一种集成电路离子注入掺杂工艺的制作方法

1.本发明涉及电路离子注入技术领域，具体为一种集成电路离子注入掺杂工艺。


背景技术：

2.离子注入机是高压小型加速器中的一种，应用数量最多。它是由离子源得到所需要的离子，经过加速得到几百千电子伏能量的离子束流，用做半导体材料、大规模集成电路和器件的离子注入，还用于金属材料表面改性和制膜等。
3.离子注入机一般由控制箱控制启动一级功能调节，传统的控制箱散热孔设置在控制箱顶部，没有保护装置，可能会导致灰尘堆积影响正常散热，从而可能会使内部的零部件损坏，造成更大的损失，所以我们提出了一种集成电路离子注入掺杂工艺。


技术实现要素：

4.为实现以上目的，本发明通过以下技术方案予以实现：一种集成电路离子注入掺杂工艺，包括以下步骤。
5.s1，确定离子的电荷数和荷质比，然后通过控制箱将掺杂气体通入离子源进行电离；
6.s2，由离子源系统产生无金属杂质的离子束；
7.s3，根据单个注入离子的电荷数和注入离子剂量，在剂量控制系统中设定设备所参考的离子注入总剂量；
8.s4，由引出系统通过引出缝将纯的无金属杂质的带状离子束引入靶室；
9.s5，离子束向靶片注入无金属杂质的多种离子。
10.优选的，所述控制箱顶部设置有防护装置，所述防护装置包括防护架，所述防护架底部固定连接有支撑架，所述支撑架表面与控制箱表面固定连接，所述防护架内部设置有阻隔机构和晃动机构。
11.优选的，所述阻隔机构包括拉绳一，所述拉绳一与防护架内壁固定连接，所述拉绳一外表面固定连接有连接板，所述连接板左端固定连接有十组导流板，所述连接板内部开设有五个吹风孔，所述连接板表面固定连接有拉环。
12.优选的，所述晃动机构包括连接架，所述连接架顶部固定连接有连接杆，所述连接杆顶部通过转轴与防护架内壁转动连接，所述连接架右端固定连接有两个固定板，所述连接架内壁固定连接有弹力膜，所述弹力膜表面与两个固定板固定连接，所述连接架下端设置有固定件。
13.优选的，所述阻隔机构的数量为两组，两组所述阻隔机构以防护架中轴处为中心对称设置，两个所述拉绳一分别均与弹力膜表面固定连接。
14.优选的，所述固定件包括固定架和拉绳二，所述固定架顶部中轴处开设有连通孔，所述固定架底部两端均固定连接有防护板，两个所述防护板内部均开设有开口，所述拉绳二顶部与连接架表面固定连接，所述拉绳二下端设置有连接球，所述连接球下端开设有连
通槽，所述拉绳二下端与连通槽内壁固定连接，所述拉绳二底部固定连接有弹力绳，所述拉绳二底部与控制箱顶部固定连接。
15.本发明提供了一种集成电路离子注入掺杂工艺。具备以下有益效果：
16.1、该集成电路离子注入掺杂工艺，通过设置防护架，在灰尘下落时可以通过防护架进行阻隔，避免灰尘落在控制箱上方，再通过设置连接板，可以对侧边的灰尘进行简单的防护，避免出现散热隔网被堵塞的情况发生。
17.2、该集成电路离子注入掺杂工艺，通过拉环晃动连接板时，空气通过导流板加速从吹风孔后吹出，再在连接板本身带动的风辅助下，从而可以有效的将灰尘从控制箱顶部带起并吹出。
18.3、该集成电路离子注入掺杂工艺，通过连接板和拉绳一带动连接架和固定板左右偏转，从而可以使连接架和固定板可以通过弹力膜将灰尘吹出。
19.4、该集成电路离子注入掺杂工艺，通过在连接架和固定板左右晃动时，设置防护板对弹力膜受力偏转的方向进行限制，避免导致防护架内部空气流动混乱的情况发生。
20.5、该集成电路离子注入掺杂工艺，使固定架受力通过拉绳拉动弹力绳，连接球被带动后通过弹力绳的拉力使连接球复位对控制箱顶部敲击，从而可以将控制箱顶部粘附的灰尘震下，可以有效地对灰尘进行处理。
附图说明
21.图1为本发明立体图；
22.图2为本发明防护装置的结构示意图；
23.图3为本发明晃动机构的结构示意图；
24.图4为本发明阻隔机构的结构示意图；
25.图5为本发明固定件的结构示意图；
26.图6为本发明连接球的底部视图。
27.图中：控制箱1、防护装置2、防护架21、支撑架22、阻隔机构23、连接板231、吹风孔232、拉绳一233、导流板234、拉环235、晃动机构24、连接架241、连接杆242、固定板243、弹力膜244、固定件245、固定架2451、拉绳二2452、防护板2453、开口2454、连接球2455、连通槽2456、弹力绳2457。
具体实施方式
28.下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。
29.所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。
30.请参阅图1-6，本发明提供一种技术方案：一种集成电路离子注入掺杂工艺，包括以下步骤，
31.s1，确定离子的电荷数和荷质比，然后通过控制箱1将掺杂气体通入离子源进行电离；
32.s2，由离子源系统产生无金属杂质的离子束；
33.s3，根据单个注入离子的电荷数和注入离子剂量，在剂量控制系统中设定设备所参考的离子注入总剂量；
34.s4，由引出系统通过引出缝将纯的无金属杂质的带状离子束引入靶室；
35.s5，离子束向靶片注入无金属杂质的多种离子。
36.控制箱1顶部设置有防护装置2，防护装置2包括防护架21，防护架21底部固定连接有支撑架22，支撑架22表面与控制箱1表面固定连接，防护架21内部设置有阻隔机构23和晃动机构24，阻隔机构23的数量为两组，两组阻隔机构23以防护架21中轴处为中心对称设置，两个拉绳一233分别均与弹力膜244表面固定连接，通过设置防护架21，在灰尘下落时可以通过防护架21进行阻隔，避免灰尘落在控制箱1上方，再通过设置连接板231，可以对侧边的灰尘进行简单的防护，避免出现散热隔网被堵塞的情况发生。
37.阻隔机构23包括拉绳一233，拉绳一233与防护架21内壁固定连接，拉绳一233外表面固定连接有连接板231，连接板231左端固定连接有十组导流板234，连接板231内部开设有五个吹风孔232，连接板231表面固定连接有拉环235，通过拉环235晃动连接板231时，空气通过导流板234加速从吹风孔2后吹出，再在连接板231本身带动的风辅助下，从而可以有效的将灰尘从控制箱1顶部带起并吹出。
38.晃动机构24包括连接架241，连接架241顶部固定连接有连接杆242，连接杆242顶部通过转轴与防护架21内壁转动连接，连接架241右端固定连接有两个固定板243，连接架241内壁固定连接有弹力膜244，弹力膜244表面与两个固定板243固定连接，连接架241下端设置有固定件245，通过连接板231和拉绳一233带动连接架241和固定板243左右偏转，从而可以使连接架241和固定板243可以通过弹力膜244将灰尘吹出。
39.固定件245包括固定架2451和拉绳二2452，固定架2451顶部中轴处开设有连通孔，固定架2451底部两端均固定连接有防护板2453，通过在连接架241和固定板243左右晃动时，设置防护板2453对弹力膜244受力偏转的方向进行限制，避免导致防护架21内部空气流动混乱的情况发生，两个防护板2453内部均开设有开口2454，拉绳二2452顶部与连接架241表面固定连接，拉绳二2452下端设置有连接球2455，连接球2455下端开设有连通槽2456，拉绳二2452下端与连通槽2456内壁固定连接，拉绳二2452底部固定连接有弹力绳2457，拉绳二2452底部与控制箱1顶部固定连接，使固定架2451受力通过拉绳2452拉动弹力绳2457，连接球2455被带动后通过弹力绳2457的拉力使连接球2455复位对控制箱1顶部敲击，从而可以将控制箱1顶部粘附的灰尘震下，可以有效地对灰尘进行处理。
40.使用时，灰尘在下落时可以被防护架21阻隔，可以避免灰尘落在控制箱1上方，同时再通过设置连接板231，可以对侧边的灰尘进行简单的防护，避免出现散热隔网被堵塞的情况发生，在对控制箱1顶部进行清理时，可以通过拉环235晃动连接板231，使空气可以通过导流板234后顺着导流板234进入吹风孔2后吹出，从而可以加快空气流出的速度，对控制箱1顶部进行吹风，通过连接板231本身带动的风辅助下，从而可以有效的将灰尘从控制箱1顶部带起并吹出，同时在晃动连接板231时可以通过拉绳一233带动连接架241和固定板243在连接杆242的作用下进行左右偏转，从而可以使连接架241和固定板243可以通过弹力膜244将灰尘吹出，在连接板231辅助下，可以有效的将被连接板231吹起灰尘进行处理，保证对灰尘的清理效果，同时在连接架241和固定板243左右晃动时，可以通过设置防护板2453
对弹力膜244受力偏转的方向进行限制，避免导致防护架21内部空气流动混乱的情况发生，同时在固定架2451移动时可以通过拉绳2452拉动弹力绳2457，从而可以在弹力绳2457的作用下使连接球2455被带动，最后通过弹力绳2457的拉力使连接球2455复位对控制箱1顶部敲击，从而可以将控制箱1顶部粘附的灰尘震下，可以有效地对灰尘进行处理，避免灰尘堵住控制箱1顶部隔网的情况发生。
41.以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。