提高衬底温度均匀性的外延托盘的制作方法

技术特征：
1.一种提高衬底温度均匀性的外延托盘，其特征在于，所述外延托盘为圆柱体，所述外延托盘包括相互平行且相反的第一表面与第二表面，所述外延托盘在所述第一表面具有多个同心的衬底放置圈，每个所述衬底放置圈都包括多个沿所述外延托盘的周向均匀分布的圆形凹槽，所述圆形凹槽的底面具有同心的环形支撑凸起，所述外延托盘的第二表面具有多个同心的调节圈，每个所述调节圈均包括沿所述外延托盘周向均匀分布的圆形调节槽，每个所述圆形调节槽在所述第一表面的正投影的圆心均与一个所述圆形凹槽的底面圆心重合，所述圆形调节槽的直径小于所述环形支撑凸起的内径。2.根据权利要求1所述的提高衬底温度均匀性的外延托盘，其特征在于，所述环形支撑凸起的内径为所述圆形调节槽的直径的1/5～1/6。3.根据权利要求1所述的提高衬底温度均匀性的外延托盘，其特征在于，所述圆形调节槽的直径大于零且所述圆形调节槽的直径小于所述圆形凹槽的半径。4.根据权利要求1～3任一项所述的提高衬底温度均匀性的外延托盘，其特征在于，所述圆形调节槽的深度在由所述圆形调节槽的圆心指向所述圆形调节槽的边缘的径向上减小。5.根据权利要求4所述的提高衬底温度均匀性的外延托盘，其特征在于，在由所述圆形调节槽的圆心指向所述圆形调节槽的边缘的径向上，所述圆形调节槽的直径每增加2.5cm～5cm，所述圆形调节槽的深度减小0.1mm～0.4mm。6.根据权利要求1～3任一项所述的提高衬底温度均匀性的外延托盘，其特征在于，所述圆形调节槽的最大深度小于所述圆形凹槽的最大深度。7.根据权利要求1～3任一项所述的提高衬底温度均匀性的外延托盘，其特征在于，所述圆形调节槽的最大深度为0.5～2.0mm。8.根据权利要求1～3任一项所述的提高衬底温度均匀性的外延托盘，其特征在于，所述环形支撑凸起的深度为0.5～1.0mm。9.根据权利要求1～3任一项所述的提高衬底温度均匀性的外延托盘，其特征在于，所述环形支撑凸起的宽度为0.5～1.0mm。10.根据权利要求1～3任一项所述的提高衬底温度均匀性的外延托盘，其特征在于，所述圆形凹槽的深度为1.0～2.0mm。

技术总结
本公开公开了一种提高衬底温度均匀性的外延托盘，属于外延生长技术领域。外延托盘为圆柱体状，外延托盘包括相互平行且相反的第一表面与第二表面，外延托盘在第一表面具有多个同心的衬底放置圈，每个衬底放置圈都包括多个沿外延托盘的周向均匀分布的圆形凹槽，圆形凹槽的底面具有同心的环形支撑凸起。外延托盘的第二表面多个同心的调节圈，每个调节圈均包括沿外延托盘周向均匀分布的圆形调节槽，圆形调节槽的直径小于环形支撑凸起的内径，每个圆形调节槽在第一表面的正投影的圆心均与一个圆形凹槽的底面圆心重合，降低衬底的圆心部分与衬底的边缘部分的温度差，温度更为均匀。温度更为均匀。温度更为均匀。


技术研发人员：蒋媛媛 纪磊 胡烨伟
受保护的技术使用者：华灿光电（浙江）有限公司
技术研发日：2022.02.11
技术公布日：2022/7/1