防反射薄膜及其制造方法、以及图像显示装置与流程

技术特征：
1.一种防反射薄膜，其具备：在薄膜基材的一个主面上具备硬涂层的硬涂薄膜；在所述硬涂层上接触设置的底漆层；以及，在所述底漆层上接触设置的防反射层，所述防反射层是折射率不同的多个薄膜的层叠体，所述底漆层是包含选自由in和sn组成的组中的1种以上金属的氧化物的金属氧化物层。2.根据权利要求1所述的防反射薄膜，其中，所述底漆层为铟系氧化物层。3.根据权利要求1所述的防反射薄膜，其中，所述底漆层为氧化铟锡层。4.根据权利要求1～3中任一项所述的防反射薄膜，其中，所述底漆层的厚度为0.5～30nm。5.根据权利要求1～4中任一项所述的防反射薄膜，其中，所述硬涂层包含粘结剂树脂和微粒。6.根据权利要求1～5中任一项所述的防反射薄膜，其中，构成所述防反射层的多个薄膜均为无机氧化物薄膜。7.一种图像显示装置，其在图像显示介质的视觉辨识侧表面配置有权利要求1～6中任一项所述的防反射薄膜。8.一种防反射薄膜的制造方法，其为权利要求1～6中任一项所述的防反射薄膜的制造方法，其中，通过使用了氧化物靶的溅射法而在硬涂层上形成底漆层。9.根据权利要求8所述的防反射薄膜的制造方法，其中，通过反应性溅射而在所述底漆层上形成防反射层。

技术总结
防反射薄膜(100)具备：在薄膜基材(10)的一个主面上具备硬涂层(11)的硬涂薄膜；在硬涂层上接触设置的底漆层(3)；以及，在底漆层上接触设置的防反射层(5)。防反射层是折射率不同的多个薄膜的层叠体。底漆层是包含In、Sn等金属的氧化物的金属氧化物层，其中，优选为氧化铟锡等铟系氧化物层。铟锡等铟系氧化物层。铟锡等铟系氧化物层。


技术研发人员：高见佳史 山崎由佳 宫本幸大 梨木智刚
受保护的技术使用者：日东电工株式会社
技术研发日：2020.11.20
技术公布日：2022/7/15