晶圆表面镀膜设备的制作方法

1.本实用新型涉及晶圆表面镀膜技术领域，具体涉及晶圆表面镀膜设备。


背景技术：

2.晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片，由于其形状为圆形，故称为晶圆；在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构，而成为有特定电性功能之ic产品，晶圆的原始材料是硅，而地壳表面有用之不竭的二氧化硅。
3.现有的在对晶圆进行镀膜时，需要将晶圆移动至镀膜箱内部，然而在移动晶圆时可能或导致其表面沾染一些灰尘以及杂质，这样就会导致在镀膜时，其表面的膜不平整，从导致镀膜失败，降低了镀膜的效率。


技术实现要素：

4.为此，本实用新型提供晶圆表面镀膜设备，通过增加镀膜箱以及各组件的配合，以解决在对晶圆进行镀膜之前其表面会沾染一些灰尘以及杂质，影响了镀膜的平整的问题。
5.为了实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：晶圆表面镀膜设备，包括镀膜箱，所述镀膜箱内部设有动力机构，所述动力机构延伸至镀膜箱外部；
6.所述动力机构包括电机一，所述电机固定设于镀膜箱底部，所述电机一输出端固定连接有转杆，所述转杆顶部贯穿镀膜箱底部并与镀膜箱通过轴承连接，所述转杆顶部固定连接有齿轮，所述镀膜箱内部设有衔接板，所述衔接板设于齿轮顶部，所述衔接板内部开设有空腔一，所述空腔一内部设有螺纹杆，所述螺纹杆一侧贯穿空腔一一侧并与衔接板通过轴承连接，所述螺纹杆外部设有两个滑动块，两个所述滑动块与螺纹杆通过螺纹连接，两个所述滑动块螺纹方向相反，所述衔接板顶部设有两个固定组件，所述镀膜箱底部内壁开设有圆槽，所述圆槽内部嵌设有两个支撑块，两个所述支撑块顶部与衔接板底部固定连接，两个所述支撑块之间设有圆板，所述圆板两侧分别与两个支撑块一侧固定连接，所述圆板内壁固定连接有圆形齿条，所述齿轮与圆形齿条相啮合，所述镀膜箱顶部开设有空腔二，所述空腔二内部设有两个清理组件，两个所述清理组件延伸至空腔外部，两个所述清理组件分别设于衔接板前侧与后侧，所述镀膜箱顶部固定设有电机二。
7.优选的，所述镀膜箱一侧设有真空泵，所述真空泵一端固定连接有进气管，所述进气管延伸至镀膜箱内部，所述镀膜箱一侧固定连接有放置板，所述真空泵底部与放置板顶部相接触。
8.优选的，所述固定组件包括滑槽，所述滑槽开设于衔接板顶部，所述滑槽内部嵌设有滑块，所述滑块顶部固定连接有固定板，所述固定板一侧开设有固定槽，所述螺纹杆一侧固定连接有旋钮。
9.优选的，所述滑槽内部设有弹簧，所述弹簧一侧与滑块一侧固定连接，所述弹簧另一侧与滑槽一侧内壁固定连接，所述滑槽底部开设有贯通槽，所述滑块底部固定连接有连接块，所述连接块底部贯穿贯通槽顶部并与滑动块顶部固定连接。
10.优选的，所述镀膜箱两侧内壁均固定连接有两个离子镀弧源。
11.优选的，所述清理组件包括往复丝杆，所述往复丝杆设于空腔内部，所述往复丝杆底部贯穿空腔底部并延伸至镀膜箱内部，所述往复丝杆与镀膜箱通过轴承连接，两个所述往复丝杆外部均固定套设有皮带轮。
12.优选的，两个所述皮带轮外部均套设有皮带一，两个所述皮带轮通过皮带一驱动连接，其中一个往复丝杆顶部与电机二输出端固定连接，所述往复丝杆外部设有移动块。
13.优选的，所述移动块与往复丝杆通过滚珠螺母副连接，所述移动块前侧固定连接有连接板，所述连接板前侧固定连接有清理刷。
14.优选的，所述移动块后侧固定设有限位杆，所述限位杆外部套设有限位块，所述限位块前侧与移动块后侧固定连接，所述限位杆外部固定套设有两个挡块，两个所述挡块分别设于限位块顶部和底部。
15.优选的，所述电机二外部固定设有保护罩，所述保护罩底部与镀膜箱顶部固定连接，所述保护罩顶部嵌设有散热网，所述镀膜箱底部两侧均固定连接有支架。
16.本实用新型的有益效果是：
17.本实用新型通过增加固定组件以及清理组件，固定组件的设置可以很好对晶圆进行固定夹持，同时在圆形齿条与齿轮的作用下，可以通过衔接板使其转动，从而可以使晶圆被均匀的镀膜，同时清理组件的设置可以在晶圆镀膜之前对晶圆表面进行清理，避免了会由于其表面的灰尘以及杂质会影响镀膜的平整性，增加了镀膜的效率。
附图说明
18.为了更清楚地说明本实用新型的实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是示例性的，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图引申获得其他的实施附图。
19.本说明书所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本实用新型可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本实用新型所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本实用新型所揭示的技术内容的能涵盖的范围内
20.图1为本实用新型提供的整体结构示意图；
21.图2为本实用新型提供的主视剖视图；
22.图3为本实用新型提供的俯视剖视图；
23.图4为本实用新型提供的侧视剖视图；
24.图5为本实用新型提供的图2中的a处放大图；
25.图中：1镀膜箱、2电机一、3转杆、4齿轮、5衔接板、6空腔一、7螺纹杆、8滑动块、9圆槽、10支撑块、11圆板、12圆形齿条、13空腔二、14电机二、15真空泵、16固定板、17滑块、18弹簧、19离子镀弧源、20往复丝杆、21皮带轮、22皮带一、23移动块、24清理刷、25限位杆、26挡块、27保护罩、28支架。
具体实施方式
26.以下结合附图对本实用新型的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
27.参照附图1-5，本实用新型提供的晶圆表面镀膜设备，包括镀膜箱1，镀膜箱1内部设有动力机构，动力机构延伸至镀膜箱1外部；
28.动力机构包括电机一2，电机固定设于镀膜箱1底部，电机一2输出端固定连接有转杆3，转杆3顶部贯穿镀膜箱1底部并与镀膜箱1通过轴承连接，转杆3顶部固定连接有齿轮4，镀膜箱1内部设有衔接板5，衔接板5设于齿轮4顶部，衔接板5内部开设有空腔一6，空腔一6内部设有螺纹杆7，螺纹杆7一侧贯穿空腔一6一侧并与衔接板5通过轴承连接，螺纹杆7外部设有两个滑动块8，两个滑动块8与螺纹杆7通过螺纹连接，两个滑动块8螺纹方向相反，衔接板5顶部设有两个固定组件，镀膜箱1底部内壁开设有圆槽9，圆槽9内部嵌设有两个支撑块10，两个支撑块10顶部与衔接板5底部固定连接，两个支撑块10之间设有圆板11，圆板11两侧分别与两个支撑块10一侧固定连接，圆板11内壁固定连接有圆形齿条12，齿轮4与圆形齿条12相啮合，镀膜箱1顶部开设有空腔二13，空腔二13内部设有两个清理组件，两个清理组件延伸至空腔外部，两个清理组件分别设于衔接板5前侧与后侧，镀膜箱1顶部固定设有电机二14；
29.本实施方案中，固定组件的设置可以很好对晶圆进行固定夹持，清理组件的设置可以在对晶圆镀膜之前对其表面进行清理，当需要对晶圆进行镀膜时，转动旋钮，旋钮转动带动螺纹杆7转动，螺纹杆7转动时使得滑动块8移动；
30.其中，为了实现可以对晶圆进行固定的目的，本装置采用如下技术方案实现的：镀膜箱1一侧设有真空泵15，真空泵15一端固定连接有进气管，进气管延伸至镀膜箱1内部，镀膜箱1一侧固定连接有放置板，真空泵15底部与放置板顶部相接触，固定组件包括滑槽，滑槽开设于衔接板5顶部，滑槽内部嵌设有滑块17，滑块17顶部固定连接有固定板16，固定板16一侧开设有固定槽，螺纹杆7一侧固定连接有旋钮，滑槽内部设有弹簧18，弹簧18一侧与滑块17一侧固定连接，弹簧18另一侧与滑槽一侧内壁固定连接，滑槽底部开设有贯通槽，滑块17底部固定连接有连接块，连接块底部贯穿贯通槽顶部并与滑动块8顶部固定连接，滑动块8移动通过连接块使得滑块17移动，滑块17移动时会带动固定板16移动，这样可以更具晶圆的大小去调节固定板16的位置，同时弹簧18会对滑块17产生压力，使其可以牢固的对晶圆进行固定；
31.其中，为了实现可以对晶圆表面进行镀膜的目的，本装置采用如下技术方案实现的：镀膜箱1两侧内壁均固定连接有两个离子镀弧源19；
32.其中，为了实现的目的，本装置采用如下技术方案实现的：清理组件包括往复丝杆20，往复丝杆20设于空腔内部，往复丝杆20底部贯穿空腔底部并延伸至镀膜箱1内部，往复丝杆20与镀膜箱1通过轴承连接，两个往复丝杆20外部均固定套设有皮带轮21，两个皮带轮21外部均套设有皮带一22，两个皮带轮21通过皮带一22驱动连接，其中一个往复丝杆20顶部与电机二14输出端固定连接，往复丝杆20外部设有移动块23，移动块23与往复丝杆20通过滚珠螺母副连接，移动块23前侧固定连接有连接板，连接板前侧固定连接有清理刷24，移动块23后侧固定设有限位杆25，限位杆25外部套设有限位块，限位块前侧与移动块23后侧固定连接，限位杆25外部固定套设有两个挡块26，两个挡块26分别设于限位块顶部和底部，
启动电机二14，电机二14输出端转动带动其中一个往复丝杆20转动，并通过皮带轮21以及皮带一22的作用使得另一个往复丝杆20转动，这样就可以同时对晶圆的两面进行清理，往复丝杆20转动时会使得移动块23进行上下的往复运动，移动块23移动时通过连接板使得清理刷24移动，清理刷24移动可以对晶圆两面进行清理；
33.其中，为了实现可以很好地对电机二14进行保护的目的，本装置采用如下技术方案实现的：电机二14外部固定设有保护罩27，保护罩27底部与镀膜箱1顶部固定连接，保护罩27顶部嵌设有散热网，镀膜箱1底部两侧均固定连接有支架28。
34.本实用新型的使用过程如下：在使用本实用新型时，当需要对晶圆进行镀膜时，转动旋钮，旋钮转动带动螺纹杆7转动，螺纹杆7转动时使得滑动块8移动，滑动块8移动通过连接块使得滑块17移动，滑块17移动时会带动固定板16移动，这样可以更具晶圆的大小去调节固定板16的位置，同时弹簧18会对滑块17产生压力，使其可以牢固的对晶圆进行固定，启动电机二14，电机二14输出端转动带动其中一个往复丝杆20转动，并通过皮带轮21以及皮带一22的作用使得另一个往复丝杆20转动，这样就可以同时对晶圆的两面进行清理，往复丝杆20转动时会使得移动块23进行上下的往复运动，移动块23移动时通过连接板使得清理刷24移动，清理刷24移动可以对晶圆两面进行清理，清理完成之后，启动真空泵15，对镀膜箱1进行真空处理，在真空完成之后，启动离子镀弧源19，并启动电机一2，电机一2输出端转动带动转杆3转动，转杆3转动时通过齿轮4使得圆形齿条12转动，并通过圆板11带动支撑块10移动，支撑块10移动带动衔接板5转动，衔接板5转动通过滑块17使得固定板16转动，从而可以带动晶圆进行转动，这样可以使其可以均匀的被镀膜。
35.以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例，任何熟悉本领域的技术人员均可能利用上述阐述的技术方案对本实用新型加以修改或将其修改为等同的技术方案。因此，依据本实用新型的技术方案所进行的任何简单修改或等同置换，尽属于本实用新型要求保护的范围。