循环清洗装置的制作方法

1.本发明涉及湿法处理技术领域，特别是涉及一种循环清洗装置。


背景技术：

2.光伏发电已经成为一种可替代化石能源的技术，这依赖于近年不断降低的生产成本和光电转换效率的提升。按照光伏电池片的材质，太阳能电池大致可以分为晶体硅太阳能电池和薄膜太阳能电池。目前，以高纯度硅材作为主要原材料的晶体硅太阳能电池是主流产品，所占的比例在80％以上。晶体硅太阳能电池的制作过程需要经过硅片表面镀膜、扩散、印刷等多道工序，镀膜之前首先必须对硅片进行表面清洗和制绒。清洗的目的是要消除吸附在硅片表面的各类污染物，并制作能够减少表面太阳光反射的绒面结构。有效的绒面结构使得入射光在硅片表面多次反射和折射，增加了光的吸收，降低了反射率，有助于提高电池的性能。
3.现有清洗制绒设备往往是采用槽体容器盛装水或配比的化学药品对目标物体进行清洗或化学腐蚀处理。在对槽体容器添加药液时，需要让药液在槽内浓度、温度等各个工艺工况分布均匀。目前行业内采用的槽体容器，其槽体通常由一个主反应槽和一个副槽构成。设备运行时，主反应槽内的溶液通过溢流的方式流入副槽，而副槽中的溶液再通过循环泵回到主反应槽中完成一个循环，由此实现槽体内溶液的定时循环。但在此循环过程中，主反应槽中的药液是从下至上流动，由于湿法的不可控，可能产生循环气泡，此时硅片正处于气泡的上方，过多的气泡导致硅片不良品的增加，极大的限制了设备产能及产品良率。而且，该种循环方式对副槽容积具有一定要求，副槽内的药液被泵入主反应槽后，起码要能够填满主反应槽，使液位升高至主槽壁上边缘而产生溢流，但由于硅片放置在主反应槽中，因而主反应槽的容积更大，为了能够使溢流循环起来，需要副槽也具有较大的容积，这样就使得整个设备的体积较大。


技术实现要素：

4.基于此，有必要针对现有的循环清洗装置中主槽气泡较多，导致硅片不良品增加，以及副槽容积较大，导致整个设备体积较大的问题，提供一种待清洗硅片不受气泡影响，且体积较小的循环清洗装置。
5.根据本技术的一个方面，提供一种循环清洗装置，包括：
6.反应槽，具有主槽和副槽，所述主槽用于容纳待清洗件，并具有主槽进液口，所述副槽具有设置高度高于所述主槽进液口的副槽出液口，所述副槽出液口连通所述主槽进液口；
7.循环泵，一端连接所述主槽，另一端连接所述副槽，所述循环泵配置为能够将所述主槽内的清洗液从所述主槽内抽取至所述副槽内。
8.在其中一个实施例中，所述主槽还具有与主槽出液口，所述副槽还具有副槽进液口，所述副槽进液口连通所述主槽出液口；所述循环泵具有输入端和输出端，所述输入端通
过第一管道连通所述主槽出液口，所述输出端通过第二管道连通所述副槽进液口。
9.在其中一个实施例中，所述第一管道上设有第一通断阀，所述第一通断阀用于控制连通或隔断所述主槽出液口与所述循环泵的输入端；所述第二管道上设有第二通断阀，所述第二通断阀用于控制连通或隔断所述副槽进液口与所述循环泵的输出端。
10.在其中一个实施例中，所述反应槽包括反应槽体和隔板，所述反应槽体具有容纳腔，所述隔板设于所述容纳腔中，所述隔板将所述容纳腔分隔为所述主槽和所述副槽。
11.在其中一个实施例中，所述隔板开设有多个贯通所述隔板相对两侧的溢流口，每个所述溢流口连通所述主槽和所述副槽。
12.在其中一个实施例中，所述隔板顶端至所述容纳腔的底壁的距离小于所述容纳腔的深度，以使所述副槽出液口连通所述主槽进液口。
13.在其中一个实施例中，所述反应槽还包括用于放置所述待清洗件的载具，所述载具设于所述主槽内，所述载具的底壁开设有多个间隔排布的匀流孔。
14.在其中一个实施例中，所述副槽的容积小于所述主槽的容积。
15.在其中一个实施例中，所述循环清洗装置还包括托盘、废液槽和连通所述托盘与所述废液槽的第三管道，所述反应槽在所述托盘所在平面的正投影落在所述托盘之内。
16.在其中一个实施例中，所述循环清洗装置还包括液位监控器，所述液位监控器设于所述主槽内，用于监控所述清洗液的液面高度。
17.上述循环清洗装置，通过在反应槽中设置主槽和副槽，其中主槽用于容纳待清洗件，且具有主槽进液口，副槽具有设置高度高于主槽进液口的副槽出液口，且副槽出液口连通主槽进液口。同时通过设置一端连接主槽，另一端连接副槽的循环泵，循环泵配置为能够将主槽内的清洗液从主槽出液口抽取至副槽内，直至副槽内的清洗液再从主槽进液口溢流回至主槽内，完成一个循环清洗过程，使得在该循环过程中，主槽内的药液是从上至下流动，副槽内的药液是从下至上流动，气泡较多地产生于副槽中，并由副槽排出。由于待清洗件是容纳于主槽中而不是副槽中，气泡的产生不会影响待清洗件，相对现有技术中的清洗液流向是有副槽引入主槽，上述循环清洗装置能够避免在主槽中引入气泡，从而消除气泡对主槽中硅片的不利影响。同时，由于循环泵是将清洗液从副槽引入主槽，主槽容积大于副槽容积，主槽中并不需要流出太多清洗液即可填满副槽，副槽也不需溢流回太多清洗液即可填满主槽，从而可使副槽的容积大大减少，进而缩小了整个循环清洗装置的体积，降低了生产制造成本。
附图说明
18.为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一种实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他实施例的附图。
19.图1为一种现有实施例的循环清洗装置的工作示意图；
20.图2为本发明提供的改进实施例的循环清洗装置的工作示意图；
21.图3为本发明提供的循环清洗装置中反应槽的立体示意图；
22.图4为本发明提供的循环清洗装置中载具的立体示意图。
23.附图标记说明：
24.10、循环清洗装置；100、反应槽；110、反应槽体；111、主槽；1111、主槽进液口；1112、主槽出液口；112、副槽；1121、副槽进液口；1122、副槽出液口；120、隔板；121、溢流口；130、载具；131、横杆；132、匀流板；140、加强板；200、循环泵；300、第一管道；400；第二管道；500、托盘；600、第三管道；700、第一通断阀；800、第二通断阀。
具体实施方式
25.为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。
26.在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“液平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
27.此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
28.在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
29.在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征液平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征液平高度小于第二特征。
30.需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“液平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
31.本发明一实施例提供了一种循环清洗装置，该循环清洗装置用于将待清洗件放置于其中，并且用于通入清洗液，清洗液可在该循环清洗装置中均匀、循环地流动，使药液在循环清洗装置中的浓度、温度等各个工艺工况分布均匀，以使清洗液与待清洗件进行循环充分反应，达到良好的清洗效果。
32.下面以循环清洗结构对生产太阳能电池所用到的硅片进行清洗为例，对本技术中循环清洗装置的结构进行说明，本实施例仅用以作为范例说明，并不会限制本技术的技术范围。可以理解，在其它实施例中，该循环清洗装置不限于用于清洗硅片，也可用于循环清洗其它任何待清洗件，及用于对各种工件进行循环化学腐蚀等，在此均不作限定。
33.如图1所示，为一种循环清洗装置10的现有实施例，循环清洗装置10包括反应槽100和循环泵200。反应槽100具有主槽111和副槽112，主槽111用于容纳待清洗件，并且主槽111的相对两端与副槽112的相对两端分别连通，主槽111和副槽112中均盛有用于清洗待清洗件的清洗液。循环泵200的一端连接主槽111，另一端连接副槽112，主槽111、循环泵200和副槽112共同组成了一循环流道，循环泵200用于使主槽111和副槽112的清洗液能够在上述循环流道中循环流动，以达到对待清洗件循环清洗的目的。
34.具体地，主槽111的底部具有主槽进液口1111，顶部具有主槽出液口1112；副槽112的顶端为副槽进液口1121，底端为副槽出液口1122，其中主槽进液口1111的副槽出液口1122相互连通，主槽出液口1112与副槽进液口1121相互连通。循环泵200设置于反应槽100的底部，具有输入端和输出端，循环泵200的输出端通过第一管道300与主槽进液口1111连接，输入端通过第二管道400与副槽出液口1122连接，在该实施例中，循环泵200配置为能够将副槽112内的清洗液从副槽出液口1122抽取至主槽111内，图中箭头表示为清洗液的流向，此时主槽出液口1112的高度高于副槽进液口1121的高度，当副槽112的液位降低时，主槽111的液位升高，主槽111内的清洗液能够从主槽出液口1112溢流回副槽112内，以循环清洗待清洗件。
35.但正如背景技术所述，在上述实施例的循环过程中，主槽进液口1111设置于主槽111的底部，当清洗液被循环泵200由副槽112泵入主槽111时，主槽111中的待清洗液是从下至上从主槽111底部的主槽进液口1111流动至主槽111顶部的主槽出液口1112，由于湿法的不可控，以及待清洗液发生分解反应的原因，会产生大量循环气泡(如图1中的圆圈所示)，此时待清洗件正处于气泡的上方，过多的气泡会对影响待清洗件的清洗工艺，从而导致不良品的增加，极大地限制了设备的产能和产品的良率。并且为了实现上述循环方式，对副槽112的容积也有一定要求，副槽112内的清洗液被泵入主槽111后，需要填满主槽111，使主槽111中的液位升高至主槽111槽壁的上边缘而产生溢流，但由于主槽111用于容纳待清洗件，因此主槽111的容积更大，为了能够使清洗液填满主槽111，以使主槽111中的清洗液能够溢流至副槽112中，需要副槽112也具有较大的容积，从而才能够填满主槽111，导致整个循环清洗设备的体积也较大。
36.为了解决上述问题，本技术发明人想到，可以使气泡主要产生在副槽112中，使放置于主槽111中的待清洗件不受气泡的影响，从而可杜绝循环气泡的引入造成的不良工艺产品的问题，进而提高产品良率。
37.基于以上考虑，为了解决现有的循环清洗装置10中主槽111气泡较多，导致待清洗件的不良品增加，以及副槽112容积较大，导致整个设备体积较大的问题，本技术发明人经过深入研究，设计了一种新的清洗液循环方式，在不改变循环清洗装置10整体结构设计的前提下，只通过改变清洗液的循环流向，即可使循环气泡主要产生于副槽112中，并由副槽112排出，不影响主槽111内的待清洗件。
38.如图2所示，为循环清洗装置10中的改进实施例，与前一实施例相比，该实施例中
循环清洗装置10的结构与前一实施例中循环清洗装置10的结构基本相同，不同的是，在该实施例中，循环泵200配置为能够将主槽111内的清洗液从主槽111的底部抽取至副槽112内，图中箭头同样表示为清洗液的流向，此时副槽出液口1122的设置高度高于主槽进液口1111，主槽111的液位降低，副槽112的液位升高，直至副槽112内的清洗液再从溢流回主槽111内，以循环清洗待清洗件。此时，主槽出液口1112设置在主槽111的底部，主槽进液口1111设置在主槽111的顶部，副槽进液口1121设置在副槽112底部，副槽出液口1122设置在副槽112顶部，循环泵200的输入端通过第一管道300连通主槽出液口1112，输出端通过第二管道400连通副槽进液口1121。
39.如此，主槽111内的清洗液从主槽111的底部泵入至副槽112中，使清洗液在副槽112中从下至上流动，在副槽112中产生气泡(图2中的圆圈)，直至副槽112中的清洗液溢出流至主槽111中，主槽111中的清洗液是从上至下流动，不会产生较多气泡，使得气泡不会对主槽111中的待清洗件造成影响，解决了现有的循环清洗装置10中气泡较多，导致待清洗件的不良品增加的问题。同时，由于循环泵200是将清洗液从副槽112引入主槽111，主槽111容积大于副槽112容积，主槽111中并不需要流出太多清洗液即可填满副槽112，副槽112也不需溢流回太多清洗液即可填满主槽111，从而可使副槽112的容积大大减少，解决了现有的清洗循环装置中副槽112容积较大，导致整个设备体积较大的问题，降低了循环清洗装置10的制造成本。
40.具体地，以下再结合图1至图4，对本技术所提供的循环清洗装置10的具体结构进行说明。
41.如图3所示，循环清洗装置10的反应槽100包括反应槽体110、反应槽盖(图中未示)、隔板120和载具130(图中未示)。其中反应槽100具有一端开口的容纳腔，隔板120固定地设置在容纳腔中，以将容纳腔分隔为主槽111和副槽112；反应槽盖盖合于反应槽体110的开口端，用于起到保护作用，以避免工人沾上具有化学腐蚀性的清洗液；载具130放置于反应槽体110的主槽111中，用于一次固定较多数量的待清洗件，在待清洗件清洗完毕后，可将载具130吊起，从而一次完成多个待清洗件的清洗，主槽111中不限于只放置一个载具130，也可放置多个载具130，在此不作限定。
42.在图3中所示的实施方式中，并结合图2所示，隔板120沿反应槽100的周向围成一周，其一端抵接于容纳腔的底壁，隔板120围成的区域即为主槽111，隔板120的外壁与容纳腔的内壁之间形成的区域即为副槽112，使得副槽112沿反应槽100的周向环绕于主槽111。主槽111的底部开设有连通第一管道300的主槽出液口1112和副槽进液口1121，副槽112的底部开设有连通第二管道400的副槽出液口1121，与此对应地，主槽111和副槽112靠近容纳腔开口端的一端即分别为主槽进液口1111和副槽出液口1122。
43.较佳地，隔板120顶端距离容纳腔的底壁的距离(即隔板120的高度)小于容纳腔的深度，以使主槽进液口1111连通副槽出液口1122，当清洗液在副槽112中液面上升到越过隔板120的高度时，可自然溢流至主槽111中。在一可选实施方式中，隔板120顶端距容纳腔的底壁的距离高度可等于容纳腔的深度，在隔板120靠近容纳腔的开口端的位置开设贯通隔板120相对两侧的溢流孔(图中未示)，此时溢流孔在位于主槽111和副槽112的相对两端(即沿溢流孔的轴向相对两端)分别作为主槽进液口1111和副槽出液口1122，当副槽112内清洗液的液位高度到达溢流孔的高度时，可通过溢流孔溢至主槽111内。
44.更佳地，请继续参阅图3，在隔板120的外壁与反应槽100的内壁之间还设置有多个间隔排布的加强板140，加强板140将副槽112分隔为了多个相邻的子副槽112，每块加强板140开设有贯通加强板140厚度方向相对两侧的通孔，从而将既能够对隔板120起到加强作用，又不影响清洗液在多个子副槽112之间的流动。
45.进一步地，在隔板120的上边缘(即隔板120靠近容纳腔的开口位置)还开设有多个间隔排布且贯通隔板120厚度方向两侧的溢流口121，以使每个溢流口121连通主槽111和副槽112。如此，当清洗液在从副槽出液口1122通过主槽进液口1111溢流至主槽111时，并不是所有的清洗液都只能从副槽出液口1122通过主槽进液口1111溢流至主槽111，部分清洗液还可通过溢流口121从副槽112溢流至主槽111中，减缓了清洗液从副槽112向主槽111时的流速，避免了溢流过于激烈而产生更多的气泡，而对待清洗件的质量造成更为不利的影响。
46.在其它一些可选实施方式中，隔板120可以是一块或多块单独的平板，也可以是一块或多块弯折的板，其外周缘抵接于反应槽体110的侧壁和底壁，从而能够将反应槽体110的容纳腔分隔出一个或多个间隔排布的副槽112，副槽112的排布方式不限，可为对称间隔排布，也可任意排布。优选地，可以通过隔板120的具体布置，将分隔而成的多个副槽112均匀间隔地排布于主槽111的四周，或按上述实施方式使副槽112环绕于主槽111的四周，以更好地匹配反应槽100盖的设计，使反应槽100盖易于加工。
47.如上文所述，由于主槽111中并不需要流出太多清洗液即可填满副槽112，副槽112也不需溢流回太多清洗液即可填满主槽111，因此副槽112的容积可大大减少。具体地，可以通过改变隔板120的布置方式，仅在主槽111的长度或宽度方向一侧设置一个副槽112，或缩小副槽112的长度、宽度或高度，从而使副槽112的容积远小于主槽111的容积。例如，在副槽112指向主槽111的方向上，副槽112的相对两个侧壁之间的距离(即副槽112的横截面的宽度)小于主槽111的相对两个侧壁之间的距离(即主槽111的横截面的宽度)，和/或在反应槽100的高度方向上，副槽112的底壁高于主槽111的底壁，来达到减小副槽112容积的目的，从而可以为循环清洗装置10留出更多的空间安装其它管路或元件。
48.值得注意的是，在其它一些实施例中，主槽111和副槽112还可以是分体式的结构，即主槽111和副槽112为单独的槽体，循环泵200的输入端和输出端依然分别通过第一管道300和第二管道400连通主槽出液口1112和副槽进液口1121，而主槽进液口1111和副槽出液口1122则通过另一管道连通。较佳地，用于连通主槽进液口1111和副槽出液口1122的管路可设计为弯折状或倾斜设置，以使副槽112中的清洗液在液面上升至一定高度后可在重力作用下通过该管道溢流至主槽111中。
49.此外，在一优选实施方式中，如图2所示，在反应槽体110还包括过滤板150，过滤板150设置于主槽出液口1112和副槽进液口1121处，并覆盖主槽出液口1112和副槽进液口1121，过滤板150开设有多个间隔排布的过滤孔，用于阻止反应槽100中的杂质，例如阻止破碎的待清洗件流入至反应槽100下方的第一管道300或第二管道400中，从而能够避免管道发生堵塞。
50.如图4所示，在一些实施例中，载具130包括多根间隔排布的横杆131，每根横杆131设于多个间隔排布的限位槽，相邻两根横杆131的限位槽相对设置，从而能够使待清洗件的相对两端边缘限位于横杆131的限位槽中，从而使多个待清洗件固定安装在载具130上。较佳地，载具130的底部设有一匀流板132，匀流板132上开设有多个间隔排布的匀流孔，每个
匀流孔贯通匀流板132在其厚度方向上的相对两侧，设置匀流板132的目的是清洗液在主槽111中循环流动时，能够使清洗液均匀地分散地流入载具130内，提高了清洗液的均匀性，优化了清洗工艺，使待清洗件的工艺性能得到提高。
51.请继续参阅图1和图2，在一较佳实施方式中，循环清洗装置10还包括废液槽(图中未示)、托盘500以及连通废液槽与托盘500的第三管道600，反应槽100在托盘500所在平面的正投影落在托盘500之内。托盘500用于容纳从反应槽100中渗出的清洗液，或者容纳当载具130被吊起来时从载具130上滴下来的清洗液，第三管道600用于将容纳于托盘500中的废清洗液排出至废液槽中。如此，通过设置托盘500、废液槽及第三管道600，可避免具有化学腐蚀性质的清洗液洒落至循环清洗装置10周围的环境，杜绝了安全隐患的发生。较佳地，托盘500与第三管道600的连接口处也可设置过滤板150，以避免托盘500中的杂质流入到第三管道600中，而对第三管道600造成堵塞。
52.在一些实施例中，当副槽112的个数较多时，或副槽112环绕主槽111一周时，可配置具有多个输出端的循环泵200，进而使循环泵200的多个输出端可分别连接一根第二管道400，使得循环泵200通过多根第二管道400同时连接每个副槽112的副槽进液口1121，或仍旧配置具有一个输出端的循环泵200，使第二管道400包括一根主管道和多根子管道，主管道连接循环泵200的输出端，多根子管道汇聚连接于主管道，每根子管道远离主管道的一端分别连接一个副槽112的副槽进液口1121。
53.较佳地，在第一管道300上可设置第一通断阀700，在第二管道400上可设置第二通断阀800，第一通断阀700用于控制连通或隔断主槽出液口1112与循环泵200的输入端，第二通断阀800用于控制连通或隔断副槽进液口1121与循环泵200的输出端。在循环清洗装置10正常运行时，第一通断阀700和第二通断阀800均正常开启，当循环泵200需要进行维护或反应槽100中的清洗液的液面不正常时，第一通断阀700和第二通断阀800均自动关闭，以避免在对循环泵200维护时清洗液对循环泵200或对工人造成腐蚀，或避免循环泵200还在清洗液的液面不正常时仍然进行抽液，导致对循环泵200造成损坏。
54.可选地，还可以在第一管道300上和第二管道400上安装流量控制阀或单向阀，安装流量控制阀可调节管道中的清洗液流量，安装单向阀可控制清洗液不会沿着与规定的流动方向相反的方向流动，进而保证不会在主槽111中产生较多气泡，保证清洗效果，减少不良品的产生。
55.此外，在另一可选实施方式中，循环清洗装置10还包括液位监控器(图中未示)，该液位监控器设置在主槽111内，用于监控清洗液在主槽111中的液位，以使待清洗件始终浸没于清洗液中，当液位不正常时系统可自动关闭第一通断阀700和第二通断阀800。
56.上述循环清洗装置10，其工作步骤如下：
57.首先，在反应槽100中注入清洗液；然后，将装载有待清洗件的载具130放置于主槽111内，使载具130完全浸没于待清洗液中；最后，开启循环泵200，清洗液从主槽111底部的主槽出液口1112流出，主槽111液面下降，清洗液经过副槽112底部的副槽进液口1121被泵至副槽112，副槽112液面上升，直至溢流至副槽112中填满主槽111。如此循环，实现待清洗件的循环清洗过程。
58.由此可见，相对现有技术中的清洗液流向是由副槽112引入主槽111，而在主槽111中产生大量气泡，本技术提供的循环清洗装置10能够避免在主槽111中引入气泡，从而消除
气泡对主槽111中待清洗件的不利影响。同时，副槽112的容积也可大大减少，进而缩小了整个循环清洗装置10的体积，降低了生产制造成本。
59.以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
60.以上所述实施例仅表达了本发明的其中一种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明的保护范围应以所附权利要求为准。