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一种便携式多通道被动毫米波辐射探测仪系统

2022-11-19 06:39:35 来源:中国专利 TAG:


1.本发明属于毫米波探测的技术领域,更具体地,涉及一种便携式多通道被动毫米波辐射探测仪系统。


背景技术:

2.毫米波是指波长在1mm-10mm之间的电磁波,被动毫米波成像系统通过被动检测来自目标场景天然存在的热辐射能量来形成图像。
3.目前,在被动毫米波探测领域,焦平面成像系统被广泛使用。焦平面成像系统由聚焦天线与馈源天线组成。传统被动焦平面成像系统的聚焦天线多采用反射面天线,反射面天线的口径和尺寸往往很大,且存在馈源遮挡效应。馈源天线多采用喇叭天线,尺寸较大,在阵列排布的设计时存在制约,且加工周期长,成本高,难以广泛推广。焦平面阵列的排布方式单一,影响焦平面成像系统的覆盖视场,成像速度慢。
4.传统的焦平面成像系统存在一些问题,例如,系统尺寸过大,需要借助转台等机械设备无法手持操作,通道数少导致成像速度慢,成像分辨率低,系统加工成本高。


技术实现要素:

5.针对相关技术的缺陷,本发明的目的在于提供一种便携式多通道被动毫米波辐射探测仪系统,旨在解决聚焦天线与馈源天线尺寸较大,阵列排布的设计时存在制约,导致的成像系统的尺寸较大,无法便携使用,成像速度慢,成像分辨率低和成本较高的问题。
6.为实现上述目的,本发明提供了一种便携式被动毫米波辐射探测仪系统,包括:金属外壳;
7.固定设置于所述金属外壳的一端的聚焦透镜天线,所述聚焦透镜天线采用超表面透镜天线;
8.所述金属外壳内部设置有与所述聚焦透镜天线相对设置的馈源天线,所述馈源天线与辐射计接收机连接,所述馈源天线采用两侧加载超材料单元的共轭直线渐变缝隙天线,在焦平面上以二维n
×
n方式排布,n≥2;待测目标场景辐射的电磁波通过所述聚焦透镜天线汇聚到所述馈源天线被接收,并传输至所述辐射计接收机;
9.所述辐射计接收机输出的电压数据经过处理模块处理后生成目标场景图像,并进行显示。
10.可选的,所述超表面透镜天线由三种不同的超表面单元组合,三种超表面单元的金属层结构不同;所述超表面单元的口面场为方形,三种超表面单元均包含间隔设置的m 1层金属层和m层介质基板,每层金属层中心位置设置金属内圆。
11.有益效果:超表面透镜具有重量轻、体积小、损耗低,聚焦效果好等特点,有利于设备便携式使用。
12.可选的,通过改变所述超表面单元的金属层的金属内圆半径对透射的电磁波进行相位与幅度调控。
13.可选的,所述超表面透镜天线的相位采用n bit离散化设计,将360
°
相位等分为2n个离散相位值,根据公式相位值,根据公式计算得到每个位置所需的相位值;其中,透镜中心位置坐标为(0,0),(x,y)为超表面透镜中的单元位置坐标,λ0为自由空间中的波长,f为超表面透镜的焦距,为超表面透镜中心单元的参考相位;
14.选取每个离散相位值对应的三种超表面单元中透射率最高的超表面单元作为此离散相位值对应的目标超表面单元;根据每个目标位置计算的相位值,与2n个离散相位值对比,选取最接近的离散相位值所对应的目标超表面单元设置在该目标位置,形成超表面透镜天线。
15.有益效果:超表面单元结构可通过改变金属内圆半径实现对透射的电磁波进行相位与幅度调控,均具有满足宽频带特性、极化不敏感与入射角不敏感特性,且可以实现360
°
的相位响应特性。
16.可选的,所述超材料单元包括三层结构,依次为介质基板及镀于介质基板两侧的第一金属层和第二金属层。
17.有益效果:加载超材料单元的共轭直线渐变缝隙天线具有高增益、低旁瓣电平、低回波损耗、低成本、易于加工、重量轻、尺寸紧凑、波束宽度窄和工作频段相对较宽等优点。
18.可选的,所述第一金属层包含两个开口方向相反的金属方环,所述第二金属层为长条形结构,所述两个金属方环组成“回”字型结构;所述第一金属层和所述第二金属层均镀铜。
19.可选的,所述共轭直线渐变缝隙天线的辐射臂上设置两排金属化通孔,并在所述辐射臂的上方蚀刻周期性的矩形缝隙。
20.有益效果:增加两排金属化通孔,使siw(substrate integrated waveguide,基片集成波导)的金属化通孔向天线辐射单元进一步延伸;周期性矩形缝隙使口面场分布更加均匀。
21.可选的,所述馈源天线横向依次紧贴排布,所述馈源天线纵向相邻天线之间的距离为15mm。
22.有益效果:馈源天线阵列排布紧凑,覆盖视场大,空区小,阵列数量多,扫描时可以更快的获取目标场景的辐射信息。
23.可选的,所述辐射计接收机与所述馈源天线对应设置,所述辐射计接收机与所述馈源天线一一对应连接;
24.所述辐射计接收机采用直接检波式接收机。
25.有益效果:多通道获取目标场景的辐射信息;采用直接检波式结构,无需本振和混频器,大大减小体积和成本。
26.可选的,所述处理模块包括:与所述辐射计接收机连接的数据采集与信号调理模块,所述数据采集与信号调理模块连接图像处理模块和主控模块,所述主控模块还连接所述图像处理模块、显示模块和数据存储模块;所述数据采集与信号调理模块和所述图像处理模块用于对所述辐射计接收机接收的数据进行处理,并生成目标场景图像数据;所述显示模块用于显示所述目标场景图像,所述主控模块用于对各个模块进行调控;
27.所述金属外壳内部还设置电源模块连接各模块,用于为各模块供电;
28.所述金属外壳上还设置有手持手柄、按键和角度传感器,所述按键及角度传感器均与所述主控模块连接;
29.所述角度传感器,用于记录所述辐射计接收机输出电压与探测仪姿态的对应关系,通过所述主控模块传输至所述图像处理模块,对得到的数据进行修正;
30.所述主控模块采用微处理器,所述主控模块用于根据所述按键的操作控制各模块。
31.有益效果:微型控制器减小仪器的体积;接收机具有档位调控功能,可以进行宽范围辐射亮温的探测;利用角度传感器对扫描图像进行修正,提高图像质量。
32.总体而言,通过本发明所构思的以上技术方案,能够取得以下有益效果:
33.本发明的技术方案提出一种便携式多通道被动毫米波辐射探测仪系统,聚焦透镜天线采用超表面透镜天线,馈源天线采用两侧加载超材料单元的共轭直线渐变缝隙天线,超表面透镜具有重量轻、体积小、聚焦效果好的优点,加载超材料单元的共轭直线渐变缝隙天线具有高增益、低旁瓣电平、重量轻、尺寸紧凑等优点,有效的降低了成像系统的尺寸,降低了制造成本,使得探测仪系统可以便携使用;馈源天线在焦平面上以二维n
×
n方式排布,n≥2,阵列排布紧凑,覆盖视场大,耦合影响较低,成像分辨率较高,提高了成像速度和成像质量。
附图说明
34.图1是本发明实施例提供的一种便携式多通道被动毫米波辐射探测仪系统的结构示意图;
35.图2是本发明实施例提供的一种便携式多通道被动毫米波辐射探测仪系统的超表面透镜的俯视图示意图;
36.图3是本发明实施例提供的用于超表面透镜天线的第一种超表面单元结构示意图;
37.图4是本发明实施例提供的用于超表面透镜天线的第二种超表面单元结构示意图;
38.图5是本发明实施例提供的用于超表面透镜天线的第三种超表面单元结构示意图;
39.图6a是本发明实施例提供的一种便携式多通道被动毫米波辐射探测仪系统的馈源天线的结构示意图;
40.图6b是本发明实施例提供的用于馈源天线的超材料单元结构示意图
41.图6c是本发明实施例提供的另一种馈源天线的结构示意图;
42.图7是本发明实施例提供的馈源天线的排布示意图。
具体实施方式
43.为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。此外,下面所描述的本发明各个实施方式中所涉及到的技术特征只要
彼此之间未构成冲突就可以相互组合。
44.下面结合一个优选实施例,对上述实施例中涉及的内容进行说明。
45.如图1所示,一种便携式被动毫米波辐射探测仪系统,包括:金属外壳1和固定在金属外壳1上的手持手柄2;设置在金属外壳1内部的聚焦透镜天线3、馈源天线4、辐射计接收机5、数据采集与信号调理模块6、图像处理模块7、主控模块8、显示模块9、数据存储模块10和电源模块11;
46.聚焦透镜天线3固定设置于金属外壳1的一端,聚焦透镜天线3采用超表面透镜天线;
47.金属外壳1内部设置有与聚焦透镜天线3相对设置的馈源天线4,馈源天线4与辐射计接收机5连接,馈源天线4采用加载超材料单元的共轭直线渐变缝隙天线,在焦平面上以二维n
×
n方式排布,n≥2;待测目标场景辐射的电磁波通过聚焦透镜天线3汇聚到馈源天线4被接收,并传输至辐射计接收机5;
48.辐射计接收机5输出的电压数据经过处理模块处理后生成目标场景图像,并进行显示。
49.其中,处理模块包括:数据采集与信号调理模块6、图像处理模块7、主控模块8、显示模块9和数据存储模块10。
50.辐射计接收机5连接数据采集与信号调理模块6,数据采集与信号调理模块6连接图像处理模块7和主控模块8,主控模块8还连接图像处理模块7、显示模块9和数据存储模块10;数据采集与信号调理模块6和图像处理模块7用于对辐射计接收机接收5输出的电压数据进行处理,并生成目标场景图像;显示模块9用于显示目标场景图像,主控模块8用于对各个模块进行调控;电源模块11连接各模块,用于为各模块供电。
51.便携式被动毫米波辐射探测仪系统的金属外壳1呈圆柱状,一端固定采用超表面透镜天线的聚焦透镜天线3,内部固定的焦平面馈源天线4阵列的中心位于聚焦透镜天线3的焦点处,另一端外侧固定显示模块9,手持手柄2固定在金属外壳1的上方,可实现单人手持进行扫描成像。
52.如图2-图5所示,可选的,超表面透镜天线3由三种不同的超表面单元31组合,三种超表面单元31的金属层结构不同;三种超表面单元31均包含间隔设置的m 1层金属层和m层介质基板,每层金属层中心位置设置金属内圆。
53.其中,金属层的材料为铜,介质基板的材料型号为rt/duroid 5880。
54.超表面透镜天线3由三种不同的叠式圆环形结构,组合设计得到。如图2所示,超表面透镜天线3由多个三种超表面单元31紧凑排列构成。其中,圆环结构已被证实有助于结构单元实现极化不敏感性与入射角度不敏感性的要求,且具有局部感应的共振模式的叠层结构不仅可以扩展带宽且有利于增强结构单元的透射效率。
55.三种超表面单元均包含m 1层相同的金属层a和m层相同的介质基板b。其中,金属材料为铜,镀铜厚度为0.035mm,介质基板的材料型号为rt/duroid 5880,厚度为0.508mm。
56.超表面单元最少是可以由2层金属层和1层介质基板组成,在本实施例中,通过增加超表面的层数,可以扩展相位覆盖的范围,经过仿真,选择4层金属层和3层介质基板的结构,可以满足360
°
相位覆盖。
57.可选的,超表面单元的口面场为方形,通过改变超表面单元的金属层的金属内圆
半径对透射的电磁波进行相位与幅度调控。
58.如图3所示,是第一种超表面单元结构示意图。第一种超表面单元的口面场为方形,边长3.2mm,金属层包括方形环a1、圆环a2和内圆r,方形环a1口面大小和圆环a2的直径均为3.2mm,方形环a1与圆环a2的宽度均为0.1mm,金属内圆r的半径小于圆环a2的半径,通过改变金属内圆r半径可实现对透射的电磁波进行相位与幅度调控,金属内圆r半径的变化范围是0.4-1.45mm;镀铜厚度为0.035mm,介质基板b的材料型号为rt/duroid 5880,厚度为0.508mm。
59.如图4所示,是第二种超表面单元结构示意图,第二种超表面单元的口面场为方形,边长3.2mm,金属层包括方形环a1和内圆r,方形环a1直径为3.2mm,宽度为0.1mm,通过改变金属内圆r半径实现对透射的电磁波进行相位与幅度调控,金属内圆r半径的变化范围是0.4-1.45mm。镀铜厚度0.035mm,介质基板b的材料型号为rt/duroid 5880,厚度0.508mm。
60.如图5所示,是第三种超表面单元结构示意图,第三种超表面单元的口面场为方形,边长3.2mm,金属层为正方形金属板上镂空内嵌的圆形生成的第一部分c,正方形金属板边长与内嵌圆形的直径均为3.2mm,金属层还包括第二部分金属内圆r,通过改变金属内圆r半径实现对透射的电磁波进行相位与幅度调控,金属内圆r半径的变化范围是0.4-1.45mm。镀铜厚度0.035mm,介质基板的材料型号为rt/duroid 5880,厚度0.508mm。
61.以上3种超表面单元均具有满足宽频带特性、极化不敏感与入射角不敏感特性。超表面透镜具有重量轻、体积小、损耗低,聚焦效果好等特点,有利于设备便携式使用。
62.聚焦透镜天线3采用超表面透镜天线,本实施例中,成像系统的空间分辨率取决于天线的3db波束宽度,通常焦平面天线的3db波束宽度近似为θ
3db
=1.22λ0/d,其中d为透镜天线的尺寸,λ0为工作波长,这里λ0为35ghz所对应的波长。假设探测仪空间分辨率定为小于4
°
,可以计算出口径d最小应为130mm。综合考虑3db波束宽度和口径大小,选择设置超表面透镜天线的口径为144mm,超表面单元的重复周期p为3.2mm,通过计算超表面透镜天线需由1597个超表面单元组成。
63.当超表面透镜尺寸一定时,焦距越大,超表面透镜天线上需要补偿的相位变化越平缓,但透镜天线的剖面增大;焦距越小,需要补偿的相位变化越急剧,但透镜天线的剖面减小。为使成像效果尽量达到最优化,选择透镜天线的焦径比值f/d为1,即超表面透镜天线的焦距设定为144mm。
64.超表面透镜天线的基本原理与介质透镜天线相同,但是超表面透镜天线是通过超表面单元实现不同的相位来满足相位补偿的要求。在对探测仪系统的超表面聚焦透镜天线进行设计时,如无特殊说明,超表面透镜均位于z=0的平面,其中心位于(0,0,0)坐标处,仿真入射的平面波极化方向均沿x轴方向。根据超表面透镜天线工作原理,平面波朝 z轴入射,经过超表面透镜聚焦后汇聚到焦点f处,超表面透镜要实现聚焦效果,其相位分布需要满足其中(x、y)为超表面透镜中的单元在xoy平面的位置坐标;λ0为自由空间中的波长,在设计时采用工作中心频率35ghz对应的波长;f为超表面透镜的焦距,确定为144mm;为超表面透镜中心单元的参考相位,其数值为超表面透镜中心位置单元的相位。
65.理想的超表面透镜相位补偿是在0-360
°
范围内连续变化的,但是由于结构单元很
难提供所有的计算相位值,因此将超表面透镜的相位进行离散化处理。可选的,设计时采用n bit离散设计,即将360
°
相位进行2n等分,选取2n个结构单元覆盖360
°
的相位。
66.在本实施例中,超表面透镜天线的相位采用4bit离散化设计,将360
°
相位等分为16个离散相位值,选取16个离散相位值分别对应的透射率最高的超表面结构单元。
67.本实施例采用的超表面透镜天线共包含1597个超表面单元结构。超表面透镜天线由3种超表面单元组合设计得到。由于3种超表面单元均可以实现所需相位,因此,根据每个目标位置计算的相位值,与16个离散相位值对比,选取最接近的离散相位值作为该目标位置的所需的相位值,再求得3种超表面单元在该离散相位值的金属内圆半径r,筛选出透射率最高的超表面结构单元,最终形成超表面透镜天线。超表面单元结构可通过改变金属内圆半径实现对透射的电磁波进行相位与幅度调控,均具有满足宽频带特性、极化不敏感与入射角不敏感特性,且可以实现360
°
的相位响应特性。
68.超表面透镜天线的中心单元选择为内圆半径r为1.19mm的第三种超表面单元结构,相位为180
°
,透射幅度为0.99,这样可以保证超表面透镜的中心透射幅度较高,减少传输损耗。确定了中心位置处单元结构的相位,即其他位置(x

,y

)处需满足的相位都可以根据公式都可以根据公式计算得到。由于3种超表面单元结构均可以实现所需相位,因此在选取每个相位值对应的单元结构时,采用3种结构中对应透射率最高的结构作为此相位值的目标超表面单元。再根据每个位置需要满足的相位值,排布对应的目标超表面单元,形成多种超表面单元结构组合构成的超表面透镜天线。
69.本实施例中,设计的超表面透镜天线的口径为144mm,整体厚度为1.664mm,焦距为144mm;超表面透镜具有重量轻、体积小、损耗低、聚焦效果好的优点,有利于减小探测仪系统的尺寸,便于设备便携式使用。
70.如图6a所示,馈源天线4采用两侧周期性加载超材料单元41的共轭直线渐变缝隙天线,工作频段为33-37ghz。馈源天线4包括介质基板,镀于介质基板两侧的金属层,以及加载于介质基板左右两侧的超材料单元(41a和41b)。金属材料为铜,铺铜厚度为17.5um,介质基板的材料型号为rogers6002,其厚度为0.508mm。天线正面与反面的金属层结构一样,关于介质基板中心对称,形成共轭结构。
71.超材料单元41为srr/wire结构的左手材料,其具有负磁导率和负介电常数的电磁特性,该单元在32-34ghz中表现为负磁导率材料,在34-36ghz中表现为负介电常数材料。
72.如图6b所示,可选的,超材料单元包括三层结构,依次为介质基板b及镀于介质基板两侧的第一金属层a1和第二金属层a2,金属材料为铜,铺铜厚度为17.5um;超材料单元的介质基板的材料型号为rogers6002,其厚度为0.508mm,介电常数2.94,损耗角正切0.0012。加载超材料单元的共轭直线渐变缝隙天线具有高增益、低旁瓣电平、低回波损耗、低成本、易于加工、重量轻、尺寸紧凑、波束宽度窄和工作频段相对较宽等优点。
73.可选的,第一金属层a1包含两个开口方向相反的金属方环(t1和t2),第二金属层a2为长条形结构,金属方环t1和金属方环t2组成“回”字型结构;第一金属层a1和第二金属层a2均镀铜。
74.金属方环t1和金属方环t2位于顶层,组成“回”字形结构,环形条带宽度均为0.077mm,金属方环t1边长为0.78mm,金属方环t2边长为0.703mm,金属方环t1和金属方环t2的环间距为0.077mm。金属方环t1上边中心处开口大小为0.16mm
×
0.077mm,金属方环t2下边中心处开口大小为0.16mm
×
0.077mm;介质基板b位于中间层,口面为方形,边长尺寸为1mm;第二金属层a2位于底层,尺寸为1mm
×
0.16mm。
75.如图6c所示,可选的,共轭直线渐变缝隙天线4的辐射臂上设置两排金属化通孔42,并在辐射臂的上方蚀刻周期性的矩形缝隙43。
76.在辐射臂上增加两排金属化通孔42,使siw(substrate integrated waveguide,基片集成波导)的金属化通孔向天线辐射单元进一步延伸;在辐射臂上设置周期性矩形缝隙43使口面场分布更加均匀。
77.馈源天线4的左右两侧各有28个超材料单元结构,左侧超材料单元周期性排布时“回”字形朝上,右侧超材料单元周期性排布时“回”字形朝下,两侧的超材料单元排布关于介质基板中心对称;两侧加载超材料单元的共轭直线渐变缝隙天线具有高增益、低旁瓣电平、重量轻、低回波损耗、低成本、易于加工、重量轻、尺寸紧凑、波束宽度窄和工作频段相对较宽等优点。加载srr/wire左手材料后的天线e面副瓣在原有基础上降低了5db,达到-17.1db,e面3db波束宽度降低了6
°
,达到26.4
°
。天线增益提高2db,达到15.7db。h面性能未见明显改变,h面3db波束宽度为24.2
°
,天线增益为15.6db,副瓣为-15db。
78.馈源天线4在工作频带33-37ghz内测试驻波比均在1.2~1.5范围内,具体尺寸为38.25mm
×
17mm
×
0.508mm。在中心频率35ghz时,加载超表面透镜天线位于馈源天线前方,间距为一个焦距长度,即144mm,焦平面中心位置馈源天线聚焦后e面3db波束宽度测试结果为2.79
°
,h面3db波束宽度测试结果为3.73
°
,馈源天线在加载超表面透镜天线后增益提升17db。
79.聚焦透镜天线3和馈源天线4的结构改进,有效的降低了成像系统的尺寸和重量,降低了制造成本,提高了增益,降低旁瓣电平,使波束变窄,分辨率得到提升。
80.结合图1和图7所示,焦平面的馈源天线4阵列为二维n
×
n方式排布,本实施例中天线阵列包含的馈源天线4数目为9个,采用二维3
×
3排布方式,馈源天线4横向依次紧贴排布,馈源天线4纵向相邻天线之间的距离为15mm。在本实施例中,馈源天线4阵列的可覆盖视场范围为8.37
°×
11.19
°
,分辨率为2.79
°×
3.73
°
,本实施例的馈源天线4阵列排布紧凑,覆盖视场大,空区小,阵列数量多,扫描时可以更快的获取目标场景的辐射信息。
81.如图1所示,辐射计接收机5与馈源天线4对应设置,辐射计接收机5同样按照二维3
×
3排布方式,辐射计接收机5与馈源天线4一一对应连接;扫描目标场景时,可以多通道获取目标场景的辐射信息,提高扫描速度和成像速度。
82.进一步的,辐射计接收机5采用直接检波式接收机,示例性的,尺寸大小为15mm
×
15mm
×
100mm,采用直接检波式结构,无需本振和混频器,大大减小体积和成本。
83.辐射计接收机5结构包含数控衰减器,具有增益调控功能;主控模块8通过spi通信方式,发送衰减量控制信号给辐射计接收机5的控制电路,调节辐射计接收机5的动态范围。进一步的,本实施例提供的便携式被动毫米波辐射探测仪系统可特备为8毫米波段被动焦平面成像系统。
84.数据采集与信号调理模块6设置有采集端口保护电路,使输出电压量程在安全的
采集范围内;采集辐射计接收机5的输出电压,并对多通道的电压进行预处理。
85.图像处理模块7对预处理后的电压数据进行成像和去噪处理,随后进行图像增强,对增强后的图像进行超分辨重建,得到高分辨率图像。
86.显示模块9显示最终处理完成后的高分辨率微波图像。
87.数据存储模块10保存处理完成后的高分辨率微波图像数据。
88.电源模块11采用锂电池组进行供电,经过电源转换电路与各个模块连接,为各个模块提供所需要的电压,使得各模块保持正常工作状态。
89.可选的,金属外壳上还设置有按键和角度传感器(未示出),按键及角度传感器均与主控模块连接;
90.角度传感器,用于记录辐射计接收机输出电压与探测仪姿态的对应关系,通过主控模块传输至图像处理模块,图像处理模块利用手持扫描成像过程中角度传感器获取的姿态角度信息,对预处理后的电压数据进行修正,再进行图像处理;
91.主控模块8采用微处理器,主控模块用于根据按键的操作控制各模块。
92.点击金属外壳上的不同按键,主控模块8对便携式被动毫米波辐射探测仪系统中的各个模块进行调控,示例性的,可通过按键对辐射计接收机5的增益进行调控,在本实施例中,主控模块8可以是fpga、arm等。
93.主控模块8采用微处理器,减小仪器的体积;接收机具有档位调控功能,可以进行宽范围辐射亮温的探测。
94.本发明实施例的技术方案,通过改进聚焦透镜天线和馈源天线的结构,聚焦透镜天线采用超表面透镜天线,馈源天线采用两侧加载超材料单元的共轭直线渐变缝隙天线,减小了天线尺寸,减轻重量,同时馈源天线采用二维n
×
n方式排布方式,增加了天线接收机通道数,加快了扫描速度,提高了图像质量,并且增加了阵列排布的多样性;主控模块采用微处理器,可以实时处理采集的数据,且体积小,成本低。利用角度传感器对图像进行修正,提高了图像质量和手持扫描的可行性,并增强了仪器的便携性。便携式多通道被动毫米波辐射探测仪系统实现了尺寸小、成本低、成像速度快、成像分辨率高,并具有便携使用的有益效果。
95.在上述实施例的基础上,进一步的,一种便携式被动毫米波辐射探测仪系统使用方法,包括:
96.s1:启动便携式被动毫米波辐射探测仪,根据目标场景,通过按键调控辐射计接收机档位,选择合适的动态范围;
97.s2:对多通道天线阵列的辐射计接收机进行定标;
98.s3:对多通道天线阵列的辐射计接收机进行不一致性校正;
99.s4:手持便携式被动毫米波辐射探测仪扫描目标场景,采集目标场景辐射信息对应的电压数据并进行预处理;
100.s5:图像处理模块利用手持扫描成像过程中角度传感器获取的姿态角度信息,对预处理后的电压数据进行修正,再进行图像去噪、图像增强和超分辨率重建操作;
101.s6:便携式被动毫米波辐射探测仪的屏幕显示最终场景高分辨率图像并储存数据。
102.本领域的技术人员容易理解,以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以
限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
再多了解一些

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