上釉机器的制作方法

技术特征：
1.一种用于在陶瓷制品(t)上施加水基材料的上釉机器(1)；所述上釉机器(1)包括：支撑结构(2)，其限定至少一个上釉腔室(3)；输送机(4)，其在输送方向(a)上沿着输送路径(p)输送多个陶瓷制品(t)穿过所述上釉腔室(3)；多个喷嘴(7)，每个喷嘴被设置和配置为将在压力下的所述水基材料的射流(g)释放到所述上釉腔室(3)中；以及移动组件(9)，其被配置为使所述多个喷嘴(7)中的每个喷嘴(7)沿着相应的移动路径(m1、m2)移动，并且包括多个线性引导件(10)和多个滑架(11)，所述多个线性引导件(10)在所述输送机(4)上方横向于所述输送方向(a)延伸，每个滑架(11)被配置为承载所述多个喷嘴(7)中的至少一个相关的喷嘴(7)，以滑动的方式耦合至所述多个线性引导件(10)中的相关的线性引导件(10)，并且能够被操作为沿着相关的线性引导件(10)平移以便使相应的喷嘴(7)沿着相应的移动路径(m1、m2)移动；其特征在于，所述多个线性引导件(10)中的至少一个线性引导件(10)包括：平行的一对导轨(13)，它们横向于所述输送方向(a)延伸；第一滑架(11’)和第二滑架(11”)，所述第一滑架(11’)以滑动的方式耦合至所述一对导轨(13)中的第一导轨(13’)，所述第二滑架(11”)以滑动的方式耦合至所述一对导轨(13)中的第二导轨(13”)；操作马达(12)；以及传动组件(14)，用于将运动从所述操作马达(12)传递到所述第一滑架(11’)和所述第二滑架(11”)，以引起所述第一滑架(11’)和所述第二滑架(11”)分别沿着所述第一导轨(13’)和所述第二导轨(13”)在相反的方向上根据直线往复运动移动，以便使相关的喷嘴(7)分别沿着第一移动路径(m1)和第二移动路径(m2)移动；所述第一移动路径(m1)和所述第二移动路径(m2)基本上彼此平行且彼此相对并且相对于彼此反相。2.根据权利要求1所述的上釉机器(1)，其中：所述至少一个线性引导件的所述操作马达被配置为引起所述第二滑架(11”)从所述线性引导件(10)的第一侧端部(e1)到所述线性引导件(10)的与所述第一侧端部(e1)相对的第二侧端部(e2)根据所述直线往复运动以第二平移速度(v2)移动，并且反之亦然；并且所述传动组件(14)被配置为将所述第一滑架(11’)拖曳成所述第一滑架(11’)从所述线性引导件(10)的所述第二侧端部(e2)到所述第一侧端部(e1)根据直线往复运动以第一平移速度(v1)移动，并且反之亦然，所述第一平移速度(v1)等于所述第二平移速度(v2)并且与所述第二平移速度(v2)相反。3.根据权利要求1或2所述的上釉机器(1)，其中：所述传动组件(14)包括铰接接头(15)(特别地，由所述铰接接头(15)组成)，所述铰接接头(15)可操作地插入在所述操作马达(12)与所述第一滑架(11’)和所述第二滑架(11”)之间。4.根据权利要求1或2所述的上釉机器(1)，其中：所述传动组件(14)包括皮带和滑轮传动装置(16)(特别地，由所述皮带和滑轮传动装置(16)组成)，所述皮带和滑轮传动装置(16)可操作地插入在所述操作马达(12)与所述第一滑架(11’)和所述第二滑架(11”)之间。5.根据权利要求4所述的上釉机器(1)，其中，所述操作马达(12)具有能围绕第一轴线(z1)旋转的驱动轴，并且所述皮带和滑轮传动装置(16)包括：第一驱动轮(17)，该第一驱动轮花键连接至所述驱动轴并且被配置为操作所述第二滑架(11”)的平移；第二驱动轮(18)，
该第二驱动轮能围绕平行于所述第一轴线(z1)的第二轴线(z2)旋转，并且被配置为将所述第一滑架(11’)拖曳成所述第一滑架(11’)平移；皮带(19)，该皮带装配在所述第一驱动轮(17)和所述第二驱动轮(18)之间，以便将运动从所述第一驱动轮(17)传递到所述第二驱动轮(18)；以及偏转元件(20)，该偏转元件使所述驱动皮带(19)偏转，使得所述第一滑架(11’)被操作为根据具有与所述第二滑架(11”)的直线往复运动相反的方向的直线往复运动。6.根据权利要求1所述的上釉机器(1)，其中，所述上釉腔室(3)设置有输出开口(8)和输入开口；所述输出开口(8)和所述输入开口中的至少一个开口具有直线上边缘(21)；并且所述上釉机器(1)还包括在所述输出开口(8)和所述输入开口中的所述至少一个开口处的清洁组件(22)，用于清除所述直线上边缘(21)上的可能的过量水基材料；所述清洁组件(22)包括被配置为去除所述过量水基材料的相应的清洁装置(23)和被配置为控制所述清洁装置(23)的操作的控制单元(cu)。7.一种用于在陶瓷制品(t)上施加水基材料的上釉机器(1)；所述上釉机器(1)包括：支撑结构(2)，其限定至少一个设置有输入开口和输出开口(8)的上釉腔室(3)；输送机(4)，其在输送方向(a)上沿着输送路径(p)输送多个陶瓷制品(t)穿过所述上釉腔室(3)；多个喷嘴(7)，每个喷嘴被设置和配置为将在压力下的所述水基材料的射流(g)释放到所述上釉腔室(3)中；以及移动组件(9)，其被配置为使所述多个喷嘴(7)中的每个喷嘴(7)沿着相应的移动路径(m1、m2)移动，并且包括多个线性引导件(10)和多个滑架(11)，所述多个线性引导件(10)在所述输送机(4)上方横向于所述输送方向(a)延伸，每个滑架(11)被配置为承载所述多个喷嘴(7)中的至少一个相关的喷嘴(7)，以滑动的方式耦合至所述多个线性引导件(10)中的相关的线性引导件(10)，并且能够被操作为沿着相关的线性引导件(10)平移以便使相应的喷嘴(7)沿着相应的移动路径(m1、m2)移动；其特征在于，所述上釉腔室(3)的所述输入开口和所述输出开口(8)中的至少一个开口具有直线上边缘(21)，并且所述上釉机器(1)包括清洁组件(22)，所述清洁组件(22)设置在所述输入开口和所述输出开口(8)中的所述至少一个开口处，并且被配置为清除所述直线上边缘(21)上的可能的过量水基材料；所述清洁组件(22)包括被配置为去除所述过量水基材料的清洁装置(23)和被配置为控制所述清洁装置(23)的操作的控制单元(cu)。8.根据权利要求7所述的上釉机器(1)，其中，所述清洁装置(23)能被操作为沿着平行于所述上边缘(21)的清洁路径(c)根据直线往复运动进行移动；特别地，所述清洁组件(22)包括使所述清洁装置(23)沿着所述清洁路径(c)移动的气动线性移动系统(24)。9.根据权利要求7或8所述的上釉机器(1)，其中，所述清洁装置(23)包括分配装置(特别地，由所述分配装置组成)，所述分配装置被配置为朝向所述上边缘(21)分配高压清洁流体的至少一个射流；特别地，所述清洁装置(23)被配置为在其沿着所述清洁路径(c)移动时分配高压清洁流体的所述射流。
10.根据权利要求9所述的上釉机器(1)，其包括设置在所述上釉腔室(3)下方的水基材料收集罐；所述清洁组件(22)包括与所述收集罐流体连接的排放通道(25)，并且所述清洁装置(23)被配置为收集沿着所述上边缘(21)存在的所述过量水基材料并将其朝向所述排放通道(25)输送。11.根据权利要求9所述的上釉机器(1)，其中，所述清洁流体包括(特别地，是)在压力下的空气。12.根据权利要求9所述的上釉机器(1)，其中，所述清洁流体包括在压力下的水。13.根据权利要求7或8所述的上釉机器(1)，其中，所述清洁装置包括(特别地，是)抽吸装置，所述抽吸装置被配置为从所述上边缘(21)抽吸所述过量水基材料。14.根据权利要求7所述的上釉机器(1)，其包括在所述上边缘(21)处的以相对于水平面成从约15
°
到约45
°
范围的角度倾斜的板(26)。15.根据权利要求7所述的上釉机器(1)，其包括检测系统，用于检测沿着所述给定路径(p)移动的所述多个陶瓷制品(t)中的陶瓷制品(t)在所述输出开口(8)和所述输入开口中的所述至少一个开口处的存在，并且向所述控制单元(cu)发送警告信号；所述控制单元(cu)被配置为在从接收到所述警告信号起的固定的时间量之后操作所述至少一个清洁组件(22)的所述清洁装置(23)。16.根据权利要求7所述的上釉机器(1)，其中，所述多个线性引导件(10)中的至少一个线性引导件(10)包括：平行的一对导轨(13)，它们横向于所述输送方向(a)延伸；第一滑架(11’)和第二滑架(11”)，所述第一滑架(11’)以滑动的方式耦合至所述一对导轨(13)中的第一导轨(13’)，所述第二滑架(11”)以滑动的方式耦合至所述一对导轨(13)中的第二导轨(13”)；操作马达(12)；以及传动组件(14)，用于将运动从所述操作马达(12)传递到所述第一滑架(11’)和所述第二滑架(11”)，以引起所述第一滑架(11’)和所述第二滑架(11”)分别沿着所述第一导轨(13’)和所述第二导轨(13”)在相反的方向上根据直线往复运动移动，以便使相关的喷嘴(7)分别沿着第一移动路径(m1)和第二移动路径(m2)移动；所述第一移动路径(m1)和所述第二移动路径(m2)基本上彼此平行且彼此相对并且相对于彼此反相。17.根据权利要求7所述的上釉机器(1)，其中，所述移动组件(9)包括多个操作马达(12)，每个操作马达被配置为引起所述多个滑架(11)中的至少一个滑架(11)沿着相应的线性引导件(10)移动；并且所述上釉机器(1)包括控制组件(100)，所述控制组件(100)被配置为将所述多个操作马达(12)中的每个操作马达(12)独立于其他操作马达(12)控制，使得所述多个喷嘴(7)中的喷嘴(7)的移动路径(m1、m2)相对于彼此处于给定的相位关系。

技术总结
本发明提供一种用于在陶瓷制品(T)上施加水基材料的上釉机器(1)，其包括：上釉腔室(3)；输送机(4)，用于输送多个陶瓷制品(T)穿过上釉腔室(3)；多个喷嘴(7)，用于将在压力下的水基材料释放到上釉腔室(3)中；以及移动组件(9)，该移动组件被配置为使喷嘴(7)沿着相应的移动路径(M1、M2)移动并且包括多个线性引导件(10)和多个滑架(11)，所述线性引导件(10)在所述输送机(4)上方横向于输送方向(A)延伸，每个滑架(11)适于承载喷嘴(7)并且以滑动的方式耦合至至少一个线性引导件(10)。至少一个线性引导件(10)。至少一个线性引导件(10)。


技术研发人员：皮耶鲁戈
受保护的技术使用者：萨克米科技股份公司
技术研发日：2022.08.29
技术公布日：2022/11/18