基于散射仪的粒子检查系统的改进对准的制作方法

技术特征：
1.一种检查方法，包括：在检查系统内的多元件检测器处接收在物体的表面处散射的辐射；利用处理电路测量所述多元件检测器的每个元件的输出，所述输出对应于接收到的被散射的辐射；利用处理电路，通过识别包括所述多元件检测器的具有高于预定阈值的被测量的输出的一个或更多个元件的有效像素区域、以及识别包括所述多元件检测器的剩余元件的无效像素区域，来校准所述多元件检测器；以及将所述有效像素区域设置为所述多元件检测器与引起所述被散射的辐射的光源之间的默认对准设置。2.根据权利要求1所述的检查方法，还包括：在所述多元件检测器处接收在所述物体的所述表面处散射的第二辐射；以及基于所述有效像素的输出产生检测信号，所述检测信号指示在所述表面上存在外来粒子。3.根据权利要求2所述的检查方法，还包括：基于所述无效像素区域的输出确定杂散信号，所述杂散信号指示散射光；以及丢弃所述无效像素区域的输出。4.根据权利要求1所述的检查方法，其中，由所述被散射的辐射在所述多元件检测器的表面区域上产生的照射斑小于所述多元件检测器的检测表面区域，以及所述有效像素区域包含所述照射斑。5.根据权利要求1所述的检查方法，还包括：响应于从所述无效像素区域接收到检测信号来确定杂散信号；以及将所述杂散信号分类为误报信号。6.根据权利要求2所述的检查方法，还包括：基于以下操作来确定所述外来粒子的位置：测量来自所述有效像素区域内的像素的像素输出；识别所述有效像素区域内的具有最高输出水平的一个或更多个像素；以及基于识别的所述一个或更多个像素在所述有效像素区域内的位置来推断所述外来粒子的位置。7.根据权利要求2所述的检查方法，还包括执行补偿操作，所述补偿操作包括：识别所述多元件检测器与所述光源之间的未对准情况；以及响应于识别所述未对准来重新初始化校准操作。8.根据权利要求7所述的检查方法，所述识别还包括：检测在所述有效像素区域内、或在无效像素区域内与所述有效像素区域交界的多个新元件，所述多个新元件位于由所述被散射的辐射在所述多元件检测器的表面区域上产生的照射斑之外，所述多个新元件中的每个新元件在一个或更多个检查操作中产生高于预定阈值的输出。9.根据权利要求7所述的检查方法，还包括：将新的有效像素区域设置为所述多元件检测器与所述光源之间的默认对准设置。
10.根据权利要求7所述的检查方法，其中，所述未对准情况是漂移情况。11.一种光刻检查设备，包括：多元件检测器，所述多元件检测器被配置成：利用处理电路测量所述多元件检测器的每个元件的输出，所述输出对应于接收到的被散射的辐射；利用处理电路，通过识别包括所述多元件检测器的具有高于预定阈值的被测量的输出的一个或更多个元件的有效像素区域、以及识别包括所述多元件检测器的剩余元件的无效像素区域，来校准所述多元件检测器；以及将所述有效像素区域设置为所述多元件检测器与引起所述被散射的辐射的光源之间的默认对准设置。12.根据权利要求11所述的光刻检查设备，其中，所述检测器还被配置成：接收在所述物体的所述表面处散射的第二辐射；以及基于所述有效像素的输出产生检测信号，所述检测信号指示在所述表面上存在外来粒子。13.根据权利要求12所述的光刻检查设备，其中，所述检测器还被配置成：基于所述无效像素区域的输出确定杂散信号，所述杂散信号指示散射光；以及丢弃所述无效像素区域的输出。14.根据权利要求11所述的光刻检查设备，其中，由所述被散射的辐射在所述多元件检测器的表面区域上产生的照射斑小于所述多元件检测器的检测表面区域，以及所述有效像素区域对应于所述照射斑。15.根据权利要求11所述的光刻检查设备，其中，所述检测器还被配置成：响应于从所述有效像素区域以外的像素接收到检测信号来确定杂散信号；以及将所述杂散信号分类为误报信号。16.根据权利要求12所述的光刻检查设备，其中，所述检测器还被配置成基于以下操作来确定所述外来粒子的位置：测量来自所述有效像素区域内的像素的像素输出；识别所述有效像素区域内的具有最高输出水平的一个或更多个像素；以及基于识别的所述一个或更多个像素在所述有效像素区域内的位置来推断所述外来粒子的位置。17.根据权利要求12所述的光刻检查设备，其中，所述检测器还被配置成执行补偿操作，所述补偿操作包括：识别所述多元件检测器与所述光源之间的未对准情况；以及响应于识别所述未对准来重新初始化校准操作。18.根据权利要求17所述的光刻检查设备，由所述检测器进行的识别操作还包括：检测在所述有效像素区域内、或与所述有效像素区域交界的多个新元件，所述多个新元件位于由所述被散射的辐射在所述多元件检测器的表面区域上产生的照射斑之外，所述多个新元件中的每个新元件产生高于预定阈值的输出。19.根据权利要求16所述的光刻检查设备，其中，所述检测器还被配置成：
将新的有效像素区域设置为所述多元件检测器与所述光源之间的默认对准设置。20.根据权利要求16所述的光刻检查设备，其中，所述未对准情况是漂移情况。

技术总结
描述了一种图案形成装置检查设备、系统和方法。根据一方面，披露了一种检查方法，所述方法包括在检查系统内的多元件检测器处接收在物体的表面处散射的辐射。所述方法还包括利用处理电路测量所述多元件检测器的每个元件的输出，所述输出对应于接收到的被散射的辐射。而且，所述方法包括利用处理电路，通过识别包括所述多元件检测器的具有高于预定阈值的被测量的输出的一个或更多个元件的有效像素区域，来校准所述多元件检测器。所述方法还包括识别包括所述多元件检测器的剩余元件的无效像素区域。另外，所述方法包括将所述有效像素区域设置为所述多元件检测器与引起所述被散射的辐射的光源之间的默认对准设置。射的辐射的光源之间的默认对准设置。射的辐射的光源之间的默认对准设置。


技术研发人员：克里斯托弗
受保护的技术使用者：ASML控股股份有限公司
技术研发日：2021.01.21
技术公布日：2022/9/6