投影装置、投影装置的温度控制方法以及记录介质与流程

技术特征：
1.一种投影装置，其特征在于，所述投影装置具备处理器和存储器，所述处理器通过存储在所述存储器中的程序来执行以下处理：在从检测光源装置温度的1个以上的温度检测传感器取得的温度检测值达到设定值时，执行使流过所述光源装置的电流减小的控制；以及在相对于执行所述控制之前流过所述光源装置的电流的电流比率达到第一设定比率时，或者在减小后的电流值达到第一阈值时，执行第一处理。2.根据权利要求1所述的投影装置，其特征在于，所述第一处理包含使该投影装置的运转停止的处理。3.根据权利要求2所述的投影装置，其特征在于，在所述电流比率达到比所述第一设定比率大的第二设定比率时，或者在减小后的电流值达到比所述第一阈值大的第二阈值时，执行对温度进行警告的第二处理。4.根据权利要求1～3中的任意一项所述的投影装置，其特征在于，所述1个以上的温度检测传感器包含检测激光二极管的光源附近的温度的热敏电阻，在达到所述第一设定比率或所述第一阈值的情况下，作为在所述光源装置以外的内部部件中存在达到部件上限温度的内部部件，所述处理器执行所述第一处理。5.根据权利要求1～4中的任意一项所述的投影装置，其特征在于，所述温度检测传感器的数量为多个，取得来自所述多个温度检测传感器的多个输出值中的最大值来作为所述温度检测值。6.根据权利要求1～4中的任意一项所述的投影装置，其特征在于，所述温度检测传感器的数量为多个，所述处理器取得来自所述多个温度检测传感器的多个输出值中的平均值来作为所述温度检测值。7.一种温度控制方法，其由投影装置的处理器执行，其特征在于，所述温度控制方法具备以下步骤：在从检测光源装置温度的1个以上的温度检测传感器取得的温度检测值达到设定值时，执行使流过所述光源装置的电流减小的控制；以及在相对于执行所述控制之前流过所述光源装置的电流的电流比率达到第一设定比率时，或者减小后的电流值达到第一阈值时，执行第一处理。8.根据权利要求7所述的温度控制方法，其特征在于，所述第一处理包含使该投影装置的运转停止的处理。9.根据权利要求8所述的温度控制方法，其特征在于，所述温度控制方法具有以下步骤：所述处理器在所述电流比率达到比所述第一设定比率大的第二设定比率时，或者在减小后的电流值达到比所述第一阈值大的第二阈值时，执行对温度进行警告的第二处理。10.根据权利要求7～9中的任意一项所述的温度控制方法，其特征在于，所述1个以上的温度检测传感器包含检测激光二极管的光源附近的温度的热敏电阻，所述温度控制方法具有以下步骤：在达到所述第一设定比率或所述第一阈值的情况下，作为在所述光源装置以外的内部
部件中存在达到部件上限温度的内部部件，所述处理器执行所述第一处理。11.根据权利要求7～10中的任意一项所述的温度控制方法，其特征在于，所述温度检测传感器的数量为多个，所述温度控制方法具有以下步骤：所述处理器取得来自所述多个温度检测传感器的多个输出值中的最大值来作为所述温度检测值。12.根据权利要求7～10中的任意一项所述的温度控制方法，其特征在于，所述温度检测传感器的数量为多个，所述温度控制方法具有以下步骤：所述处理器取得来自所述多个温度检测传感器的多个输出值中的平均值来作为所述温度检测值。13.一种记录介质，其记录了由投影装置的计算机执行的程序，其特征在于，所述程序使所述计算机执行以下处理：在从检测光源装置温度的1个以上的温度检测传感器取得的温度检测值达到设定值时，执行使流过所述光源装置的电流减小的控制；以及在相对于执行所述控制之前流过所述光源装置的电流的电流比率达到第一设定比率时，或者在减小后的电流值达到第一阈值时，执行第一处理。

技术总结
本发明提供一种投影装置、投影装置的温度控制方法以及记录介质。投影装置在从检测光源装置温度的1个以上的温度检测传感器取得的温度检测值超过设定值时，使流过所述光源装置的电流比率减小，在减小后的所述电流比率低于第一设定比率时执行第一处理。一设定比率时执行第一处理。一设定比率时执行第一处理。


技术研发人员：上田智之 成川哲郎
受保护的技术使用者：卡西欧计算机株式会社
技术研发日：2021.12.02
技术公布日：2022/6/7