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镀覆装置及基板清洗方法与流程

2022-12-09 19:42:07 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种镀覆装置,其特征在于,包括:镀覆槽,构成为收容镀覆液;基板保持器,构成为保持被镀覆面朝向下方的基板;升降机构,构成为使所述基板保持器升降;罩部件,配置于所述镀覆槽的上方,并具有包围所述基板保持器的升降路径的侧壁;开闭机构,构成为将形成于所述罩部件的所述侧壁的开口开闭;基板清洗部件,用于朝向所述基板保持器所保持的基板的被镀覆面排出清洗液;以及驱动机构,构成为使所述基板清洗部件经由所述开口在清洗位置与退避位置之间移动,所述清洗位置是所述镀覆槽与所述基板保持器之间的位置,所述退避位置是从所述镀覆槽与所述基板保持器之间退避的位置。2.根据权利要求1所述的镀覆装置,其特征在于,所述开闭机构包括:门,用于将所述开口开闭;和门驱动部件,用于使所述门朝向所述罩部件的内部旋转移动。3.根据权利要求1所述的镀覆装置,其特征在于,所述开闭机构包括:门,用于将所述开口开闭;和门驱动部件,用于使所述门沿所述罩部件的所述侧壁的周向滑动移动。4.根据权利要求1所述的镀覆装置,其特征在于,所述开闭机构包括:门,用于将所述开口开闭;和门驱动部件,用于使所述门沿所述罩部件的所述侧壁在上下方向滑动移动。5.根据权利要求1~4中的任一项所述的镀覆装置,其特征在于,所述罩部件还具有底壁,所述底壁与所述侧壁的下端连接,并覆盖所述镀覆槽的上部开口,在所述侧壁及所述底壁中的至少一方形成排气口,上述排气口与设置所述镀覆槽、所述基板保持器以及所述罩部件的镀覆模块空间的外部连通。6.一种基板清洗方法,其特征在于,包括:打开步骤,使在筒状的罩部件的侧壁的开口配置的门移动来打开所述开口,所述罩部件配置于镀覆槽的上方;第一移动步骤,经由通过所述打开步骤打开的所述开口,使基板清洗部件移动至镀覆槽与基板之间的清洗位置;基板清洗步骤,从所述基板清洗部件朝向所述基板的被镀覆面排出清洗液;第二移动步骤,在所述基板清洗步骤之后使所述基板清洗部件移动至从所述基板与所述镀覆槽之间退避的退避位置;以及关闭步骤,在所述第二移动步骤之后使所述门移动至所述罩部件的侧壁的开口来关闭所述开口。7.根据权利要求6所述的基板清洗方法,其特征在于,所述打开步骤构成为使用于将所述开口开闭的门朝向所述罩部件的内部旋转移动。8.根据权利要求6所述的基板清洗方法,其特征在于,所述打开步骤构成为使用于将所述开口开闭的门沿所述罩部件的所述侧壁的周向滑动移动。
9.根据权利要求6所述的基板清洗方法,其特征在于,所述打开步骤构成为使用于将所述开口开闭的门沿所述罩部件的所述侧壁在上下方向滑动移动。

技术总结
本发明提供用于兼具执行基板的清洗和抑制镀覆槽内的镀覆液气氛释放至镀覆模块内的技术。镀覆模块包括:镀覆槽(410),构成为收容镀覆液;基板保持器,构成为保持被镀覆面朝向下方的基板(Wf);升降机构,构成为使基板保持器升降;罩部件(460),配置于镀覆槽(410)的上方,并具有包围基板保持器的升降路径的侧壁(461);开闭机构,构成为将形成于罩部件(460)的侧壁(461)的开口(461a)开闭;基板清洗部件(472),用于朝向基板保持器所保持的基板(Wf)的被镀覆面排出清洗液;以及驱动机构(476),构成为使基板清洗部件(472)经由开口(461a)在清洗位置与退避位置之间移动,上述清洗位置是镀覆槽(410)与基板保持器之间的位置,上述退避位置是从镀覆槽(410)与基板保持器之间退避的位置。位置。位置。


技术研发人员:山本健太郎 富田正辉 辻一仁
受保护的技术使用者:株式会社荏原制作所
技术研发日:2021.11.04
技术公布日:2022/12/8
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