技术特征：
1. 一种氧清除的方法，所述方法包括：(i)提供氧清除剂组合物；和(ii)将所述氧清除剂组合物加入到烃加工系统的水性进料和/或烃进料中。2.如权利要求1所述的方法，其中所述氧清除剂组合物包含羟烷基羟胺和催化剂。3.如权利要求2所述的方法，其中所述羟烷基羟胺是n,n-双(2-羟丙基)羟胺。4.如权利要求1所述的方法，其中所述氧清除剂组合物是共混物。5.如权利要求2所述的方法，其中所述催化剂是醌催化剂。6.如权利要求5所述的方法，其中所述醌催化剂是氢醌、苯醌或其共混物。7.如权利要求2所述的方法，其中所述羟烷基羟胺是n,n-双(2-羟丙基)羟胺，并且所述催化剂是氢醌。8.如权利要求1所述的方法，其中所述氧清除剂组合物进一步包含n,n-双(2-羟乙基)羟胺、n,n-双(2-羟丁基)-羟胺和/或二乙基羟胺。9.如权利要求7所述的方法，其中所述n,n-双(2-羟丙基)羟胺与氢醌的比率为约0.0001:100至约100:0.0001。10. 如权利要求1所述的方法，其中以0.0001 ppm至约50,000 ppm的量将所述氧清除剂组合物加入到所述水性和/或烃进料中。11. 如权利要求1所述的方法，其中所述水性和/或烃进料包含在约0.0001 ppm至约50,000 ppm范围内的溶解的氧。12.如权利要求1所述的方法，其中所述水性进料包含烃、硫化氢、二氧化碳、有机酸、酚、溶解的矿物质、链烷醇胺、二醇和/或氧。13.如权利要求1所述的方法，其中所述烃进料是酸性气体或液体流或其共混物。14.如权利要求1所述的方法，其中所述烃加工系统是炼油厂、天然气加工系统、煤气化设备或氨设备。15.如权利要求1所述的方法，其中所述水性和/或烃加工系统包含酸性水汽提塔、二醇脱水单元或烃气体加工单元。16.如权利要求1所述的方法，其中所述烃加工系统在约40
°
f至约500
°
f的温度范围下操作。17.如权利要求16所述的方法，其中所述温度范围小于300
°
f。
技术总结
一种氧清除的方法，所述方法包括(i)提供氧清除剂组合物；和(ii)将所述氧清除剂组合物加入到烃加工系统的水性进料和/或烃进料中。加入到烃加工系统的水性进料和/或烃进料中。
技术研发人员：J
受保护的技术使用者：BL科技公司
技术研发日：2020.12.16
技术公布日：2022/7/22
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