激光放电腔内金属氟化物粉尘捕集用填充床过滤器的制作方法

技术特征：
1.一种光源装置，包括：气体放电级，包括：光学放大器，包括被配置为保持气体放电介质的腔室，所述气体放电介质输出光束；以及成组光学元件，所述成组光学元件被配置为围绕所述光学放大器形成光谐振器；以及金属氟化物阱，所述金属氟化物阱被配置为捕集从所述气体放电级生成的金属氟化物粉尘，所述金属氟化物阱包括：静电除尘器；以及填充床过滤器，被设置为围绕所述静电除尘器，其中，所述填充床过滤器包括被配置为吸收金属氟化物粉尘的多个珠粒。2.根据权利要求1所述的光源装置，其中，所述填充床过滤器包括被配置为控制所述气体放电介质的通过所述金属氟化物阱的流量的总表面积。3.根据权利要求1所述的光源装置，其中，所述填充床过滤器包括由挡板隔开的多个填充床过滤器。4.根据权利要求3所述的光源装置，其中，所述多个填充床过滤器各不相同。5.根据权利要求4所述的光源装置，其中，所述多个填充床过滤器的表面积各不相同。6.根据权利要求4所述的光源装置，其中，所述多个填充床过滤器的填充密度各不相同。7.根据权利要求1所述的光源装置，其中，所述多个珠粒均为球形，并且包括光滑的抛光外表面。8.根据权利要求1所述的光源装置，其中，所述多个珠粒包括耐氟化物腐蚀材料。9.根据权利要求1所述的光源装置，其中，所述多个珠粒包括多个第一珠粒，以及不同于所述多个第一珠粒的多个第二珠粒。10.根据权利要求1所述的光源装置，其中，所述气体放电介质包括准分子介质。11.根据权利要求10所述的光源装置，其中，所述气体放电介质包括f2、arf、krf和/或xef。12.根据权利要求1所述的光源装置，其中，所述成组光学元件包括：光耦合器(oc)，与所述腔室的第一光端口光学连通；以及线宽收窄模块(lnm)，与所述腔室的第二光端口光学连通。13.根据权利要求1所述的光源装置，还包括：压力控制系统，所述压力控制系统被耦合至所述气体放电级，并且被配置为引导所述气体放电介质的一部分流过所述金属氟化物阱的输入端口，流过所述填充床过滤器，并且流过所述金属氟化物阱的一个或多个输出端口。14.一种金属氟化物阱，所述金属氟化物阱被配置为捕集气体放电级的气体放电介质中生成的金属氟化物粉尘，所述金属氟化物阱包括：静电除尘器；以及填充床过滤器，被设置为围绕所述静电除尘器，其中，所述填充床过滤器包括被配置为吸收所述气体放电介质中的金属氟化物粉尘的多个珠粒。
15.根据权利要求14所述的金属氟化物阱，其中，所述填充床过滤器包括被配置为控制所述气体放电介质的通过所述金属氟化物阱的流量的总表面积。16.根据权利要求14所述的金属氟化物阱，其中，所述多个珠粒均为球形。17.根据权利要求16所述的金属氟化物阱，其中，每个珠粒的直径为约1mm至约10mm。18.根据权利要求16所述的金属氟化物阱，其中，每个珠粒包括光滑的抛光外表面。19.根据权利要求14所述的金属氟化物阱，其中，所述多个珠粒包括耐氟化物腐蚀材料。20.根据权利要求19所述的金属氟化物阱，其中，所述耐氟化物腐蚀材料包括类玻璃组分、晶体组分、金属和/或氧化物。21.根据权利要求19所述的金属氟化物阱，其中，所述耐氟化物腐蚀材料包括铝、硬铝、氧化铝、镍、蒙乃尔合金、黄铜、铜、锌、硼化钙和/或氟化钙。22.根据权利要求14所述的金属氟化物阱，其中，所述多个珠粒包括多个第一珠粒，以及不同于所述多个第一珠粒的多个第二珠粒。23.根据权利要求22所述的金属氟化物阱，其中，所述多个第一珠粒具有第一尺寸，并且所述多个第二珠粒具有不同于所述第一尺寸的第二尺寸。24.根据权利要求22所述的金属氟化物阱，其中，所述多个第一珠粒包括第一材料，并且所述多个第二珠粒包括不同于所述第一材料的第二材料。25.一种捕集金属氟化物粉尘的方法，金属氟化物粉尘在金属氟化物阱中的气体放电级的气体放电介质中生成，所述方法包括：组装除尘管组件，所述除尘管组件包括位于第一管端支撑件和第二管端支撑件之间的多个除尘管；围绕静电除尘器，将多个填充床过滤器组装在所述除尘管组件中，以形成填充床过滤器组件，其中，每个填充床过滤器包括被配置为吸收所述气体放电介质中的金属氟化物粉尘的多个珠粒；将所述填充床过滤器组件插入所述金属氟化物阱中；引导所述气体放电介质流过所述金属氟化物阱；以及将金属氟化物粉尘捕集在所述填充床过滤器组件中。26.根据权利要求25所述的方法，其中，组装所述多个填充床过滤器包括在所述多个除尘管之间填充所述多个珠粒。27.根据权利要求26所述的方法，其中，所述填充包括在多个内部除尘管中填充多个内部珠粒，以及在多个外部除尘管中填充不同于所述多个内部珠粒的多个外部珠粒。28.根据权利要求27所述的方法，其中，所述多个外部珠粒具有不同于所述多个内部珠粒的表面积和/或填充密度。29.根据权利要求25所述的方法，还包括：从所述填充床过滤器组件中移除所述多个珠粒，洗涤所述多个珠粒，以及将所述多个珠粒重新组装在所述填充床过滤器组件中。30.根据权利要求25所述的方法，还包括从所述填充床过滤器组件中移除所述多个珠粒，以及将多个第二珠粒重新组装在所述填充床过滤器组件中。

技术总结
一种光源装置(200)包括气体放电级(210)和金属氟化物阱(300)。气体放电级包括光学放大器(206)和成组光学元件(250、260)。光学放大器包括被配置为保持气体放电介质(213)的腔室(211)，气体放电介质输出光束。成组光学元件被配置为围绕光学放大器形成光谐振器。金属氟化物阱被配置为捕集从气体放电级生成的金属氟化物粉尘。金属氟化物阱包括静电除尘器(320)和围绕静电除尘器设置的填充床过滤器(400、402、404)。填充床过滤器包括被配置为吸收金属氟化物粉尘(208)的多个珠粒(406、408)。408)。408)。


技术研发人员：U
受保护的技术使用者：西默有限公司
技术研发日：2020.12.10
技术公布日：2022/8/5