波导激发均匀性的制作方法

技术特征：
1.一种系统，包括：反应室阵列；和波导，所述波导将激发光传送到所述反应室阵列的至少一部分，其中，所述波导的光模的垂直范围被调制以调整光在所述波导内和沿所述波导的长度的限制。2.根据权利要求1所述的系统，其中，通过沿所述波导的长度改变波导芯层的厚度来调制所述光模的所述垂直范围。3.根据权利要求1所述的系统，其中，通过沿所述波导的长度改变波导芯或包覆层材料的折射率来调制所述光模的所述垂直范围。4.根据权利要求2所述的系统，其中，沿所述波导的所述长度的所述波导芯层的所述厚度通过转移光刻胶层的形貌而改变。5.根据权利要求1所述的系统，包括：多个具有均匀宽度的波导；和多个具有锥形宽度的虚拟结构，其中，所述多个波导和所述多个虚拟结构被交替设置。6.根据权利要求5所述的系统，其中，所述多个波导和所述多个虚拟结构在波导芯层中。7.一种系统，包括：反应室阵列；和波导，所述波导将激发光传送到所述反应室阵列的至少一部分，其中，所述波导和所述反应室之间的距离被调制以补偿波导损失。8.根据权利要求7所述的系统，其中，控制所述波导的包覆层的厚度以调制所述波导和所述反应室之间的所述距离。9.根据权利要求7所述的系统，包括：多个具有均匀宽度的波导；和多个具有锥形宽度的虚拟结构，其中，所述多个波导和所述多个虚拟结构被交替设置。10.根据权利要求7所述的系统，包括：多个具有锥形宽度的波导；和多个具有锥形宽度的虚拟结构，其中，所述多个波导和所述多个虚拟结构被交替设置。11.根据权利要求7所述的系统，包括：在第一方向上多个具有锥形宽度的波导；和在与所述第一方向相反的第二方向上多个具有锥形宽度的虚拟结构，其中，所述多个波导和所述多个虚拟结构被交替设置。12.一种方法，包括：提供波导以将激发光传送到反应室阵列；以及调制所述波导的光模的垂直范围以调整光在所述波导内和沿所述波导的长度的限制。13.根据权利要求12所述的方法，其中，所述调制包括沿所述波导的所述长度改变波导
芯层的厚度。14.根据权利要求12所述的方法，其中，所述调制包括改变波导芯或包覆材料的折射率。15.一种方法，包括：提供波导以将激发光传送到反应室阵列；以及调制所述波导和所述反应室之间的距离。16.根据权利要求16所述的方法，其中，所述调制包括控制所述波导的包覆层的厚度。17.根据权利要求17所述的方法，其中，控制所述波导的所述包覆层的所述厚度包括通过平坦化调制的波导图案上的所述包覆层的材料来提供具有锥形厚度的所述包覆层。18.根据权利要求17所述的方法，其中，控制所述波导的所述包覆层的所述厚度包括通过将所述包覆层的材料沉积在调制的波导图案上来提供具有锥形厚度的所述包覆层。19.根据权利要求17所述的方法，其中，控制所述波导的所述包覆层的所述厚度包括通过将光刻胶层的形貌转移到所述包覆层来提供具有锥形厚度的所述包覆层。20.一种方法，包括：形成反应室阵列；形成波导以将激发光传送到所述反应室；以及调制所述波导以向每个反应室传送近可能接近等量的激发光。21.根据权利要求21所述的方法，其中，所述调制包括调制所述波导的光模的垂直范围。22.根据权利要求21所述的方法，其中，所述调制包括沿所述波导的长度调制厚度。23.根据权利要求21所述的方法，其中，所述调制包括沿所述波导的长度调制距每个反应室的距离。24.一种方法，包括：用通过波导传送的激发光激发多个反应室中的每个反应室内的样本，其中，所述波导被调制使得基本上相同量的光被传送到每个反应室。

技术总结
用于在集成装置内以基本均匀的方式将光功率分布到大量样本井和/或其他光子元件的系统和方法。集成装置和相关仪器及系统可以被用于并行分析样本。集成装置可以包括光栅耦合器，该光栅耦合器配置为接收来自激发源的光并与多个波导(2-104)光学耦合，该多个波导被配置为与样本井(2-102)耦合。可以调制各个波导的光模的垂直范围以调整光在波导(2-104)内的限制。这种调制可以使激发光能够更均匀地分布到样本井(2-102)，提高激发效率，并防止集成装置的区域上的超功率。置的区域上的超功率。置的区域上的超功率。


技术研发人员：杰勒德
受保护的技术使用者：宽腾矽公司
技术研发日：2021.01.14
技术公布日：2022/11/11