清洁方法、基站、存储介质和清洁系统与流程

技术特征：
1.一种清洁方法，应用于基站，其特征在于，所述基站内设有容纳腔，所述容纳腔内设有将其分隔成尘腔室和水腔室的分隔件，所述分隔件可在所述尘腔室和水腔室之间移动，所述清洁方法包括：确定当前清洁模式，所述清洁模式包括集尘模式和清洗模式；根据所述当前清洁模式控制所述分隔件向所述尘腔室或所述水腔室移动。2.根据权利要求1所述的清洁方法，其特征在于，所述根据当前清洁模式控制所述分隔件向所述尘腔室或所述水腔室移动的步骤，包括：在所述当前清洁模式为集尘模式时，控制所述分隔件向所述水腔室移动。3.根据权利要求2所述的清洁方法，其特征在于，所述尘腔室用于容纳容积可变的尘容器，所述水腔室用于容纳容积可变的水容器，所述容纳腔的容积小于所述尘容器的最大容积与所述水容器的最大容积之和；在所述当前清洁模式为集尘模式时，控制所述分隔件向所述水腔室移动的步骤，包括：在当前清洁模式为集尘模式时，检测所述尘腔室中是否有尘容器；若是，则控制所述分隔件向所述水腔室移动；若否，则执行放入尘容器的第一预设提醒。4.根据权利要求2或3所述的清洁方法，其特征在于，所述控制所述分隔件向所述水腔室移动的步骤包括：控制所述分隔件向所述水腔室移动第一预设距离。5.根据权利要求4所述的清洁方法，其特征在于，所述清洁方法还包括：在集尘完成后，控制所述分隔件向所述尘腔室移动第二预设距离，所述第二预设距离大于所述第一预设距离；控制所述分隔件回到初始位置。6.根据权利要求5所述的清洁方法，其特征在于，所述尘腔室中设有第一位置检测器，在控制所述分隔件向所述尘腔室移动第二预设距离的步骤之后，所述清洁方法还包括：在所述第一位置检测器未检测到所述分隔件经过时，执行清理尘腔室的第二预设提醒。7.根据权利要求1所述的清洁方法，其特征在于，根据所述当前清洁模式控制所述分隔件向所述尘腔室或所述水腔室移动的步骤，包括：在所述当前清洁模式为清洗模式时，控制所述分隔件向所述尘腔室移动。8.根据权利要求7所述的清洁方法，其特征在于，所述尘腔室用于容纳容积可变的尘容器，所述水腔室用于容纳容积可变的水容器，所述容纳腔的容积小于所述尘容器的最大容积与所述水容器的最大容积之和；在所述确定的清洁模式为清洗模式时，控制所述分隔件向所述尘腔室移动的步骤，包括：在所述当前清洁模式为清洗模式时，检测所述水腔室中是否有水容器；若是，则控制所述分隔件向所述尘腔室移动；若否，则执行放入水容器的第三预设提醒。9.根据权利要求7或8所述的清洁方法，其特征在于，所述控制所述分隔件向所述尘腔室移动的步骤包括：控制所述分隔件向所述尘腔室移动第三预设距离。
10.根据权利要求7所述的清洁方法，其特征在于，所述容纳腔设有位于所述分隔件初始位置处的第二位置检测器，所述清洁方法还包括：在清洗完成后，控制所述分隔件回到初始位置，控制所述第二位置检测器进行检测；在所述第二位置检测器未检测到所述分隔件时，则执行清理水腔室的第四预设提醒。11.一种基站，其特征在于，所述基站内设有容纳腔，所述容纳腔内设有将其分隔成尘腔室和水腔室的分隔件，所述分隔件可在所述尘腔室和水腔室之间移动；所述基站包括存储器、处理器及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的清洁程序，所述清洁程序被所述处理器执行时实现如权利要求1至10中任一项所述的清洁方法的步骤。12.根据权利要求11所述的基站，其特征在于，所述尘腔室用于容纳容积可变的尘容器，所述水腔室用于容纳容积可变的水容器，所述容纳腔的容积小于所述尘容器的最大容积与所述水容器的最大容积之和。13.一种存储介质，其特征在于，所述存储介质上存储有清洁程序，所述清洁程序被处理器执行时实现如权利要求1至10中任一项所述的清洁方法的步骤。14.一种清洁系统，其特征在于，包括清洁设备和权利要求11或12所述的基站，所述基站清理所述清洁设备收集的灰尘，和/或，所述基站清洗所述清洁设备的清洁件。

技术总结
本发明公开一种清洁方法、基站、存储介质和清洁系统，其中，清洁方法应用于基站，基站内设有容纳腔，容纳腔内设有将其分隔成尘腔室和水腔室的分隔件，分隔件可在尘腔室和水腔室之间移动，清洁方法包括：确定当前清洁模式，清洁模式包括集尘模式和清洗模式；根据当前清洁模式控制分隔件向尘腔室或水腔室移动。本发明技术方案，减小了基站体积，减小了基站占用的室内空间。内空间。内空间。


技术研发人员：谭国伟 隋燕青
受保护的技术使用者：云鲸智能科技（东莞）有限公司
技术研发日：2022.08.04
技术公布日：2022/12/12