投射光学系统和投影仪的制作方法

技术特征：
1.一种投射光学系统，其特征在于，其具有：第1光学系统，其具有正屈光力；以及第2光学系统，其配置于所述第1光学系统的缩小侧，具有负屈光力，在所述第1光学系统与所述第2光学系统之间形成有与放大侧共轭面以及缩小侧共轭面共轭的中间像，所述第2光学系统具有配置于最大视场角的轴外光线的主光线和所述投射光学系统的光轴在所述第2光学系统中交叉的第2光学系统内交叉位置的放大侧的第1透镜组、配置于所述第2光学系统内交叉位置的所述缩小侧且具有负屈光力的第2透镜组、以及配置于所述第2透镜组的所述缩小侧且具有正屈光力的第3透镜组，所述第2透镜组具备具有正屈光力的第1透镜、配置于所述第1透镜的所述缩小侧且具有正屈光力的第2透镜、以及配置于所述第2透镜的所述缩小侧且具有负屈光力的第3透镜，所述第3透镜组具备分别具有正屈光力的2个透镜。2.根据权利要求1所述的投射光学系统，其特征在于，所述投射光学系统还具有：第1偏转元件，其配置于所述第1光学系统与所述第2光学系统之间；以及第2偏转元件，其配置于所述第2光学系统的内部。3.根据权利要求1或2所述的投射光学系统，其特征在于，所述第1光学系统具有在所述第1光学系统中最接近所述中间像的第4透镜、以及在所述第2光学系统中最接近所述中间像的第5透镜，通过所述第4透镜与所述第5透镜之间的所述最大视场角的轴外光线的主光线从所述缩小侧朝向所述放大侧接近所述光轴。4.根据权利要求1或2所述的投射光学系统，其特征在于，所述中间像中的轴外光线的对焦位置朝向轴外接近所述第2光学系统。5.根据权利要求1或2所述的投射光学系统，其特征在于，flu2g2是所述第2透镜组的焦距，flu2g3是所述第3透镜组的焦距，满足以下的条件式(1)：-0.5<flu2g3/flu2g2<0
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(1)。6.根据权利要求1或2所述的投射光学系统，其特征在于，fs1是所述第1透镜的焦距，f0是所述投射光学系统的整体的焦距，满足以下的条件式(2)：|fs1/f0|>10
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(2)。7.根据权利要求1或2所述的投射光学系统，其特征在于，所述投射光学系统不包含接合透镜。8.根据权利要求1或2所述的投射光学系统，其特征在于，所述第2透镜组的透镜数和所述第3透镜组的透镜数的合计为7以上。9.根据权利要求1或2所述的投射光学系统，其特征在于，所述第1光学系统具有第6透镜，所述第6透镜配置于所述第1光学系统中的所述最大视场角的轴外光线的主光线和所述光轴交叉的第1光学系统内交叉位置的所述放大侧，并且与所述第1光学系统内交叉位置相邻，
ra1是所述第6透镜的放大侧的曲率半径，ra2是所述第6透镜的缩小侧的曲率半径，满足以下的条件式(3)：|ra2/ra1|>9
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(3)。10.根据权利要求1或2所述的投射光学系统，其特征在于，所述第3透镜组具有位于最缩小侧的第7透镜和配置于所述第7透镜的所述放大侧且与所述第7透镜相邻的第8透镜作为所述2个透镜，所述第7透镜和所述第8透镜分别是单透镜，所述第7透镜的阿贝数和所述第8透镜的阿贝数分别小于30。11.根据权利要求1或2所述的投射光学系统，其特征在于，构成所述第1光学系统和所述第2光学系统的各透镜的焦距除以所述投射光学系统的整体的焦距而被归一化，flu1ave是所述第1光学系统中的每一个透镜的焦距的绝对值的平均值，flu2ave是所述第2光学系统中的每一个透镜的焦距的绝对值的平均值，满足以下的条件式(4)：0.4<flu1ave/flu2ave<0.9
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(4)。12.一种投影仪，其特征在于，其具有：光调制元件，其对从光源射出的光进行调制；以及权利要求1～11中的任意一项所述的投射光学系统，其投射由所述光调制元件调制后的光。

技术总结
投射光学系统和投影仪。减少产生分辨率性能下降的情况。投射光学系统具备具有正屈光力的第1光学系统、以及配置于第1光学系统的缩小侧且具有负屈光力的第2光学系统。第2光学系统具有配置于最大视场角的轴外光线的主光线和投射光学系统的光轴在第2光学系统中交叉的交叉位置的放大侧的第1透镜组、配置于交叉位置的缩小侧且具有负屈光力的第2透镜组、以及配置于第2透镜组的缩小侧且具有正屈光力的第3透镜组。第2透镜组具备具有正屈光力的第1透镜、配置于第1透镜的缩小侧且具有正屈光力的第2透镜、以及配置于第2透镜的缩小侧且具有负屈光力的第3透镜。第3透镜组具备分别具有正屈光力的2个透镜。光力的2个透镜。光力的2个透镜。


技术研发人员：木山康之 平野整 峯藤延孝 盐川浩司
受保护的技术使用者：精工爱普生株式会社
技术研发日：2021.12.23
技术公布日：2022/6/28