固态成像装置和电子装置的制作方法

技术特征：
1.一种固态成像装置，其包括：多个光电转换单元，所述多个光电转换单元形成在基板上且根据入射光的光量而产生信号电荷；微透镜阵列，所述微透镜阵列包括微透镜，所述微透镜针对包括相邻的至少两个以上的所述光电转换单元的光电转换单元组而形成且将入射光引导至所述光电转换单元组；散射体，所述散射体布置在由所述微透镜会聚的所述入射光的光路上；和像素间遮光部，所述像素间遮光部包括沟槽和填充在所述沟槽中的绝缘材料，所述沟槽形成在所述光电转换单元组的所述光电转换单元和与该光电转换单元组相邻的所述光电转换单元之间，其中所述沟槽的所述散射体侧的内侧面的开口侧是以沟槽宽度朝向所述沟槽的底部变窄的方式倾斜的平面或弯曲的曲面。2.根据权利要求1所述的固态成像装置，其中所述沟槽的所述散射体侧的所述内侧面的底部侧是以所述沟槽宽度恒定的方式从所述基板的光接收面侧沿着深度方向延伸而形成的平面。3.根据权利要求1所述的固态成像装置，其中所述散射体包括散射体沟槽和填充在所述散射体沟槽中的散射体绝缘材料，所述散射体沟槽形成在所述光电转换单元组中的所述光电转换单元之间，且所述散射体沟槽的两个内侧面是以沟槽宽度恒定的方式从所述基板的光接收面侧沿着深度方向延伸而形成的平面。4.根据权利要求1所述的固态成像装置，其中所述散射体包括散射体沟槽和填充在所述散射体沟槽中的散射体绝缘材料，所述散射体沟槽形成在所述光电转换单元组中的所述光电转换单元之间，且所述散射体沟槽具有与所述沟槽相同的形状。5.根据权利要求1所述的固态成像装置，其中所述散射体布置在所述微透镜和所述基板之间，且在所述光电转换单元组中的所述光电转换单元之间形成有杂质层。6.根据权利要求3所述的固态成像装置，其中所述沟槽中的所述绝缘材料的折射率低于所述散射体绝缘材料的折射率。7.根据权利要求3所述的固态成像装置，其中所述散射体绝缘材料是氧化钛、氮化硅、氧化锆、氧化铪、氧化钽、氧化锌和折射率高于氧化硅的折射率的高折射率树脂中的任一者。8.根据权利要求1所述的固态成像装置，其中所述沟槽的所述散射体侧的所述内侧面的开口侧是相对于所述基板的厚度方向以等于或大于临界角的角度倾斜的平面，所述临界角是当光从所述光电转换单元入射到所述像素间遮光部时发生全反射的最小入射角。9.根据权利要求8所述的固态成像装置，其中所述绝缘材料是氧化硅，且所述临界角是20.5
°
。10.根据权利要求1所述的固态成像装置，其中
所述沟槽的所述散射体侧的所述内侧面的所述开口侧是与所述基板的厚度方向所成的角度朝向所述沟槽的所述底部变小的曲面。11.一种电子装置，其包括：固态成像装置，其包括：多个光电转换单元，所述多个光电转换单元形成在基板上且根据入射光的光量而产生信号电荷；微透镜阵列，所述微透镜阵列包括微透镜，所述微透镜针对包括相邻的至少两个以上的所述光电转换单元的光电转换单元组而形成且将入射光引导至所述光电转换单元组；散射体，所述散射体布置在由所述微透镜会聚的所述入射光的光路上；和像素间遮光部，所述像素间遮光部包括沟槽和填充在所述沟槽中的绝缘材料，所述沟槽形成在所述光电转换单元组的所述光电转换单元和与该光电转换单元组相邻的所述光电转换单元之间，所述沟槽的所述散射体侧的内侧面的开口侧是以沟槽宽度朝向所述沟槽的底部变窄的方式倾斜的平面或弯曲的曲面；光学透镜，所述光学透镜将来自被摄体的图像光形成在所述固态成像装置的成像面上；和信号处理电路，所述信号处理电路对从所述固态成像装置输出的信号进行处理。

技术总结
提供了一种能够在减小相同颜色之间的灵敏度差异的同时抑制不同颜色之间的混色的固态成像装置。固态成像装置包括：多个光电转换单元，形成在基板上且根据入射光的光量而产生信号电荷；微透镜阵列，包括微透镜，微透镜针对包括相邻的至少两个以上的光电转换单元21的光电转换单元组而形成且将入射光引导至光电转换单元组；散射体，布置在由微透镜会聚的入射光的光路上；和像素间遮光部，包括沟槽和填充在沟槽中的绝缘材料，沟槽形成在光电转换单元组的光电转换单元和与该光电转换单元组相邻的光电转换单元之间。沟槽的散射体侧的内侧面的开口侧是以沟槽宽度朝向沟槽的底部变窄的方式倾斜的平面。的方式倾斜的平面。的方式倾斜的平面。


技术研发人员：西田庆次
受保护的技术使用者：索尼半导体解决方案公司
技术研发日：2020.10.30
技术公布日：2022/7/9