配置密度小于俯视时与所述载置面重叠的区域的突起部的突起部的配置密度。14.根据权利要求4所述的静电吸盘装置，其中，所述第1电极部为俯视时呈半圆状的两片且整体上呈圆形状的双极型电极，所述第2电极部为俯视时呈半圆状的两片且整体上呈圆形状的双极型电极，所述第2电极部的平面面积大于所述第1电极部的平面面积，所述第1电极部俯视时与所述载置面重叠，所述第2电极部俯视时与所述载置面及所述环吸附区域重叠。15.根据权利要求4所述的静电吸盘装置，其中，所述第1电极部为圆形状的电极，所述第2电极部为圆形状的电极，所述第2电极部的平面面积大于所述第1电极部的平面面积，所述第1电极部俯视时与所述载置面重叠，所述第2电极部俯视时与所述载置面及所述环吸附区域重叠。16.根据权利要求4所述的静电吸盘装置，其中，所述静电吸盘板具有分别从所述第1电极部及所述第2电极部的下表面向下侧延伸的电极端子，所述金属基台具有经由所述电极端子向所述第1电极部供电的供电端子和经由所述电极端子向所述第2电极部供电的供电端子，所述供电端子具有圆筒状的绝缘管、在所述绝缘管内设置成能够上下移动的柱塞、对所述柱塞赋予朝上的弹力的螺旋弹簧及封闭所述绝缘管的下侧的开口并从下侧支承所述螺旋弹簧的接收板。

技术总结
一种静电吸盘装置，其具备：静电吸盘板，具有电介质基板和位于电介质基板的内部的吸附电极，该电介质基板具有载置晶片的载置面；金属基台，从与载置面相反的背面侧支承静电吸盘板；及聚焦环，设置于静电吸盘板的外周部，并围绕载置面。静电吸盘板在与载置面相同的一侧的面具有与聚焦环吸附的环吸附区域，并且在与载置面相反的一侧的背面具有与金属基台吸附的基台吸附区域。基台吸附区域。基台吸附区域。


技术研发人员：平山昌树 板垣哲朗
受保护的技术使用者：住友大阪水泥股份有限公司
技术研发日：2021.05.27
技术公布日：2022/12/30