显示器后方的发射器的制作方法

技术特征：
1.一种光电设备，包括：显示器，包括：第一基板，所述第一基板对给定波长的光学辐射是透明的；以及第一显示单元阵列，所述第一显示单元阵列包括以第一间距置于所述第一基板上的像素电路元件，在所述像素电路元件之间具有预定义大小的间隙；发射器阵列，包括：第二基板，所述第二基板平行于所述第一基板并且靠近所述第一基板；以及第二发射器阵列，所述第二发射器阵列以不同于所述第一间距的第二间距置于所述第二基板上，并且被配置为朝向所述第一基板以所述给定波长发射光学辐射；以及控制电路，所述控制电路被配置为识别与所述像素电路元件之间的所述间隙对准的所述发射器，并且选择性地驱动所识别的发射器通过所述间隙发射所述光学辐射。2.根据权利要求1所述的光电设备，其中所述第二间距小于所述间隙的所述预定义大小。3.根据权利要求1所述的光电设备，并且所述光电设备包括所述光学辐射的多个传感器，所述多个传感器被配置为检测由所述发射器发射并且从所述像素电路元件反射的所述光学辐射，其中所述控制电路被配置为响应于由所述传感器检测到的所反射的辐射而识别所述发射器。4.根据权利要求3所述的光电设备，其中所述传感器置于所述第二基板上。5.根据权利要求3所述的光电设备，其中所述传感器被配置为检测所反射的辐射的飞行时间，并且所述控制电路被配置为响应于所检测的飞行时间而区分从所述像素电路元件反射的所述辐射。6.根据权利要求5所述的光电设备，其中所述传感器包括单光子雪崩二极管(spad)。7.根据权利要求3所述的光电设备，其中所述传感器被配置为检测所反射的辐射的强度，并且所述控制电路被配置为响应于所检测的强度而区分从所述像素电路元件反射的所述辐射。8.根据权利要求7所述的光电设备，其中所述传感器包括光电二极管。9.根据权利要求3所述的光电设备，其中所述控制电路被配置为识别使从所述像素电路元件反射的所述辐射最小的所述发射器，并且选择性地驱动所识别的发射器。10.根据权利要求9所述的光电设备，其中所述控制电路被配置为致动多组所述发射器连续发射所述光学辐射，测量由于所述多组中的每一个组而从所述显示器反射的所述辐射，并且识别所述多组所述发射器中的响应于所测量的辐射而被选择性地驱动的一组发射器。11.根据权利要求1至10中任一项所述的光电设备，其中所述发射器包括微透镜，所述微透镜被配置为将来自所述发射器中的每一个发射器的所述光学辐射聚焦以在所述第一基板处会聚成腰部。12.根据权利要求11所述的光电设备，其中所述第二基板包括第一面和第二面，其中所述发射器形成于所述第二基板的所述第一面上并且被配置为通过所述第二基板发射相应辐射束，并且其中所述微透镜分别与所述发射器对准地形成于所述第二基板的所述第二面
上。13.根据权利要求1至10中任一项所述的光电设备，其中所述发射器包括垂直腔面发射激光器(vcsel)。14.一种用于显示的方法，包括：提供显示器，所述显示器包括：第一基板，所述第一基板对给定波长的光学辐射是透明的；以及第一显示单元阵列，所述第一显示单元阵列包括以第一间距置于所述第一基板上的像素电路元件，在所述像素电路元件之间具有预定义大小的间隙；放置发射器阵列，所述发射器阵列包括：第二基板；以及第二发射器阵列，所述第二发射器阵列以不同于所述第一间距的第二间距置于所述第二基板上，并且被配置为以所述给定波长发射光学辐射，使得所述第二基板平行于所述第一基板并且靠近所述第一基板，并且所述发射器朝向所述第一基板发射所述光学辐射；识别与所述像素电路元件之间的所述间隙对准的所述发射器；以及选择性地驱动所识别的发射器通过所述间隙发射所述光学辐射。15.根据权利要求14所述的方法，其中所述第二间距小于所述间隙的所述预定义大小。16.根据权利要求14所述的方法，其中识别所述发射器包括检测由所述发射器发射并且从所述像素电路元件反射的所述光学辐射，以及响应于所反射的辐射而识别所述发射器。17.根据权利要求16所述的方法，其中检测所述光学辐射包括检测所反射的辐射的飞行时间，以及响应于所检测的飞行时间而区分从所述像素电路元件反射的所述辐射。18.根据权利要求16所述的方法，其中检测所述光学辐射包括检测所反射的辐射的强度，以及响应于所检测的强度而区分从所述像素电路元件反射的所述辐射。19.根据权利要求16所述的方法，其中检测所述光学辐射包括识别使从所述像素电路元件反射的所述辐射最小的所述发射器。20.根据权利要求14至19中任一项所述的方法，其中所述发射器包括微透镜，所述微透镜被配置为将来自所述发射器中的每一个发射器的所述光学辐射聚焦以在所述第一基板处会聚成腰部。

技术总结
一种光电设备(20)，包括：显示器(22)，显示器包括：第一基板(45)，第一基板对给定波长的光学辐射是透明的；以及第一显示单元阵列(30)，第一显示单元阵列包括以第一间距置于第一基板上的像素电路元件(32,34,38)，在像素电路元件之间具有预定义大小的间隙(36)。一种发射器阵列(40)包括：第二基板(51)，第二基板平行于第一基板并且靠近第一基板；以及第二发射器阵列(42)，第二发射器阵列以不同于第一间距的第二间距置于第二基板上，并且被配置为朝向第一基板发射给定波长的光学辐射。控制电路(50)被配置为识别与像素电路元件之间的间隙对准的发射器，并且选择性地驱动所识别的发射器通过间隙发射光学辐射。器通过间隙发射光学辐射。器通过间隙发射光学辐射。


技术研发人员：A
受保护的技术使用者：苹果公司
技术研发日：2021.03.29
技术公布日：2022/11/25