一种防伪膜的制作方法及防伪膜与流程

1.本发明涉及防伪技术领域，特别是涉及一种防伪膜的制作方法及防伪膜。


背景技术：

2.现有动态防伪膜的微图文没有叠加镭射效果，这是因为在微图文小尺寸制作镭射效果困难，若采用整张模具进行压印制作的话，整张模具版直接进行光刻制版难度非常大，要求条件苛刻，成本昂贵。
3.前面的叙述在于提供一般的背景信息，并不一定构成现有技术。


技术实现要素：

4.本发明的目的在于提供一种防伪膜的制作方法及防伪膜，其能低成本实现微图文叠加镭射效果。
5.本发明提供一种防伪膜的制作方法，包括：
6.s1，提供基膜，在所述基膜第一表面涂布第一树脂层，在所述第一树脂层上形成具有镭射效果的微结构，形成镭射效果微结构；
7.s2，进一步处理所述基膜第一表面，去除微图文位置以外的镭射效果微结构，保留微图文位置的镭射效果微结构。
8.进一步地，所述步骤s1中，在所述第一树脂层上形成具有镭射效果的微结构，形成镭射效果微结构包括：提供第一模具，所述第一模具上具有镭射效果的微结构；通过所述第一模具压印于所述第一树脂层上，将镭射效果的微结构复制在所述第一树脂层上；固化。
9.进一步地，所述步骤s2包括：提供第二模具，所述第二模具具有接触面以及由所述接触面凹陷形成的凹槽结构，所述凹槽结构形成微图文的图案；将所述第二模具与所述第一树脂层贴合并进行热压，与所述接触面接触的第一树脂层的镭射效果微结构被压平而消失，失去镭射效果，而与凹槽结构位置对应的第一树脂层的镭射效果微结构仍然保留。
10.进一步地，在所述步骤s2之后还包括：在所述第一树脂层上镀膜。
11.进一步地，在所述步骤s2后，还包括：s3，在所述基膜与所述第一表面相对的第二表面制备形成微透镜阵列层，所述微透镜阵列层中微透镜与所述步骤s2获得的镭射效果微结构相对应，使微图文位于微透镜的焦面附近。
12.进一步地，所述步骤s3中，所述在所述基膜与所述第一表面相对的第二表面制备形成微透镜阵列层包括：提供第三模具，第三模具上具有对应的阵列微透镜的微结构；在所述基膜第二表面涂布第二树脂层；用所述第三模具对所述第二树脂层进行压印，从而在所述基膜第二表面复制制备形成微透镜阵列层。
13.本发明还提供一种防伪膜，包括基膜以及位于所述基膜一侧表面的第一树脂层，所述第一树脂层在微图文位置具有镭射效果微图文微结构，而微图文位置以外的位置不具有镭射效果微结构。
14.进一步地，所述第一树脂层上，微图文位置以外的位置低于微图文位置。
15.进一步地，还包括位于所述基膜另一侧表面的微透镜阵列层，所述微透镜阵列层中微透镜与所述镭射效果微结构相对应，使微图文位于微透镜的焦面附近。
16.进一步地，所述微透镜阵列层是对所述基膜表面涂布的第二树脂层压印形成。
17.本发明提供的防伪膜的制作方法及防伪膜，通过先形成具有镭射效果的微结构，再对微结构进行处理，去除微图文位置以外的镭射效果微结构，保留微图文位置的镭射效果微结构，从而低成本实现了微图文叠加镭射效果，能使得微图文叠加镭射效果的动态防伪膜具有丰富的视觉效果，具有广泛应用，并且有效提高了产品的防伪力度。
附图说明
18.图1为本发明实施例防伪膜的制作方法的流程示意图。
19.图2为图1所示制作方法中微图文的平面示意图。
具体实施方式
20.下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。
21.如图1所示，本实施例中，一种防伪膜的制作方法包括如下步骤：
22.s1，提供基膜1，在基膜1第一表面涂布第一树脂层2，在第一树脂层2上形成具有镭射效果的微结构，形成镭射效果微结构；
23.s2，进一步处理基膜1第一表面，去除微图文位置(微图文位置根据产品设计要求设置)以外的镭射效果微结构，保留微图文位置的镭射效果微结构；
24.s3，在基膜1与第一表面相对的第二表面制备形成微透镜阵列层(未标示)，微透镜阵列层中微透镜8与步骤s2获得的镭射效果微结构相对应，使微图文9位于微透镜8的焦面附近。
25.在其它实施例中，也可以不包括步骤s3，其也能低成本实现微图文叠加镭射效果。但本实施例通过步骤s3形成微透镜阵列层，以利用莫尔放大原理，通过微透镜的放大作用，可目视到具有镭射效果，从而防伪效果更佳。
26.本实施例中，步骤s1中，在第一树脂层上形成具有镭射效果的微结构，形成镭射效果微结构包括：s11，提供第一模具3，第一模具3上具有镭射效果的微结构；s12，通过第一模具3压印于第一树脂层上2，将镭射效果的微结构复制在第一树脂层2上；s13，固化，剥离第一模具3，形成在第一树脂层2第一表面形成镭射效果微结构。在其它实施例中，也可以采用其它方式(如光刻)在第一树脂层上形成具有镭射效果的微结构，形成镭射效果微结构，但本实施例利用模具压印的方式操作简单，效率高，成本低。
27.本实施例中，步骤s2包括：s21，提供第二模具4，第二模具4具有接触面41以及由接触面41凹陷形成的凹槽结构42，凹槽结构42形成微图文的图案，微图文可以是微图形、微文字、微字母、微数字等，如三角形、五角星、ok、√、花纹，本实施例采用五角星图案，如图2所示；s22，将第二模具4与第一树脂层2贴合并进行热压，与接触面41接触的第一树脂层1的镭射效果微结构被压平而消失，失去镭射效果，而与凹槽结构42位置对应的第一树脂层1的镭射效果微结构仍然保留；s23，剥离第二模具，从而得到的具有镭射效果的微图文(本实施例为五角星)结构5，即微五角星位置有镭射效果，其余位置无镭射效果。在其它实施例中，也
可以采用其它方式(如化学蚀刻)来去除微图文位置以外的镭射效果微结构，保留微图文位置的镭射效果微结构，但本实施例利用模具热压的方式操作简单，效率高，成本低。
28.本实施例中，在步骤s23之后，还包括步骤s24：在第一树脂层上镀膜。镀膜可以为金属层或介质层，优选金属层，例如铝。
29.本实施例中，步骤s3中，在基膜与第一表面相对的第二表面制备形成微透镜阵列层包括：s31，提供第三模具6，第三模具6上具有对应的阵列微透镜8的微结构，在基膜1第二表面涂布第二树脂层7；s32，用第三模具6对第二树脂层7进行压印，从而在基膜1第二表面复制制备形成微透镜阵列层；s33，剥离第三模具6，形成最终产品。本实施例中，微透镜阵列层是对基膜表面涂布的第二树脂层压印形成。但微透镜阵列层的制备不限于本实施例所述方式，还可以采用其它方式，如单独形成微透镜阵列层再粘贴于基膜第二表面。但本实施例这种对基膜表面涂布的第二树脂层压印形成的方式操作简单，效率高，成本低，质量更可靠。
30.第一树脂层2和第二树脂层7可以是热固性树脂，通过加热固化，也可以是光固性树脂，通过紫外光固化。两种树脂可以相同，也可以不同。
31.本实施例中，通过上述制作方法形成的防伪膜，包括基膜以及位于基膜一侧表面的第一树脂层、微透镜阵列层。
32.第一树脂层在微图文位置具有镭射效果微图文微结构，而微图文位置以外的位置不具有镭射效果微结构。微图文位置以外的位置低于微图文位置。第一树脂层表面还设有镀膜，镀膜可以为金属层或介质层，优选金属层，例如铝。
33.微透镜阵列层中微透镜与镭射效果微结构相对应，使微图文位于微透镜的焦面附近。微透镜阵列层是对基膜表面涂布的第二树脂层压印形成。
34.与现有技术相比，本实施例提供的防伪膜的制作方法及防伪膜具有如下优点：
35.能低成本实现微图文叠加镭射效果，使得微图文叠加镭射效果的动态防伪膜具有丰富的视觉效果，能够得到广泛应用，有效提高了产品的美观性和防伪力度；
36.利用莫尔放大原理，通过微透镜的放大作用，可目视到具有镭射效果，从而防伪效果更佳；
37.加工方式操作简单，效率高，成本低。
38.在附图中，为了清晰起见，会夸大层和区域的尺寸和相对尺寸。应当理解的是，当元件例如层、区域或基板被称作“形成在”、“设置在”或“位于”另一元件上时，该元件可以直接设置在所述另一元件上，或者也可以存在中间元件。相反，当元件被称作“直接形成在”或“直接设置在”另一元件上时，不存在中间元件。
39.在本文中，用于描述元件的序列形容词“第一”、“第二”等仅仅是为了区别属性类似的元件，并不意味着这样描述的元件必须依照给定的顺序，或者时间、空间、等级或其它的限制。
40.在本文中，除非另有说明，“多个”、“若干”的含义是两个或两个以上。
41.本领域普通技术人员可以理解，实现上述方法实施例的全部或部分步骤可以通过程序指令相关的硬件来完成，前述的程序可以存储于一计算机可读取存储介质中，该程序在执行时，执行包括上述方法实施例的步骤。前述的存储介质包括：rom、ram、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的介质。
42.以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
43.在本文中，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，除了包含所列的那些要素，而且还可包含没有明确列出的其他要素。
44.以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。