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一种具有水循环利用的瓷砖抛光机的制作方法

2022-11-12 07:54:49 来源:中国专利 TAG:


1.本技术涉及瓷砖抛光机技术领域,尤其是涉及的是一种具有水循环利用的瓷砖抛光机。


背景技术:

2.瓷砖,是以耐火的金属氧化物及半金属氧化物,经由研磨、混合、压制、施釉、烧结之过程,而形成的一种耐酸碱的瓷质或石质等,建筑或装饰材料,称之为瓷砖。瓷砖抛光机根据应用领域的不同,设备大小以及结构都不尽相同,主要应用于对瓷砖表面的处理。现有技术中,瓷砖抛光后需使用水进行冲洗,用于冲洗的水循环利用效果一般,瓷砖抛光机的结构设计使用效果一般。


技术实现要素:

3.本技术的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述,并且部分地从说明书中变得显而易见,或者通过实施本技术而了解。本技术的目的和其他优点可通过说明书、权利要求书以及其他说明书附图中所特别指出的结构来实现和获得。
4.本技术的目的在于克服上述不足,提供一种具有水循环利用的瓷砖抛光机。
5.为实现上述目的,本技术的技术解决方案是:
6.一种具有水循环利用的瓷砖抛光机,包括抛光控制台、抛光座、抛光机、处理台、托台、功能箱、冲洗管口和控制盒,抛光控制台上传动安装有抛光座,抛光座上锁固安装有抛光机,处理台上贴合安装有托台,处理台底端设置有功能箱,功能箱包括观察窗、箱体、滤网、浮板、泡沫块、水泵、进水口护盖、出水口、连接管,观察窗嵌入安装于箱体上,滤网紧固安装于箱体顶端,浮板底端固定安装有泡沫块,水泵上设置有进水口护盖、出水口,冲洗管口设置于托台上方,出水口通过连接管与冲洗管口相贯通。
7.优选的,处理台包括内槽、斜板、排水孔、低位槽,内槽所在水平面高于低位槽所在水平面,斜板的倾斜角度为四十五度,低位槽上贯穿有排水孔,排水孔的设置数量大于两个。
8.优选的,排水孔共设有6个,合理设置排水孔,便于将内槽内的水通过排水孔转移至功能箱内。
9.优选的,浮板上设置有圆口,便于经滤网筛除掉大颗粒杂质后的水穿过圆口进入到浮板下方的集水区域。
10.优选的,观察窗为透明亚克力板,便于通过观察窗观察功能箱内的水位。
11.优选的,处理台上设置有控制盒,控制盒与抛光控制台电连接,控制盒与水泵电连接。
12.优选的,泡沫块设置有两个,并且对称设置于浮板底面,便于增强浮板在水位上升时的浮力。
13.通过采用上述的技术方案,本技术的有益效果是:
14.本技术通过优化设置功能箱,功能箱上的观察窗便于观测功能箱内部水位情况,水泵从进水口护盖处进水,出水口处出水,随后水通过连接管转移至冲洗管口,然后内槽内的水经过斜板转移至低位槽的排水孔,排水孔内水流入箱体的滤网过滤,再转移至水泵附近供水泵使用,组成重复利用的高效循环体系,水循环利用效果好,瓷砖抛光机的结构设计使用效果好、实用性强。
附图说明
15.附图用来提供对本技术的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本技术的实施例共同用于解释本技术,并不构成对本技术的限制。
16.在附图中,相同的部件使用相同的附图标记,并且附图是示意性的,并不一定按照实际的比例绘制。
17.为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单的介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本技术的一个或数个实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据此类附图获得其他的附图。
18.图1为本技术一种具有水循环利用的瓷砖抛光机的结构示意图;
19.图2为本技术一种具有水循环利用的瓷砖抛光机中处理台的俯视示意图;
20.图3为本技术一种具有水循环利用的瓷砖抛光机中功能箱的结构示意图。
21.主要附图标记说明:
22.1、抛光控制台;
23.2、抛光座;
24.3、抛光机;
25.4、处理台;
26.41、内槽;42、斜板;43、排水孔;44、低位槽;
27.5、托台;
28.6、功能箱;
29.61、观察窗;62、箱体;63、滤网;64、浮板;641、圆口;
30.65、泡沫块;66、水泵;67、进水口护盖;68、出水口;69、连接管;
31.7、冲洗管口;
32.8、控制盒。
具体实施方式
33.为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合具体实施方式对本技术进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施方式仅仅用以解释本技术,但并不用于限定本技术。
34.另外,在本技术的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此
不能理解为对本技术的限制。
35.在本技术中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。但注明直接连接则说明连接地两个主体之间并不通过过渡结构构建连接关系,只通过连接结构相连形成一个整体。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
36.在本技术中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触,或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构或者特点包含于本技术的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
37.参照图1-图3,图1为本技术一种具有水循环利用的瓷砖抛光机的结构示意图;图2为本技术一种具有水循环利用的瓷砖抛光机中处理台的俯视示意图;图3为本技术一种具有水循环利用的瓷砖抛光机中功能箱的结构示意图。
38.本实施例提供了一种具有水循环利用的瓷砖抛光机,包括抛光控制台1、抛光座2、抛光机3、处理台4、托台5、功能箱6、冲洗管口7和控制盒8,抛光控制台1上传动安装有抛光座2,抛光座2上锁固安装有抛光机3,处理台4上贴合安装有托台5,处理台4底端设置有功能箱6,功能箱6包括观察窗61、箱体62、滤网63、浮板64、泡沫块65、水泵66、进水口护盖67、出水口68、连接管69,观察窗61嵌入安装于箱体62上,滤网63紧固安装于箱体62顶端,浮板64底端固定安装有泡沫块65,水泵66上设置有进水口护盖67、出水口68,冲洗管口7设置于托台5上方,出水口68通过连接管69与冲洗管口7相贯通。从进水口护盖67处进水,出水口68处出水,随后水通过连接管69转移至冲洗管口7,组成重复利用的高效循环体系。
39.处理台4包括内槽41、斜板42、排水孔43、低位槽44,内槽41所在水平面高于低位槽44所在水平面,斜板42的倾斜角度为四十五度,低位槽44上贯穿有排水孔43,排水孔43的设置数量大于两个,通过坡面、槽面、排水孔43灵活设置,便于配合高效排水转移。
40.排水孔43共设有6个,合理设置排水孔43,便于将内槽41内的水通过排水孔43转移至功能箱6内。
41.浮板64上设置有圆口641,便于经滤网63筛除掉大颗粒杂质后的水穿过圆口641进入到浮板64下方的集水区域。
42.观察窗61为透明亚克力板,便于通过观察窗61观察功能箱内的水位。
43.处理台4上设置有控制盒8,控制盒8与抛光控制台1电连接,控制盒8与水泵66电连接。
44.泡沫块65设置有两个,并且对称设置于浮板64底面,便于增强浮板64在水位上升时的浮力。
45.在使用具有水循环利用的瓷砖抛光机时,抛光控制台1与抛光座2配合移动抛光机3对瓷砖表面进行打磨,可以将抛光座2上的抛光机3拆下手动进行高精度打磨,冲洗管口7
可以出水对瓷砖表面进行清洗,水清洗后进入内槽41,经斜板42转移进入低位槽44上的排水孔43,携带有杂质的水流动至滤网63,比滤网63口径大的被保留在滤网63上,反之,向下流动,最后进入水泵66附近,水不断累积,水位不断上升,水将浮板64抬起。水位可以从观察窗61观察,避免水超过功能箱6的容积。
46.应该理解的是,本技术所公开的实施例不限于这里所公开的特定结构,而应当延伸到相关领域的普通技术人员所理解的此类特征的等同替代。还应当理解的是,在此使用的术语仅用于描述特定实施例的目的,而并不意味着限制。
47.说明书中提到的“实施例”意指结合实施例描述的特定特征、或特性包括在本技术的至少一个实施例中。因此,说明书通篇各个地方出现的短语或“实施例”并不一定均指同一个实施例。
48.此外,所描述的特征或特性可以任何其他合适的方式结合到一个或多个实施例中。在上面的描述中,提供一些具体的细节,例如厚度、数量等,以提供对本技术的实施例的全面理解。然而,相关领域的技术人员将明白,本技术无需上述一个或多个具体的细节便可实现或者也可采用其他结构、组件等实现。
再多了解一些

本文用于创业者技术爱好者查询,仅供学习研究,如用于商业用途,请联系技术所有人。

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