一种防眩光的表面处理方法与流程

技术特征：
1.一种防眩光的表面处理方法，其特征在于，该表面处理方法的步骤为，s1、清洗产品；s2、将清洗后的产品挂于密封腔的治具上并保持密封；s3、对密封腔抽取真空；s4、对密封腔加热至设定值并在密封腔内通入氩气；s5、开启偏压电源以及离子源电源，采用高低脉冲偏压循环、高低离子源电流循环或者两者结合的方式对产品进行刻蚀；s6、刻蚀完毕，取出产品。2.根据权利要求1所述防眩光的表面处理方法，其特征在于，在所述步骤s5中当采用高低脉冲偏压循环的方式时，高脉冲偏压的电压范围控制在-30v～-200v，低脉冲偏压的电压范围控制在-1～-100v；所述高脉冲偏压的电压小于低脉冲偏压的电压。3.根据权利要求1所述防眩光的表面处理方法，其特征在于，在所述步骤s5中当采用高低脉冲偏压循环与高低离子源电流循环同时结合的方式时，高脉冲偏压的电压范围控制在-30v～-200v，低脉冲偏压的电压范围控制在-1～-100v，所述高脉冲偏压的电压小于低脉冲偏压的电压；高离子源电流的范围为30～200a，低离子源电流的范围为10～80a，所述高离子源电流大于低离子源电流。4.根据权利要求2或3所述防眩光的表面处理方法，其特征在于，所述高脉冲偏压以及低脉冲偏压的频率范围为20～100khz。5.根据权利要求4所述防眩光的表面处理方法，其特征在于，所述高脉冲偏压以及低脉冲偏压的频率为40khz。6.根据权利要求2或3所述防眩光的表面处理方法，其特征在于，所述高低脉冲偏压循环的转换频率范围为0.5～10000hz。7.根据权利要求1所述防眩光的表面处理方法，其特征在于，在所述步骤s5中当采用高低离子源电流循环的方式时，高离子源电流的范围为30～200a，低离子源电流的范围为10～80a，所述高离子源电流大于低离子源电流。8.根据权利要求3或7所述防眩光的表面处理方法，其特征在于，所述高低离子源电流循环的转换频率范围为1～1000hz。9.根据权利要求1所述防眩光的表面处理方法，其特征在于，在所述步骤s3中抽取真空控制在1e-4mbar以下。10.根据权利要求1所述防眩光的表面处理方法，其特征在于，在所述步骤s4中加热的设定值控制在20～500℃。

技术总结
本发明涉及一种防眩光的表面处理方法，该表面处理方法的步骤为，S1、清洗产品；S2、将清洗后的产品挂于密封腔的治具上并保持密封；S3、对密封腔抽取真空；S4、对密封腔加热至设定值并在密封腔内通入氩气；S5、开启偏压电源以及离子源电源，采用高低脉冲偏压循环、高低离子源电流循环或者两者结合的方式对产品进行刻蚀；S6、刻蚀完毕，取出产品。通过采用高低脉冲偏压循环、高低离子源电流循环或者两者的结合，在产品表面实现等离子体能量和密度的高低循环，能够有效缓解刻蚀过程中产品表面温度过高的问题，使得产品表面温度得到了有效管控；同时，产品表面的凹凸槽为纳米级别，透光率受影响较小。影响较小。影响较小。


技术研发人员：蒋岩 毛昌海 帅小锋
受保护的技术使用者：艾瑞森表面技术（苏州）股份有限公司
技术研发日：2022.07.26
技术公布日：2022/10/11