热转印反光膜的制作方法

1.本实用新型涉及热转印技术领域，特别涉及一种热转印反光膜。


背景技术：

2.随着科技的发展，人们的生活水平日益提高，审美水平以及对美的要求也日益提升。一些产品为了提高它的美观性同时对产品的表面进行保护，通常在其表面镀一层具有装饰性图案的保护膜。传统工艺中，一般会采用印染或者喷涂的方式，但这种方式不仅难以喷涂均匀，也容易受损脱落。


技术实现要素：

3.本实用新型的主要目的是提出一种热转印反光膜，旨在保证通过热转印工艺顺利将热转印反光膜上的图案转印于产品的表面。
4.为实现上述目的，本实用新型提出的热转印反光膜，包括依次层叠设置的薄膜层、离型层、成像层、镀铝层和保护层，所述成像层与所述离型层之间还设置有耐磨层，所述离型层为热熔性离型膜。
5.可选地，所述薄膜层由聚对苯二甲酸乙二醇酯为原料，并由挤出法制成厚片，再经双向拉伸制成。
6.可选地，所述耐磨层的材质为丙烯酸清漆或有机硅清漆。
7.可选地，所述耐磨层的厚度为大于或者0.5μm，小于或者8μm。
8.可选地，所述镀铝层为在所述成像层采用真空镀铝法将铝镀于所述成像层背离所述离型层的一侧。
9.可选地，所述成像层由树脂材料紫外光照射固化制成或模压制成。
10.可选地，所述薄膜层的厚度大于或者10μm，小于或者20μm。
11.本实用新型技术方案通过依次层叠设置的薄膜层、离型层、成像层、镀铝层和保护层形成热转印反光膜，该热转印反光膜适用于热转印工艺。成像层与离型层之间还设置有耐磨层以对成像层进行保护，降低成像层被刮花或磨损掉色的可能，进而使得成像层的图案能够保持完整以及高的清晰度，最终提高热转印反光膜的显示效果。其中，离型层为热熔性离型膜，以保证薄膜层顺利脱离成像层。该热溶性离型膜中含有热溶性离型剂，当热转印反光膜经热转印设备加热时，热溶性离型剂失效融化，使得薄膜层与成像层脱离，而后可进行热转印工序。
附图说明
12.为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
13.图1为本实用新型热转印反光膜一实施例的结构示意图。
14.附图标号说明：
15.标号名称标号名称100热转印反光膜140镀铝层110薄膜层150保护层120离型层160耐磨层130成像层
ꢀꢀ
16.本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
17.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
18.需要说明，本实用新型实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后
……
)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。
19.另外，在本实用新型中若涉及“第一”、“第二”等的描述，则其仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本实用新型要求的保护范围之内。
20.本实用新型提出一种热转印反光膜100。
21.在本实用新型实施例中，如图1所示，该热转印反光膜100包括依次层叠设置的薄膜层110、离型层120、成像层130、镀铝层140和保护层150，成像层130与离型层120之间还设置有耐磨层160，离型层120为热熔性离型膜。
22.具体地，薄膜层110是聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)薄膜层110，pet薄膜是以聚对苯二甲酸乙二醇酯为原料，采用挤出法制成厚片，再经双向拉伸制成的薄膜材料。此处需要说明的是，薄膜层110中薄的定义是相对于所述薄膜层110的面积而言的，即指薄膜层110的厚度与薄膜层110的面积相比，薄膜层110的厚度较小，能够让成像层140的图案无阻碍地展示。离型层120是由是热溶性离型剂所形成的，用于防止成型的薄膜层110与成像层130相互粘接，且按照离型剂的不同状态，离型层120可以为薄膜、膏状或蜡状，当热转印反光膜100铺设于热转印设备上，加热一段时间，所述离型层120融化失效，使得薄膜层110与成像层130脱离。成像层130是热转印反光膜100最主要的涂层，成像层130上设置有图案，该图案可以是用于装饰的图形，或者具有防伪标示的图形，该成像层130决定热转印反光膜100的颜色、亮度、切边性、柔韧性、耐高温、耐腐蚀等主要性能。镀铝层140是采用真空镀铝法在成像层130之上镀铝，作用是使得膜片发出闪闪发亮的金属光泽，使色层颜色增光添彩，这正是烫金所追求的效果。保护层150为全息图案保护层150，能够保证被转移的全息图案在转移
到目标物上后的完整性，从而增强被转移的全息图案美观、耐用等效果。该耐磨层160设于成像层130与离型层120之间，以对成像层130进行保护，降低成像层130被刮花或磨损掉色的可能，进而使得成像层130的图案能够保持完整以及高的清晰度，最终提高热转印反光膜100的显示效果。保护层150能够有效保护该成像层130，防止成像层140被刮伤。
23.本实用新型技术方案通过依次层叠设置的薄膜层110、离型层120、成像层130、镀铝层140和保护层150形成热转印反光膜100，该热转印反光膜100适用于热转印工艺。成像层130与离型层120之间还设置有耐磨层160以对成像层130进行保护，降低成像层130被刮花或磨损掉色的可能，进而使得成像层130的图案能够保持完整以及高的清晰度，最终提高热转印反光膜100的显示效果。其中，离型层120为热熔性离型膜，以保证薄膜层110顺利脱离成像层130。该热溶性离型膜中含有热溶性离型剂，当热转印反光膜100经热转印设备加热时，热溶性离型剂失效融化，使得薄膜层110与成像层130脱离，而后可进行热转印工序。
24.在一实施例中，薄膜层110由聚对苯二甲酸乙二醇酯为原料，并由挤出法制成厚片，再经双向拉伸制成。具体地，薄膜层110是聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)薄膜层110，pet薄膜是以聚对苯二甲酸乙二醇酯为原料，采用挤出法制成厚片，再经双向拉伸制成的薄膜材料，使得薄膜层110具有其良好的透明性、气密性以及透明性。
25.在一实施例中，耐磨层160的材质为丙烯酸清漆或有机硅清漆。具体地，丙烯酸清漆的主要成分是丙烯酸树脂、体质颜料助剂和有机溶剂等，丙烯酸清漆可常温干燥，具有良好的耐候性、耐光性、耐热性、防霉性及附着力。此外，丙烯酸清漆层不仅具有良好的耐磨性能，还具有良好的耐温、耐候性，如此，本实用新型通过在成像层130与离型层120之间设置耐磨层160，使得撕下薄膜层110和离型层120后，耐磨层160粘接固定在成像层130面向离型层120的层面上，进而通过丙烯酸清漆材质的耐磨层160对成像层130起到耐温和耐磨的双重防护作用。有机硅清漆的主要成分是有机硅，耐磨层160也可选用有机硅清漆材料，以实现对成像层130的防护。
26.一般地，耐磨层160由空气喷涂工艺或光固化工艺粘接固定在成像层130的层面，由于丙烯酸清漆和有机硅清漆的初始状态均为液态，为了将液态的耐磨层160均匀地涂覆在成像层130与离型层120之间，通常采用的做法是通过空气喷涂工艺涂覆耐磨层160。空气喷涂工艺的具体工作原理是：利用压缩空气的气流，流过喷枪喷嘴孔形成负压，负压使丙烯酸清漆或有机硅清漆从吸管吸入，经喷嘴喷出，进而形成漆雾，该漆雾喷射到成像层130表面上形成均匀的耐磨层160。
27.在一实施例中，耐磨层160的厚度为大于或者0.5μm，小于或者8μm。当耐磨层160的厚度小于0.5μm时，耐腐蚀效果不明显，或随着使用时间的延长，其耐腐蚀效果逐渐消除；当耐磨层160的厚度大于8μm时，则会影响冷烫耐腐蚀膜的显示效果，而且还会增加成本，造成资源浪费。其中，耐磨层160的厚度具体可以为0.5μm、2μm、4μm、6μm和8μm。
28.再次参考图1，在一实施例中，镀铝层140为在成像层130采用真空镀铝法将铝镀于成像层130背离离型层120的一侧。具体地，镀铝层140是采用真空镀铝法在成像层130之上镀铝，作用是使得膜片发出闪闪发亮的金属光泽，使色层颜色增光添彩，这正是烫金所追求的效果。
29.在一实施例中，成像层130由树脂材料紫外光照射固化制成或模压制成。为了增强成像层130与镀铝层140之间的固定强度，成像层130采用树脂材料紫外光照射(uv)固化制
成或模压制成。所谓uv固化是指紫外线光固化工艺，模压工艺是指通过加热、加压固定形成成像层130。其中，紫外线光固化工艺可以将成像层130粘接固定在镀铝层140上，模压工艺可进一步减小成像层130与镀铝层140之间的间隙，进而提高成像层130的固定强度。
30.进一步，在一实施例中，薄膜层110的厚度大于或者10μm，小于或者20μm。具体地，薄膜层110为pet薄膜层110，其厚度选择要适宜，若薄膜层110的厚度小于10μm或者大于20μm，均不利于薄膜层110的脱离和加工。其中，耐磨层160的厚度具体可以为10μm、12μm、14μm、16μm、18μm和20μm。
31.以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是在本实用新型的发明构思下，利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本实用新型的专利保护范围内。