一种显示面板及其制备方法、显示装置与流程

一种显示面板及其制备方法、显示装置
1.本技术为基于申请日为2021年6月30日，申请号为202110739070.9，发 明名称为“一种显示面板及其制备方法、显示装置”的专利申请提出的分案申 请。
技术领域
2.本发明实施例涉及显示面板的技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制备 方法、显示装置。


背景技术：

3.光刻技术通过将涂有光敏材料的表面以一定图案曝光形成曝光区域和未曝 光区域，保留曝光区域图案或者未曝光区域图案，主要用于制造半导体元件、 印刷电路板、显示面板等。
4.现有的显示面板膜层通常包括显示功能层以及增透功能层，增透功能层采 用光刻技术制得，由于光刻工艺在进行曝光显影时，容易导致增透功能层底部 产生孔洞、底切等现象，影响显示面板的增透效果。


技术实现要素：

5.本发明提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，以避免光刻曝光显影 后低折层的底部产生的底切等现象，进一步提高显示面板的增透效果。
6.第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，包括：
7.显示功能层，包括多个子像素以及围绕所述子像素的像素定义结构；
8.增透功能层，位于所述显示功能层的出光侧，包括第一折射率图案，所述 第一折射率图案与所述像素定义结构交叠；
9.基材层，位于所述增透功能层与所述显示功能层之间，包括匀光结构，所 述匀光结构包括第一倾斜侧壁，沿所述子像素的出光方向，所述第一倾斜侧壁 朝向远离与其相邻的所述子像素的方向倾斜；
10.所述第一折射率图案覆盖所述匀光结构。
11.第二方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括上述第 一方面所述的显示面板。
12.第三方面，本发明实施例还提供了一种显示面板的制备方法，该制备方法 包括：
13.形成显示功能层，所述显示功能层包括多个子像素以及围绕所述子像素的 像素定义结构；
14.在所述显示功能层的出光侧形成基材层，所述基材层包括匀光结构，所述 匀光结构包括第一倾斜侧壁，沿所述子像素的出光方向，所述第一倾斜侧壁朝 向远离与其相邻的所述子像素的方向倾斜；
15.在所述基材层的出光侧形成增透功能层，所述增透功能层包括第一折射率 图案，所述第一折射率图案与所述像素定义结构交叠，所述第一折射率图案覆 盖所述匀光结构。
16.本发明实施例提供的显示面板，包括显示功能层，包括多个子像素以及围 绕子像素的像素定义结构，增透功能层，位于显示功能层的出光侧，包括第一 折射率图案，第一折射率图案与像素定义结构交叠，基材层，位于增透功能层 与显示功能层之间，包括匀光结构，匀光结构包括第一倾斜侧壁，沿子像素的 出光方向，第一倾斜侧壁朝向远离与其相邻的子像素的方向倾斜，第一折射率 图案覆盖匀光结构。本发明实施例的技术方案，通过在显示功能层和增透功能 层之间设置包含有匀光结构的基材层，使得增透功能层中的第一折射率图案包 覆匀光结构，将匀光结构与出光面形成第一倾斜侧壁，使入射至该第一倾斜侧 壁上的曝光光线发生散射，使得光刻胶入射的光线在第一折射率图案的底层的 感光变强，提高了增透功能层中第一折射率图案的固化程度，当第一折射率图 案靠近基材层的底层的感光变强时，能够有效避免第一折射率图案底部出现因 感光较弱引起的孔洞、底切等现象，进一步提高了显示面板的增透效果。
附图说明
17.图1为现有技术中的一种显示面板的结构示意图；
18.图2为本发明实施例提供的一种显示面板的结构的俯视示意图；
19.图3为图2中沿虚线aa’切割形成的剖面示意图；
20.图4为本发明实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程示意图；
21.图5为本发明实施例提供的一种显示面板的工艺制备流程示意图；
22.图6为本发明实施例提供的一种显示面板中曝光光线入射至匀光结构的局 部示意图；
23.图7为图3中虚线框bb的放大示意图；
24.图8为本发明实施例提供的一种显示面板中匀光结构的结构示意图；
25.图9为本发明实施例提供的又一种显示面板中匀光结构的结构示意图；
26.图10为本发明实施例提供的一种显示面板中基材层的结构示意图；
27.图11为本发明实施例提供的又一种显示面板中基材层的结构示意图；
28.图12为本发明实施例提供的一种显示面板中子像素的结构示意图；
29.图13为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。
具体实施方式
30.下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此 处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需 要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结 构。
31.另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部 分而非全部内容。
32.本发明实施例提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置，该显示面板 包括显示功能层，包括多个子像素以及围绕子像素的像素定义结构，增透功能 层，位于显示功能层的出光侧，包括第一折射率图案，第一折射率图案与像素 定义结构交叠，基材层，位于增透功能层与显示功能层之间，包括匀光结构， 匀光结构包括第一倾斜侧壁，沿子像素的出光方向，第一倾斜侧壁朝向远离与 其相邻的子像素的方向倾斜，第一折射率图案覆盖匀光
结构。
33.本发明实施例提供的显示面板，通过在显示功能层和增透功能层之间设置 包含有匀光结构的基材层，使得增透功能层中的第一折射率图案包覆匀光结构， 将匀光结构与出光面形成第一倾斜侧壁，使入射至该第一倾斜侧壁上的曝光光 线发生散射，使得光刻胶入射的光线在第一折射率图案的底层的感光变强，提 高了增透功能层中第一折射率图案的底层的固化程度，当第一折射率图案的底 层的感光变强时，能够有效避免第一折射率图案底部出现因感光较弱引起的孔 洞、底切等现象。
34.以上是本发明的核心思想，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明 实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。基于本发明中的实施例，本领域 普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下，所获得的所有其他实施例，都属 于本发明保护的范围。
35.图1为现有技术中的一种显示面板的结构示意图。如图1所示，现有的显 示面板膜层包括显示功能层012和增透功能层013，增透功能层013采用光刻 技术制得，由于光刻工艺在进行曝光显影时，曝光光源从上到下垂直入射至增 透功能层013，入射至增透功能层013底部的光线的感光较弱。由于在显示面 板制备过程中，增透功能层013通常采用负性光阻材料制得，该类负性光阻材 料固化效果差，在采用光刻技术曝光显影时，非曝光区固化效果较差的底部也 容易被洗去，从而在增透功能层013的底部出现如图1所示的底切现象(如图 1中虚线框cc所示)。
36.基于上述现有技术中存在的问题，本实施例提供了一种显示面板，能够有 效解决增透功能层底部因感光度较低引起的底切、孔洞、图案边缘翘曲等现象， 进一步提高显示面板的增透效果。
37.图2为本发明实施例提供的一种显示面板的结构的俯视示意图。图3为图 1中沿虚线aa’切割形成的剖面示意图。参照图2和图3，该显示面板10包括 显示功能层12，包括多个子像素120以及围绕子像素120的像素定义结构122， 增透功能层13，位于显示功能层12的出光侧，包括第一折射率图案131，第一 折射率图案131与像素定义结构122交叠，基材层14，位于增透功能层13与 显示功能层12之间，包括匀光结构141，匀光结构141包括第一倾斜侧壁aa， 沿子像素120的出光方向，第一倾斜侧壁aa朝向远离与其相邻的子像素120 的方向倾斜，第一折射率图案131覆盖匀光结构141。
38.其中，像素定义结构122用于限定发光区域，有利于改善混色问题。本实 施例中，增透功能层13用于提高光线的透过率，提高显示效率。该增透功能层 13中的第一折射率图案131通过光刻工艺进行曝光显影制得，而由于曝光光源 是从上至下入射至显示面板，使得增透功能层中第一折射率图案131表面的光 线感光较强而底部的感光较弱，，因此，光刻后得到的第一折射率图案131的底 部固化程度较低，而较低的固化程度会进一步导致增透功能层13中的第一折射 率图案131靠近基材层14的底部出现底切或孔洞等现象。为了避免这类情况的 发生，本发明实施例中，在增透功能层13和显示功能层12之间设计的基材层 14上设计多个匀光结构141，每个匀光结构141设置在每个第一折射率图案131 靠近显示功能层12的底部，并由每个第一折射率图案131覆盖每个匀光结构 141。下面对匀光结构141改善第一折射率图案131底部固化程度的原理进行详 细解释。
39.首先，由于第一折射率图案131通过光刻技术曝光显影后制得，在增透功 能层13中呈凸起状结构，当每个第一折射率图案131覆盖每个匀光结构141时， 该类匀光结构141
也是在基材层上成凸起状的结构。在本实施例中，由图3所 示的剖面图所示，采用光刻技术曝光显影后形成的第一折射率图案131为上表 面较窄下表面较宽的正梯形结构，每个匀光结构141包覆于对应的第一折射率 图案131内部，也呈上表面较窄下表面较宽的正梯形结构。在其他一些实施例 中，第一折射率图案131的形状还可以是其他，由本领域技术人员在进行光刻 前的图案化设计决定，此处不做限定。
40.参照图3所示的剖面图，每个匀光结构141在基材层14呈向上凸起的正梯 形结构，因此，存在第一倾斜侧壁aa与基材层14远离显示功能层12的一侧表 面形成小于90
°
的夹角。本实施例中，利用光刻技术进行曝光显影时，基材层 14中的每个匀光结构141位于曝光区，因此，当曝光光线照射到匀光结构141 的第一倾斜侧壁aa上时，该第一倾斜侧壁aa上存在很多曝光光线发生散射， 使得光刻胶入射的光线在第一折射率图案131的底层的感光变强，提高了增透 功能层13中第一折射率图案131底层的固化程度，当第一折射率图案131靠近 基材层14的底层的感光变强时，能够有效避免第一折射率图案131底部出现因 感光较弱引起的孔洞、底切等现象。
41.在描述完本实施例提供的显示面板的结构之后，紧接着阐述本实施例的显 示面板的在工艺制备时的具体流程。
42.图4为本发明实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程示意图。如图 4所示，该方法具体包括如下步骤：
43.s110、形成显示功能层，显示功能层包括多个子像素以及围绕子像素的像 素定义结构。
44.s120、在显示功能层的出光侧形成基材层，基材层包括匀光结构，匀光结 构包括第一倾斜侧壁，沿子像素的出光方向，第一倾斜侧壁朝向远离与其相邻 的子像素的方向倾斜。
45.s130、在基材层的出光侧形成增透功能层，增透功能层包括第一折射率图 案，第一折射率图案与像素定义结构交叠，第一折射率图案覆盖匀光结构。
46.下面以工艺制备角度来详细说明本实施例提供的显示面板的制备方法。
47.图5为本发明实施例提供的一种显示面板的工艺制备流程示意图。参照图 4，该工艺制备方法具体包括如下步骤：
48.参照图5的a)图，提供一阵列基板11。
49.参照图5的b)图，在阵列基板上11形成显示功能层12，显示功能层12 包括多个子像素120以及围绕子像素120的像素定义结构122。
50.其中，阵列基板11上形成显示功能层12的制备方法可以采用本领域技术 人员常用的技术手段，此处不做限定。
51.参照图5的c)图，在显示功能层12的出光侧形成基材层14，基材层14 包括匀光结构141，匀光结构141包括第一倾斜侧壁，沿子像素120的出光方 向，第一倾斜侧壁朝向远离与其相邻的子像素120的方向倾斜。
52.示例性的，在本实施例中，可以通过沉积方法在显示功能层的出光层沉积 一层材料以形成基材层。基材层上的匀光结构可一体成型设计，也可以在沉积 基材层后，利用光刻技术在基材层上图形化设计与基材层相同材料的结构，形 成匀光结构。
53.需要说明的是，本领域技术人员还可利用其它图形化工艺例如纳米压印的 方式
将光刻胶进行图案化，在本实施例中，对此不做限定。
54.另外需要说明的是，若采用上述实施例提供的将触控功能层中第二绝缘层 与第二电极层直接复用为基材层，则可省去单独制备基材层的工序。
55.参照图5的d)图，在基材层14的出光侧形成增透功能层13，增透功能层 13包括靠近基材层的低折层130。
56.类似的，参照上述形成基材层中的工艺步骤，在基材层12上制作一层低折 层130，以提高光线的透过率。
57.紧接着，参照图5的e)图，采用光刻工艺进行曝光。
58.具体地，本实施例中以低折层130所在的膜层作为负性光刻胶，通过旋涂 或喷涂的工艺可以调节光刻胶的厚度。紧接着，采用光刻技术对低折层130进 行曝光，其中，曝光光源在光罩15的开口区域入射。
59.参照图5中的f)图，可以采用湿法刻蚀工艺进行图案转移，将带有光刻胶 掩膜体的低折层130清洗，得到在低折层1311中周期排布的第一折射率图案131。
60.需要说明的是，本实施例中光刻胶选用负性光刻胶，通常由感光树脂、增 感剂和溶剂三种主要成分组成的对光感的混合液体。当感光树脂经光照后，在 曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能发生明显变化，后 经适当的溶剂处理，溶去可溶性部分，得到所需图案，即，本实施例中最后得 到的第一折射率图案。负性光刻胶材料固化效果差，在采用光刻技术曝光显影 时，在显影非曝光区固化效果较差的底部也容易被洗去。
61.可选地，继续参照图3，第一倾斜侧壁aa与出光面的夹角γ≥45
°
。
62.如上所述，第一倾斜侧壁aa可以理解为与基材层14远离显示功能层12 的一侧表面形成小于90
°
的夹角，该夹角即第一倾斜侧壁aa与出光面的夹角， 用γ表示。为了使第一折射率图案131的底层固化，入射的光线打到第一倾斜 侧壁aa上后经过反射，反射光线的方向需保持尽量照射第一折射率图案131 底部的方向。图6为本发明实施例提供的一种显示面板中曝光光线入射至匀光 结构的局部示意图。参照图6，光线入射至第一倾斜侧壁aa后，反射光线至第 一折射率图案131底部的光路图如箭头所示，存在2θ≥90
°
，即，θ≥45
°
。在此基 础上，将第一倾斜侧壁aa与出光面的夹角γ设置为≥45
°
时，可有效保证第一折 射率图案在可控范围内避免底部出现底切现象。
63.可选地，继续参照图6，在出光方向上，匀光结构141的高度h≥0.5μm。
64.参照图3，由于匀光结构141包覆于第一折射率图案131内部，主要用于 曝光光线入射时，使曝光光线发生散射，以此增加照射到第一折射率图案131 底部的感光效果。若匀光结构141的高度小于0.5μm时，匀光结构141的第一 倾斜侧壁aa的光线附着面积减小，当光线入射至第一倾斜侧壁aa时，曝光光 线发生较少的散射，无法改善第一折射率图案131底部感光较弱的问题。在上 述实施例第一倾斜侧壁aa与出光面的夹角γ≥45
°
的基础上，匀光结构141的高 度h确定大于或等于0.5μm时，增大了匀光结构141的第一倾斜侧壁aa上的 光线附着面积太大，曝光光线在第一倾斜侧壁aa上发生散射的数目增多，以此 提高反射到第一折射率图案131底部的感光强度，增大了第一折射率图案131 的底部固化程度。
65.本实施例提供的显示面板，包括显示功能层，包括多个子像素以及围绕子 像素的像素定义结构，增透功能层，位于显示功能层的出光侧，包括第一折射 率图案，第一折射率
图案与像素定义结构交叠，基材层，位于增透功能层与显 示功能层之间，包括匀光结构，匀光结构包括第一倾斜侧壁，沿子像素的出光 方向，第一倾斜侧壁朝向远离与其相邻的子像素的方向倾斜，第一折射率图案 覆盖匀光结构。本实施例的技术方案，通过在显示功能层和增透功能层之间设 置包含有匀光结构的基材层，使得增透功能层中的第一折射率图案包覆匀光结 构，将匀光结构与出光面形成第一倾斜侧壁，使入射至该第一倾斜侧壁上的曝 光光线发生散射，使得光刻胶入射的光线在第一折射率图案的底层的感光变强， 提高了增透功能层中第一折射率图案的底层的固化程度，当第一折射率图案靠 近基材层的底层的感光变强时，能够有效避免第一折射率图案底部出现因感光 较弱引起的孔洞、底切等现象。
66.可选地，匀光结构可以环绕子像素设置，也可以在子像素的周边离散设置。
67.可选地，第一折射率图案的材料为负性光阻材料。
68.其中，负性光阻材料是一种含有具感光特性的化合物和环化橡胶类树脂的 有机溶液，经光线照射后产生架桥反应，经重合、硬化且利用显影剂后形成具 备不溶特性，也就是说，可利用曝光光线后形成的曝光部分和非曝光部分产生 溶解度的差异，利用该特性进行图案的成像。采用光刻技术进行曝光显影时， 负性光阻材料具备较高的化学稳定性和灵敏度，并且耐湿法刻蚀性的特点。
69.在本实施例中，利用光刻技术进行曝光显影时，存在曝光区和非曝光区， 利用如上所述负性光阻材料的优质特性，经过图案化设计及曝光显影后容易制 得第一折射率图案，并且第一折射率图案的形成和尺寸容易控制。
70.继续参照图3，第一折射率图案131包括第二倾斜侧壁ab，沿子像素120 的出光方向，第二倾斜侧壁ab朝向远离与其相邻的子像素120的方向倾斜。
71.如上所述，第一折射率图案131为呈凸起装的正梯形结构，其覆盖匀光结 构141，因此，第一折射率图案131的第二倾斜侧壁ab与匀光结构141的第一 倾斜侧壁aa朝向相同，均朝向远离与其相邻的子像素120的方向倾斜，便于曝 光光线入射至侧壁上发生散射。
72.需要说明的是，本实施例中的第二倾斜侧壁ab与上述实施例中的第一倾 斜侧壁aa与出光面的夹角不同。
73.在本实施例中，参照图3，第一折射率图案131的第二倾斜侧壁ab与出光 面的夹角用δ表示，匀光结构141的第一倾斜侧壁aa与出光面的夹角γ越大， 第一折射率图案131的第二倾斜侧壁ab与出光面的夹角δ越大。例如，在制作 本实施例中的显示面板时，将第一倾斜侧壁aa与出光面的夹角γ设置为45
°
时， 第二倾斜侧壁ab与出光面的夹角δ为70
°
；当第一倾斜侧壁aa与出光面的夹角 γ设置为50
°
时，第二倾斜侧壁ab与出光面的夹角δ为73
°
；当第一倾斜侧壁aa 与出光面的夹角γ设置为55
°
时，第二倾斜侧壁ab与出光面的夹角δ为75
°
；当 第一倾斜侧壁aa与出光面的夹角γ设置为60
°
时，第二倾斜侧壁ab与出光面 的夹角δ为78
°
。通过设置不同的夹角，可以有效控制曝光光线入射至倾斜侧壁 后光线的散射路径的长短，增强光刻胶入射的光线在第一折射率图案131的底 层的感光强度，进一步提高增透功能层13中第一折射率图案131的底层与基材 层14远离显示功能层12一侧表面的固化程度。
74.图7为图3中虚线框bb的放大示意图。如图7所示，在平行出光面的方向 上，邻近同一子像素120的第一倾斜侧壁aa和第二倾斜侧壁ab中，第一倾斜 侧壁aa与第一个子像素
120的距离为第一距离l1，第二倾斜侧壁ab与该子 像素120的距离为第二距离l2，第一距离l2和第二距离l1的差值为2-3μm。
75.其中，第一折射率图案131与像素定义结构122交叠，一个子像素120位 于像素定义结构122的开口内，能够有效避免出现混色现象。
76.如图7所示，第一折射率图案131的开口大于像素定义结构122的开口。 在其他实施方式中，可以设置第一折射率图案的开口小于像素定义结构的开口， 即第一折射率图案与子像素存在交叠部分。
77.参照图7，匀光结构141的第一倾斜侧壁aa到图中子像素120的延长方向 的距离为l1，第一折射率图案131的第二倾斜侧壁ab到图中子像素120的延 长方向的距离为l2。为了能够有效控制曝光光线入射至倾斜侧壁后发生散射后， 打到第一折射率图案131的光线能够有效到达其底部，使得第一折射率图案131 的底部也具备较强的感光度，以此增加增透功能层的固化程度。当第一距离l1 与第二距离l2的差值小于2μm时，曝光光线入射至倾斜侧壁上后反射出光线 较远，当第一距离l1与第二距离l2的差值大于3μm时，曝光光线入射至倾斜 侧壁后反射出的光线因距离较远无法到达底部，这会导致第一折射率图案131 的底层极易出现孔洞的现象。
78.可选地，继续参照图3，增透功能层还包括第二折射率层132，第二折射率 层132位于第一折射率图案131的远离显示功能层12的一侧，第二折射率层 132的折射率大于第一折射率图案131的折射率。
79.本实施例中的增透功能层13用于增加光线的透过率，在采用光刻技术形成 第一折射率图案131的基础上，增设第二折射率层132有利于进一步引导光线 的出射，避免光线直接到较高折射率增时反射封闭在膜层中，从而实现增透的 效果。
80.图8为本发明实施例提供的一种显示面板中匀光结构的结构示意图。图9 为本发明实施例提供的又一种显示面板中匀光结构的结构示意图。参照图8该 匀光结构为第一凸起结构142，参照图9该匀光结构为凹陷结构143。
81.参照图8，第一凸起结构142形成在曝光区151的边缘内侧，由于曝光光 线入射时，会在曝光区151和非曝光区152发生光线的突变，因此需要利用在 基材层14上形成第一凸起结构142使光线尽可能散射，分散底部感光量，改善 第一折射率图案131底部的光固化程度，避免第一折射率图案131底部出现孔 洞、底切等现象。
82.本实施例中，第一凸起结构142的具体的形成方式可参考上述实施例中呈 正梯形凸起状的匀光结构的形成方式。当曝光光线入射时，光线打到基材层14 上形成的第一凸起结构142，根据凸起结构本身凸起的特征，使得入射的曝光 光线沿该第一凸起结构142的表面发生多角度的散射，以此分散底部散射光线， 提高底部的感光度，进而提高增透功能层的固化程度。
83.另外，当匀光结构为第一凸起结构142时，图8中箭头表示光线的光路图， 观察图8可以发现，部分原来发生全反射的光可以出射，进一步提升光效。
84.参照图9，凹陷结构143也形成在曝光区151的边界处，当曝光光线入射 时，曝光光线达到基材层14上形成的凹陷结构143，使得入射的曝光光线沿凹 陷结构143的表面发生多角度的散射，同样可以分散底部散射光线，提高底部 的感光度，进而提高增透功能层的固化程度。
85.由于曝光光线散射的作用，使得入射的光线在增透功能层13的底层的感光 度较高，因此，当匀光结构在基材层14上呈凹陷状时，仍能保证增透功能层 13在基材层14上的固化程度，不会因为体积收缩而影响增透功能层整体底部 出现孔洞、底切等现象。
86.可选地，基材层包括第二凸起结构，第二凸起结构包括与子像素交叠的部 分，第二凸起结构包括第一倾斜侧壁。
87.本实施例中的第二凸起结构可参考上述实施例中呈凸起状的匀光结构141， 该第二凸起结构较上述实施例中的第一凸起结构体积较大，本实施例中的第二 凸起结构可参照图3，此处不再赘述。
88.另外需要说明的是，参照图3，基材层中包括呈凸起状的第二凸起结构时， 图3中箭头表示光线的光路图，观察图3可以发现，垂直出射的光线直接射出， 倾斜角度较大的光线依次穿过基材层14、第一折射率图案131以及第二折射率 层132透射出去，其中，第一折射率图案131以及第二折射率层132用于提高 光线的透射率，以此实现提升光效的作用。
89.可选地，图10为本发明实施例提供的一种显示面板中基材层的结构示意图。 参照图10，该基材层包括触控功能层17，位于显示功能层12与增透功能层13 之间，该触控功能层17包括沿出光方向依次层叠的第一电极层171、第一绝缘 层172、第二电极层173和第二绝缘层174，第二绝缘层174复用为基材层。
90.具体地，第一绝缘层172将第一电极层171和第二电极层173绝缘设置， 避免出现漏电现象。当第二绝缘层174直接复用为基材层时，减少了原来基材 层的制备工序，减少了显示面板的整体厚度。
91.另外，由于基材层位于显示功能层12和增透功能层13之间，以金属电极 层作为匀光结构，可极大地提高光线的反射。图11为本发明实施例提供的又一 种显示面板中基材层的结构示意图。参照图11，该触控功能层17同样位于显示 功能层12与增透功能层13之间，包括沿出光方向依次层叠的第一电极层171、 第一绝缘层172和第二电极层173，第二电极层173包括第二电极1731，第二 电极层173复用为上述实施例中的基材层14，第二电极1731复用为上述实施 例中的匀光结构141。
92.类似地，本实施例中无需增加额外的基材层，在原来触控功能层17的基础 上，将第二电极层173复用为基材层，同样减少了制作基材层的工序，进一步 降低了制作成本。
93.图12为本发明实施例提供的一种显示面板中子像素的结构示意图。如图 12所示，子像素120包括第一子像素121和第二子像素122，第一子像素121 和第二子像素122的颜色相同，第一子像素121和第二子像素122交替排布， 邻近第一子像素121的第一倾斜侧壁aa与出光面的夹角为第一夹角α1，邻近 第二子像素122的第一倾斜侧壁aa与出光面的夹角为第二夹角α2，α2＞α1。
94.示例性的，在本实施例中，以第一子像素121和第二子像素122为发出红 光的红色子像素为例进行说明，在这里标记为第一红色子像素121和第二红色 子像素121。
95.可选地，参照图12，子像素120还包括第一颜色子像素1201和第二颜色 子像素1202，第一颜色子像素1201和第二颜色子像素1202的颜色不同，第一 颜色子像素1201包括第一子像素121和第二子像素122，邻近第二颜色子像素 1202的第一倾斜侧壁aa与出光面的夹角为夹角β，α1＜β≤α2。
96.示例性的，在本实施例中，以第一颜色子像素1201为发出红光的红色子像 素，第
二颜色子像素1202为发出绿光的绿色子像素为例进行说明。
97.在本实施例中，以第一夹角α1＝70
°
，第二夹角α2＝75
°
为例进行说明。显示 面板在制作工程中，子像素120在形成时可能存在工艺误差，这使得第一红色 子像素121的第一倾斜侧壁aa与出光面的夹角与第二红色子像素122的第一倾 斜侧壁aa与出光面的夹角存在偏差，该偏差会直接影响发光元件的出光，严重 的会产生色偏现象。在本实施例中，通过设置交替且与出光面的夹角不同的同 一颜色的子像素，可以平衡不同发光元件因工艺误差造成的色偏影响，进一步 改善色偏波动性。
98.图13为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。参照图13，该 显示装置100包括上述任一实施例提供的显示面板10。
99.由于本实施例提供的显示装置100包括上述任一实施例提供的显示面板10， 其具有显示面板10相同或相应的有益效果，此处不再赘述。
100.可选地，在形成显示功能层之后和形成增透功能层之前，在显示功能层的 出光侧形成触控功能层，触控功能层包括沿出光方向依次层叠的第一电极层、 第一绝缘层、第二电极层和第二绝缘层，第二绝缘层复用为基材层。
101.还有一种在显示功能层的出光侧形成触控功能层的情况是，触控功能层包 括沿出光方向依次层叠的第一电极层、第一绝缘层和第二电极层，第二电极层 包括第二电极，第二电极层复用为所述基材层，第二电极复用为匀光结构。
102.关于制备触控功能层的方法为本领域技术人员所熟知的技术，此处不再赘 述。
103.注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员 会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进 行各种明显的变化、重新调整、相互结合和替代而不会脱离本发明的保护范围。 因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅 仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效 实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。