显示装置和显示方法与流程

技术特征：
1.一种显示装置，包括：至少一个激光照射装置，被配置为用波长大于等于380nm且小于等于780nm的激光束照射位于空气中的显示位置处的照射点，并产生发光体；和控制装置，被配置为控制从所述至少一个激光照射装置发射的激光束的强度，以使得所述发光体在显示位置处形成有色像素，其中，相比于大于等于0
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且小于30
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的角度范围，所述发光体将所述激光束更强地散射至大于等于30
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且小于等于330
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的角度范围，其中，相比于大于330
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且小于360
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的角度范围，所述发光体将所述激光束更强地散射至大于等于30
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且小于等于330
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的角度范围，其中，所述角度范围是相对于来自所述至少一个激光照射装置的激光束的照射方向定义的。2.根据权利要求1所述的显示装置，其中从所述至少一个激光照射装置照射的激光束的波长为532nm。3.根据权利要求1或2所述的显示装置，其中，激光照射装置包括可见激光束光源、被配置为增大从所述可见激光束光源输出的激光束的光束直径的扩束器、以及被配置为将光束直径已经由所述扩束器增大的激光束聚焦在显示位置上的聚光装置。4.根据权利要求1或2所述的显示装置，其中，激光照射装置还包括扫描装置，所述扫描装置被配置为改变激光束的照射方向以改变显示位置。5.根据权利要求1或2所述的显示装置，其中，所述有色像素在大于等于30
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且小于等于330
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的角度范围中的颜色纯度高于所述有色像素在所述角度范围以外的颜色纯度。6.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述至少一个激光照射装置被配置为在显示位置处产生等离子体，其中，所述控制装置控制激光束的强度，以使得在显示位置处从所述等离子体发射的等离子体光的y值与从激光束产生的且不含等离子体光的散射光的y值的比率在大于等于1％且小于等于95％的范围内，其中，激光照射装置用该激光束照射位于显示位置处的照射点，其中，通过在大于等于380nm且小于等于780nm的波长范围内将显示位置处的等离子体光的强度转换成cie 1931中的xyz三刺激值来获得等离子体光的y值，以及其中，通过在大于等于380nm且小于等于780nm的波长范围内将显示位置处的散射光的强度转换成cie 1931中的xyz三刺激值来获得散射光的y值。7.根据权利要求6所述的显示装置，其中，所述控制装置被配置为控制从所述至少一个激光照射装置照射的激光束的强度，以使得从所述等离子体发射的等离子体光的强度与被所述等离子体散射的激光束的强度之间的关系成为用以显示有色显示像素的预定关系，其中，所述控制装置控制激光束的强度，以使得从激光照射装置发射的激光束的功率密度在大于等于等离子体形成阈值的1.5倍且小于等于等离子体形成阈值的4倍的范围内，并且其中，在显示位置处获得所述功率密度。8.根据权利要求7所述的显示装置，还包括：测量仪器，被配置为测量从激光照射装置发射的激光束的功率密度，
其中，控制装置根据由测量仪器测量的功率密度来控制激光束的强度。9.根据权利要求7所述的显示装置，其中，所述等离子体形成阈值是根据从激光照射装置发射的激光束的激光光斑直径、脉冲宽度和波长中的至少之一被设定的。10.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述至少一个激光照射装置是多个激光照射装置，并且其中，所述多个激光照射装置发射波长彼此不同的激光束。11.一种显示方法，所述显示方法包括显示步骤，在所述显示步骤中，至少一个激光照射装置用波长大于等于380nm且小于等于780nm的激光束照射位于空气中的显示位置处的照射点并产生发光体，其中，相比于大于等于0
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且小于30
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的角度范围，所述发光体将所述激光束更强地散射至大于等于30
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且小于等于330
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的角度范围，其中，相比于大于330
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且小于360
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的角度范围，所述发光体将所述激光束更强地散射至大于等于30
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且小于等于330
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的角度范围，其中，所述角度范围是相对于来自至少一个激光照射装置的激光束的照射方向定义的，并且其中，所述显示步骤包括控制步骤，在所述控制步骤中，控制从所述至少一个激光照射装置发射的激光束的强度，以使得所述发光体在显示位置处产生有色显示像素。12.一种非暂时性存储介质，其存储使得计算机执行根据权利要求11所述的显示方法的显示步骤的程序。

技术总结
本公开涉及显示装置和显示方法。显示装置包括激光照射装置和控制装置。激光照射装置被配置为用波长大于等于380nm且小于等于780nm的激光束照射空气中的显示位置处的照射点，并在显示位置处产生等离子体。控制装置被配置为控制从至少一个激光照射装置发射的激光束的强度，以使得在显示位置处从等离子体发射的等离子体光的强度与从激光束产生的并且被等离子体散射的散射光的强度之间的关系成为用于显示有色像素的预定关系。显示有色像素的预定关系。显示有色像素的预定关系。


技术研发人员：芦边恒德 藤村秀彦 渡部胜博 森本弘之 久保山俊介 西口敏司
受保护的技术使用者：佳能株式会社
技术研发日：2019.12.03
技术公布日：2022/9/13