光学设备的制作方法

技术特征：
1.一种光学设备(1)，适于透射/反射电磁谱的波长范围内的电磁辐射，所述设备(1)至少包括：-一个衬底(10)，其由第一材料制成；-一个涂层(20)，其由不同于所述第一材料的第二材料制成；和-表面纹理化(30)，其在所述设备(1)中形成空腔(31)，其特征在于，所述空腔(31)延伸穿过所述涂层(20)并且部分地沉入所述衬底(10)中。2.根据权利要求1所述的设备(1)，其特征在于，所述空腔(31)在所述涂层(20)与所述衬底(10)之间具有连续的轮廓。3.根据权利要求1或2所述的设备(1)，其特征在于，所述空腔(31)具有圆形横截面。4.根据权利要求1至3中一项所述的设备(1)，其特征在于，所述空腔(31)在轴向平面中具有凹形轮廓，所述凹形轮廓具有根据深度而减小的面积横截面。5.根据权利要求1至4中一项所述的设备(1)，其特征在于，所述空腔(31)在轴向平面中具有对称的凹形轮廓。6.根据权利要求1至4中一项所述的设备(1)，其特征在于，所述空腔(31)在轴向平面中具有不对称的凹形轮廓。7.根据权利要求1至6中一项所述的设备(1)，其特征在于，所述空腔(31)根据规则阵列分布在所述设备(1)的表面上。8.根据前述权利要求中一项所述的设备(1)，其特征在于，所述空腔(31)以可变的周期性分布在所述设备(1)的表面上，所述可变的周期性根据定义的规则而不是随机地演变，例如是在所述设备(1)的中心与边缘之间不同的周期性。9.根据前述权利要求中一项所述的设备(1)，其特征在于，所述设备(1)包括交替的若干衬底(10)和涂层(20)的叠层，所述叠层包括：第一涂层(20)和第一衬底(10)的至少一个第一组合(10 20)，以及最后一个涂层(20)和最后一个衬底(10)的最后一个组合(10 20)。10.根据权利要求9所述的设备(1)，其特征在于，所述空腔(31)仅形成在所述第一组合(10 20)中。11.根据权利要求9所述的设备(1)，其特征在于，除了所述空腔(31)部分沉入其中的所述最后一个衬底(10)之外，所述空腔(31)完全延伸穿过所述叠层，并且所述空腔(31)具有在所述最后一个衬底(10)的方向上严格减小的面积横截面。12.根据权利要求9至11中一项所述的设备(1)，其特征在于，所述叠层包括在所述第一组合(10 20)与所述最后一个组合(10 20)之间的至少一个中间组合(10 20)。13.根据前述权利要求中一项所述的设备(1)，其特征在于，所述设备(1)包括由不同于所述衬底(10)和所述涂层(20)的材料制成的至少一个背面层(40)，所述涂层(20)形成在所述衬底(10)的第一侧上，所述背面层(40)形成在所述衬底(10)的与所述第一侧相对的第二侧上。14.根据前述权利要求1至13中一项所述的设备(1)，其特征在于，所述设备(1)包括两个面，每个面具有涂层(20)和表面纹理化(30)，所述表面纹理化(30)形成延伸穿过所述涂层并且部分穿透所述衬底或一个所述衬底的空腔(31)。15.根据前述权利要求1至13中一项所述的设备(1)，其特征在于，所述设备(1)包括：第一面，其具有涂层(20)和表面纹理化(30)，所述表面纹理化(30)形成延伸穿过所述涂层
(20)并且部分地穿透所述衬底(10)或一个所述衬底(10)的空腔(31)；和第二面，其具有涂层(20)，所述涂层(20)不具有纹理化或不具有处理，或者接受与所述第一面的所述纹理化不同的处理。16.一种用于制造光学设备的方法，所述光学设备适于透射/反射电磁谱的波长范围内的电磁辐射，所述方法至少包括以下步骤：-形成由第一材料制成的衬底和由不同于所述第一材料的第二材料制成的涂层的至少一个组合；然后-执行在所述设备中形成空腔的表面纹理化，其特征在于，所述空腔延伸穿过所述涂层并且部分地沉入所述衬底中。

技术总结
本发明涉及一种光学设备(1)，适于透射/反射电磁谱的波长范围内的电磁辐射，所述设备(1)至少包括：衬底(10)，其由第一材料制成；涂层(20)，其由不同于第一材料的第二材料制成；和表面纹理化(30)，其在设备(1)中形成空腔(31)，其特征在于，空腔(31)延伸穿过涂层(20)并且部分地沉入衬底(10)中。并且部分地沉入衬底(10)中。并且部分地沉入衬底(10)中。


技术研发人员：托马斯
受保护的技术使用者：让
技术研发日：2020.10.26
技术公布日：2022/6/7