一种半导体元件用清洗装置的制作方法

技术特征：
1.一种半导体元件用清洗装置，包括清洗箱(1)，其特征在于：所述清洗箱(1)的顶部固定安装有清洗篮(2)，所述清洗箱(1)的底部固定安装有电机(3)，所述清洗箱(1)的内底壁上转动安装有叶轮(4)，所述清洗箱(1)的外侧设置有辅助组件；所述辅助组件包括固定安装在清洗箱(1)内侧壁上的气泡箱(6)和固定安装在清洗箱(1)外侧壁上的动力箱(5)，所述动力箱(5)的内部固定安装有鼓风机(7)，所述气泡箱(6)的内部固定安装有气管(12)，所述气管(12)和所述鼓风机(7)之间连通有气环(8)，所述气管(12)上还转动安装有阀管(10)，所述阀管(10)的内部固定安装有第二阀瓣(20)，所述气管(12)的内部固定安装有与第二阀瓣(20)相对应的第一阀瓣(18)，所述动力箱(5)的内部固定安装有马达(13)，所述气泡箱(6)的内部转动安装有调节轮(15)，所述调节轮(15)上固定安装有转动杆(14)，所述转动杆(14)固定连接于所述马达(13)的输出端，所述阀管(10)的外部固定安装有套管(9)，所述套管(9)滚动连接于所述调节轮(15)。2.根据权利要求1所述的一种半导体元件用清洗装置，其特征在于：所述第一阀瓣(18)和第二阀瓣(20)均为半圆弧形。3.根据权利要求1所述的一种半导体元件用清洗装置，其特征在于：所述气泡箱(6)的外部开设有气口(16)，所述气口(16)呈圆形排布在气泡箱(6)的外部。4.根据权利要求1所述的一种半导体元件用清洗装置，其特征在于：所述气管(12)朝向所述阀管(10)的一端上固定安装有连接座(11)，所述连接座(11)上开设有滑槽(17)，所述阀管(10)朝向连接座(11)的一侧固定安装有滑条(19)，所述滑条(19)紧密滑动连接于所述滑槽(17)。5.根据权利要求1所述的一种半导体元件用清洗装置，其特征在于：所述气环(8)呈环状同时连通数量为若干个的气管(12)。6.根据权利要求1所述的一种半导体元件用清洗装置，其特征在于：所述清洗箱(1)的顶部开口，内部填充有清洗液。

技术总结
本实用新型涉及一种半导体元件用清洗装置，包括清洗箱，所述清洗箱的顶部固定安装有清洗篮，所述清洗箱的底部固定安装有电机，所述清洗箱的内底壁上转动安装有叶轮，所述清洗箱的外侧设置有辅助组件，所述辅助组件包括固定安装在清洗箱内侧壁上的气泡箱和固定安装在清洗箱外侧壁上的动力箱，所述动力箱的内部固定安装有鼓风机。该半导体元件用清洗装置，通过设置清洗箱、清洗篮在电机和叶轮的配合下，进行浸泡式水流清洗的方式能够减少对半导体元件的表面损伤程度，同时通过设置辅助装置产生气泡，通过气泡接触半导体元件表面破裂产生作用力进行清除表面污渍，能够使得半导体全副的清洁效果好，同时使用方便。同时使用方便。同时使用方便。


技术研发人员：杨砚红
受保护的技术使用者：上海宏科半导体技术有限公司
技术研发日：2022.03.31
技术公布日：2022/11/17