投影曝光系统及其控制方法与流程

技术特征：
1.一种投影曝光系统，其特征在于，包括：沿第一方向依次设置的光源、液晶开关面板、液晶相位延迟器和相位延迟波片；所述光源，用于输出光束；所述液晶开关面板包括多个阵列排布的液晶微区开关，用于将所述光束转换为第一线偏振光，并控制所述第一线偏振光是否通过进行控制；所述液晶相位延迟器，用于将所述第一线偏振光的垂直分量和平行分量产生各自的相位延迟，使得所述垂直分量和所述平行分量具有设计相位差；所述相位延迟波片，用于将所述液晶相位延迟器输出的光产生相位延迟，得到并输出第二线偏振光，所述第二线偏振光的方位角与所述设计相位差存在对应关系。2.根据权利要求1所述的投影曝光系统，其特征在于，还包括下述至少一项：各所述液晶微区开关用于与曝光图案的各图案单元一一对应；或者，n
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m个所述液晶微区开关用于与所述曝光图案的一个所述图案单元对应，n和m均为正整数；所述第二线偏振光的方位角与所述设计相位差成线性关系；所述相位延迟波片包括四分之一波片。3.根据权利要求1所述的投影曝光系统，其特征在于，所述液晶微区开关包括：层叠的第一偏振器、第一基板、开关电路、第一电极、保护层、第一液晶功能盒单元、第二电极、第二基板和第二偏振器；所述开关电路与所述第一电极、所述第二电极都电连接；所述液晶开关面板还包括第一控制电路，所述第一控制电路与各所述液晶微区开关的所述开关电路都电连接。4.根据权利要求3所述的投影曝光系统，其特征在于，还包括下述至少一项：所述第一液晶功能盒单元包括层叠的第一取向层、第一液晶功能层和第二取向层；所述第一液晶功能层包括位于中间区域的第一液晶层、第一隔垫物和位于周边区域的第一封框胶；所述第一偏振器的透振方向与所述第二偏振器的透振方向相互垂直；所述第一液晶层包括扭曲向列相型液晶、垂直取向型液晶或者高级超维场转换型液晶。5.根据权利要求4所述的投影曝光系统，其特征在于，还包括下述至少一项：以竖直向上的光轴为基准，所述第一偏振器的透振方向为90度，所述第一取向层的取向方向为90度，所述第二取向层的取向方向为0度，所述第二偏振器的透振方向为0度；所述扭曲向列相液晶的扭曲角为90度或者270度。6.根据权利要求1所述的投影曝光系统，其特征在于，所述液晶相位延迟器包括：层叠的第三基板、第三电极、第二液晶功能盒单元、第四电极和第四基板；所述液晶相位延迟器还包括第二控制电路，所述第二控制电路与所述第三电极、所述第四电极都电连接。7.根据权利要求6所述的投影曝光系统，其特征在于，还包括下述至少一项：所述第三电极或所述第四电极为整面；所述第二液晶功能盒单元包括层叠的第三取向层、第二液晶功能层和第四取向层；所述第二液晶功能层包括位于中间区域的第二液晶层、第二隔垫物和位于周边区域的第二封框胶；所述第三取向层的取向方向与所述第四取向层的取向方向平行；所述第二液
晶层包括电控双折射液晶。8.根据权利要求7所述的投影曝光系统，其特征在于，还包括下述至少一项：以竖直向上的光轴为基准，所述第三取向层的取向方向为45度，所述第四取向层的取向方向为-135度或45度；所述电控双折射液晶为正性液晶或者负性液晶。9.根据权利要求1所述的投影曝光系统，其特征在于，还包括：扩束器和聚焦透镜；所述扩束器设置在所述光源与所述液晶开关面板之间；所述聚焦透镜设置在所述相位延迟波片之后。10.根据权利要求1所述的投影曝光系统，其特征在于，还包括控制装置；所述控制装置包括：第一计算机，与所述液晶开关面板电连接；第二计算机，与所述液晶相位延迟器电连接。11.一种投影曝光系统的控制方法，其特征在于，应用于如权利要求2-10任一项所述的投影曝光系统，所述控制方法包括：控制液晶开关面板中对应透光区域的液晶微区开关打开，使得第一线偏振光通过，同时控制所有剩余液晶微区开关关闭；所述透光区域为待曝光的光控取向基板对应的一个曝光图案，所述曝光图案包括同一种光取向的至少一个图案单元；控制液晶相位延迟器，将所述第一线偏振光的垂直分量和平行分量产生各自的相位延迟，使得所述垂直分量和所述平行分量具有设计相位差，经过所述相位延迟波片产生相位延迟，得到并输出第二线偏振光，所述第二线偏振光的方位角与所述设计相位差相对应，使得所述透光区域的光控取向基板内的液晶形成与所述第二线偏振光的方位角一致的取向排布。

技术总结
本申请提供了一种投影曝光系统及其控制方法，投影曝光系统包括：沿第一方向依次设置的光源、液晶开关面板、液晶相位延迟器和相位延迟波片；液晶开关面板包括多个阵列排布的液晶微区开关，用于将光束转换为第一线偏振光，并控制第一线偏振光是否通过进行控制；液晶相位延迟器用于将第一线偏振光的垂直分量和平行分量产生各自的相位延迟，使得垂直分量和平行分量具有设计相位差；相位延迟波片用于将液晶相位延迟器输出的光产生相位延迟，得到并输出第二线偏振光，第二线偏振光的方位角与设计相位差存在对应关系。采用本申请，无需昂贵的掩膜费用，可大面积、高效率、高精度实现液晶取向微区控制，具有低成本、可实时控制调谐等优势。势。势。


技术研发人员：常文博 李月 肖月磊 安齐昌 曹雪 冯昱霖 韩基挏 周毅 王立会 魏秋旭 吴艺凡 曲峰
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司
技术研发日：2022.03.22
技术公布日：2022/7/15