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多柱扫描式电子显微镜系统的制作方法

2022-06-29 20:47:55 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种多柱扫描式电子显微镜sem系统,其包括:柱组合件,其包括:第一衬底阵列组合件;以及至少一第二衬底阵列组合件;其中所述第一衬底阵列组合件或所述至少一第二衬底阵列组合件的至少一者中的衬底阵列包含:复合衬底,其由多个衬底层形成,其中所述复合衬底包含用于所述两个以上电子束中的每一个的孔;多个电组件,其嵌入所述多个衬底层内;至少一个接地接合垫,其耦合到所述复合衬底的顶面或底面中的至少一者;至少一个信号接合垫,其耦合到所述复合衬底的所述顶面或所述底面中的至少一者;多个柱电子光学元件,其中所述多个柱电子光学元件接合到所述复合衬底中的所述多个孔上方的所述复合衬底,其中所述多个柱电子光学元件中的每一者接合到耦合到所述复合衬底的所述顶面或所述底面中的至少一者的特定接地接合垫及特定信号接合垫;源组合件,其包括:两个以上电子束源,其经配置以产生两个以上电子束,其中所述两个以上电子束源中的每一者经配置以产生所述两个以上电子束中的电子束;以及两组以上多个定位器,其中所述多个定位器中的每一组经配置以以在多个方向上调整所述两个以上电子束源中的特定电子束源的位置;以及载物台,其经配置以固定样本,其中所述柱组合件经配置以将所述两个以上电子束的至少一部分引导到所述样本的一部分上。2.根据权利要求1所述的系统,其中所述源组合件进一步包括:两组以上源电子光学元件,其中所述两组以上源电子光学元件中的每一者经配置以引导所述连个以上电子束中的电子束的至少一部分通过所述柱组合件。3.根据权利要求1所述的系统,其进一步包括:两个以上检测器组合件,其中所述两个以上检测器组合件经定位以检测从所述样本的所述表面发射或散射的电子。4.根据权利要求3所述的系统,其中所述两个以上检测器组合件定位在所述柱组合件内。5.根据权利要求1所述的系统,其中所述两个以上电子束源中的每一者包括:肖特基发射器装置、碳纳米管cnt发射器、纳米结构碳膜发射器或穆勒型发射器中的至少一者。6.根据权利要求1所述的系统,其中所述第一衬底阵列组合件或所述至少一第二衬底阵列组合件的至少一者包含两个以上衬底阵列,其中至少一个金属遮蔽件定位于所述两个以上衬底阵列之间。7.根据权利要求1所述的系统,其中所述第一衬底阵列组合件布置成第一衬底阵列堆叠,且安装于第一框架中,其中所述至少一第二衬底阵列组合件布置成第二衬底阵列堆叠,且安装于至少一个第二框架中,其中所述第一框架和所述至少一个第二框架是耦合的。8.根据权利要求7所述的系统,其中布置所述第一衬底阵列组合件、布置所述第二衬底
阵列堆叠或将所述第一框架和所述至少一个第二框架耦合中的至少一者包括对准以补偿x方向上的偏移距离、y方向上的偏移距离或偏移旋转角中的至少一者。9.根据权利要求1所述的系统,其中所述第一衬底阵列组合件布置成第一接合衬底阵列堆叠,其中所述至少一第二衬底阵列组合件布置成至少一第二接合衬底阵列堆叠,其中所述第一接合衬底阵列堆叠和所述至少一第二接合衬底阵列堆叠是接合的。10.根据权利要求9所述的系统,其中布置所述第一衬底阵列组合件,布置所述至少一第二衬底阵列或接合所述第一接合衬底阵列堆叠和所述至少一第二接合衬底阵列堆叠中的至少一者包含对准以补偿x方向上的偏移距离、y方向上的偏移距离或偏移旋转角中的至少一者。11.根据权利要求1所述的系统,其中所述第一衬底阵列组合件布置成成第一衬底阵列堆叠,且安装于框架中,其中所述至少一个第二衬底阵列组合件布置成至少一个第二衬底阵列堆叠,且安装于相同框架中。12.根据权利要求11所述的系统,其中布置成所述第一衬底阵列组合件或布置成所述第二衬底阵列堆叠包含对准以补偿x方向上的偏移距离、y方向上的偏移距离或偏移旋转角中的至少一者。13.根据权利要求1所述的系统,其中所述多组定位器中的每一组经配置以在多个方向上调整特定照明源的位置,所述多个方向包含:x方向、y方向或z方向中的至少一者。14.根据权利要求1所述的系统,其中嵌入所述多个衬底层内的所述多个电组件包含一或多个接地迹线、一或多个信号迹线、一或多个接地通孔、或一或多个信号通孔中的至少一者。15.根据权利要求14所述的系统,其中所述一或多个接地迹线、所述一或多个信号迹线、所述一或多个接地通孔、或所述一或多个信号通孔中的至少一者在形成所述复合衬底之前被嵌入到所述多个衬底层中。16.根据权利要求14所述的系统,其中所述一或多个接地迹线经由所述一或多个接地通孔而电耦合到所述至少一个接地接合垫。17.根据权利要求14所述的系统,其中所述一或多个信号迹线经由所述一或多个信号通孔而电耦合到所述至少一个信号接合垫。18.一种方法,其包括:形成多个衬底阵列,其中形成所述多个衬底阵列中的所述衬底阵列包含:将一或多个组件嵌入多个衬底层内;由所述多个衬底层形成复合衬底;在所述复合衬底中钻多个孔;将至少一个接地接合垫耦合到所述复合衬底的顶面或底面中的至少一者;将至少一个信号接合垫耦合到所述复合衬底的所述顶面或所述底面中的至少一者;将多个柱电子光学元件接合到耦合到所述复合衬底的所述顶面或所述底面中的至少一者的特定接地接合垫及特定信号接合垫,其中所述多个柱电子光学元件中的每一者定位于所述复合衬底中的所述多个孔上方;将所述多个衬底阵列分类成第一衬底阵列组合件及至少一第二衬底阵列组合件;以及由所述第一衬底阵列组合件及所述至少一第二衬底阵列组合件形成柱组合件。
19.根据权利要求18所述的方法,其中所述多个柱电子光学元件中的至少一些在将所述多个柱电子光学元件中的至少一些接合到特定接地接合垫及特定信号接合垫之前经由第一组制造工艺而部分制造,其中所述多个柱电子光学元件中的所述至少一些在将所述多个柱电子光学元件中的所述至少一些接合到所述特定接地接合垫及所述特定信号接合垫之后经由第二组制造工艺而完全制造。20.根据权利要求19所述的方法,其中所述第一组制造工艺包含:在所述多个柱电子光学元件中的所述至少一些中基于至少一个临界容限来钻孔;以及在所述多个柱电子光学元件中的所述至少一些中切割多个狭槽,其中所述多个狭槽包含第一狭槽及至少一第二狭槽,其中所述第一狭槽及所述至少一第二狭槽穿过孔的一部分,其中所述第一狭槽及所述至少一第二狭槽不延伸到所述多个柱电子光学元件中的所述至少一些的边缘。21.根据权利要求20所述的方法,其中所述至少一个临界容限包含孔径或孔形中的至少一者。22.根据权利要求20所述的方法,其中所述第二组制造工艺包含:切割延伸到所述多个柱电子光学元件中的所述至少一些的所述边缘的所述多个狭槽。

技术总结
本发明揭示一种多柱扫描式电子显微镜SEM系统,其包含柱组合件,其中所述柱组合件包含第一衬底阵列组合件及至少一第二衬底阵列组合件。所述系统还包含源组合件,所述源组合件包含:两个或两个以上照明源,其经配置以产生两个或两个以上电子束;及两组或两组以上多个定位器,其经配置以在多个方向上调整所述两个或两个以上照明源的特定照明源的位置。所述系统还包含经配置以固定样本的载物台,其中所述柱组合件将所述两个或两个以上电子束的至少一部分引导到所述样本的一部分上。一部分引导到所述样本的一部分上。一部分引导到所述样本的一部分上。


技术研发人员:R
受保护的技术使用者:科磊股份有限公司
技术研发日:2018.02.02
技术公布日:2022/6/28
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