一种双色真空镀膜工艺的制作方法

技术特征：
1.一种双色真空镀膜工艺，其特征在于，包括以下步骤：s1、对工件进行预处理，并于预处理后进行工件前处理；s2、通过对工件进行前处理后将其进行底涂，以及底涂干燥工序后置入真空设备；s3、当工件位于真空设备中时，抽至真空到预设压力，进行镀膜工序；s4、镀膜过程中实时掌握膜厚以及镀膜速度进行实时监控，镀膜完毕后取出；s5、待工件镀膜后取出进行面涂，随之烘干即可。2.根据权利要求1所述的一种双色真空镀膜工艺，其特征在于：所述真空设备的镀膜室抽至真空到1.7pa，所述底涂过程中镀膜油底涂完毕，底涂干燥工序包括底涂烘干工序或室温晾干方式的任意一种。3.根据权利要求1所述的一种双色真空镀膜工艺，其特征在于：所述预处理工序包括粗糙度控制、去油脱脂和清洁处理，所述粗糙度控制包括磨光及抛光方式控制，去油脱脂包括单纯化学试剂或电化学方式处理，所述化学试剂包括氢氧化钠40g/l,磷酸钠30g/i,碳酸钠20g/l,0p乳化剂1～3g/l,中的任意一种或多种置于容器中升温至60～70℃进行时间为10～15min的浸泡。4.根据权利要求2所述的一种双色真空镀膜工艺，其特征在于：所述底涂烘干工序包括烘干温度60-70℃，烘干时间为1.5-3h，直至底涂漆膜完全干燥。5.根据权利要求1所述的一种双色真空镀膜工艺，其特征在于：所述前处理包括工件表面的活化处理、敏化处理、还原处理及化学镀处理，所述活化处理采用弱酸溶液中侵蚀浸泡处理，所述敏化处理包括二氧化锡或三氯化钛中的一种或多种的易氧化物质。6.根据权利要求5所述的一种双色真空镀膜工艺，其特征在于：所述还原处理包括次磷酸钠溶液作还原剂，所述化学镀为工件浸没电解液中的结合镍进行电镀处理。7.根据权利要求1所述的一种双色真空镀膜工艺，其特征在于：所述镀膜工序前可通过激光对底膜进行激光刻印且刻印深度为0.01-0.05mm，所述镀膜工序完毕后，通过将激光刻印位置激光描边处理，厚度为镀膜厚度即可。8.根据权利要求1所述的一种双色真空镀膜工艺，其特征在于：所述面涂烘干温度保持于50-60℃，且面涂包括电泳、喷涂、辊涂及刷涂中任意一种方式处理。9.根据权利要求1所述的一种双色真空镀膜工艺，其特征在于：所述镀膜工序中的膜厚测算包括以下方式：δf＝-(ρ
f
/ρ
q
)*(f2/n)*δd
f
；δf：镀膜时厚度增加振荡频率的变化，ρ
f
：膜层密度，ρ
q
：石英密度，f：石英的基频，n：频率常数，δd
f
：膜层厚度增量，即δf与δd
f
成正比关系，即监控频率的变化即可了解膜层厚度。

技术总结
本发明公开了一种双色真空镀膜工艺，具体涉及PVD镀膜技术领域，包括对工件进行预处理，并于预处理后进行工件前处理。通过对工件进行前处理后将其进行底涂，以及底涂干燥工序后置入真空设备。当工件位于真空设备中时，进行镀膜工序。镀膜过程中实时掌握膜厚以及镀膜速度进行实时监控，镀膜完毕后取出。本发明通过对工件表面进行预处理及前处理，通过粗糙度的把控，以及表面通过软酸溶液的浸泡活化后，进而通过易氧化物质进行进一步浸泡，并随之在次磷酸钠溶液中进行还原处理，使其表面能够通过化学镀的方式进行前处理镀镍，随即在后续的底涂以及镀膜的配合下实现整体薄膜的附着力得到大幅提升，且薄膜质量得到保障的显著特点。且薄膜质量得到保障的显著特点。


技术研发人员：吴小春 罗麒 洪章茂 黄宜平
受保护的技术使用者：三明福特科光电有限公司
技术研发日：2022.02.28
技术公布日：2022/7/1