一种激光装置的制作方法

技术特征：
1.一种激光装置，其特征在于，包括：第一激光源；第二激光源；变频组件，用于将第二波长的光线转换为第一波长的光线；第一分光器，用于反射所述第一波长的光线，且用于透射所述第二波长的光线；第二分光器，用于反射所述第一波长的光线，且用于透射所述第二波长的光线；合光组件，用于将所述第一分光器和所述第二分光器反射的所述第一波长的光线合并射出；所述第一激光源发出的所述第二波长的光线经所述变频组件转换为所述第一波长的光线，由所述变频组件射向所述第一分光器，经所述第一分光器反射至所述合光组件；所述第二激光源发出的所述第二波长的光线经所述变频组件转换为所述第一波长的光线，由所述变频组件射向所述第二分光器，经所述第二分光器反射至所述合光组件。2.如权利要求1所述的激光装置，其特征在于，所述变频组件包括第一变频晶体和第二变频晶体，所述第一分光器位于所述第一变频晶体与所述第二变频晶体之间，所述第二变频晶体位于所述第一分光器和所述第二分光器之间；所述第一分光器将所述第一变频晶体出射的所述第一波长的光线反射至所述合光组件，且所述第一分光器将所述第一变频晶体出射的所述第二波长的光线透射至所述第二变频晶体，经所述第二变频晶体转换为所述第一波长的光线，由所述第二分光器反射至所述合光组件；所述第二激光源射出的所述第二波长的光线经所述第二变频晶体射向所述第二分光器。3.如权利要求2所述的激光装置，其特征在于，所述第二激光源包括泵浦光源和位于所述第一分光器与所述第二变频晶体之间的激光晶体；所述第一分光器透射的所述第二波长的光线经过所述激光晶体增益后射向所述第二变频晶体。4.如权利要求1所述的激光装置，其特征在于，所述变频组件为变频晶体，所述变频晶体位于所述第一分光器和所述第二分光器之间，所述第一分光器位于所述变频晶体与所述第二激光源之间，所述第二分光器位于所述第一激光源与所述变频晶体之间；所述第一激光源发出的所述第二波长的光线由所述第二分光器透射至所述变频晶体，所述第二激光源发出的光线由所述第一分光器透射至所述变频晶体。5.如权利要求4所述的激光装置，其特征在于，所述第二激光源包括泵浦光源和位于所述第一分光器远离所述变频晶体一侧的激光晶体；所述激光晶体用于对透射过第一分光器的第二波长的光线进行增益。6.如权利要求5所述的激光装置，其特征在于，所述激光装置还包括反射镜，所述反射镜位于所述激光晶体远离所述第一分光器的一侧，经所述变频晶体射向所述第一分光器的所述第二波长的光线，依次透射经过所述第一分光器和所述激光晶体并射向反射镜，经反射镜反射并依次经过所述激光晶体和所述第一分光器射向所述变频晶体，经所述变频晶体转换为所述第一波长的光线并射向所述第二分光器，经所述第二分光器反射至所述合光组件。7.如权利要求1所述的激光装置，其特征在于，所述激光装置还包括第一半波片，所述
第一半波片位于第一激光源与变频组件之间，用于调整第一激光源射出的光线的偏振态。8.如权利要求1所述的激光装置，其特征在于，所述激光装置还包括用于将所述第一激光源和/或所述第二激光源射出的光线聚焦的聚焦透镜，所述聚焦透镜位于所述第一激光源与所述变频组件之间。9.如权利要求1至8任一项所述的激光装置，其特征在于，所述合光组件包括反射器和合光器，所述反射器用于将所述第一分光器和/或所述第二分光器反射的所述第一波长的光线反射至所述合光器。10.如权利要求9所述的激光装置，其特征在于，所述合光组件还包括第二半波片和第三半波片；所述第二半波片位于所述第一分光器与所述合光器之间，所述第三半波片位于所述第二分光器与所述合光器之间。

技术总结
本申请提供了一种激光装置，包括第一激光源、第二激光源、变频组件，用于将第二波长的光线转换为第一波长的光线；第一分光器和第二分光器，用于反射所述第一波长的光线，且用于透射所述第二波长的光线；合光组件，用于将所述第一分光器和所述第二分光器反射的所述第一波长的光线合并射出。本申请提供的激光装置，有效避免了第一波长光线向第二波长光线退转换的问题，从而提高了第一波长光线的最高功率。率。率。


技术研发人员：谢晓华 吴朝辉 岳超瑜
受保护的技术使用者：深圳市欧凌镭射科技有限公司
技术研发日：2022.07.27
技术公布日：2022/11/10