一种等离子清洗系统的制作方法

1.本实用新型涉及等离子清洗机领域，尤其是涉及一种等离子清洗系统。


背景技术：

2.等离子清洗主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。等离子体清洗技术的最大特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。等离子清洗机已经步入人们的视野，它的应用领域之广是显而易见的，主要包括：汽车制造行业、塑料橡胶行业、光电制造行业、金属及涂装行业、化纤及纺织行业、印刷及喷码行业等。随着国家供给改革及环保督察力度的加大，各行业标准的不断提高，对于这种无污染，高可靠性等离子清洗设备的需求不断增多。尤其是最近几年来5g和电动汽车的迅速发展，造成全球芯片供应短缺，对等离子清洗系统的要求越来越多。
3.目前消费电子、5g、新能源汽车等行业发展迅猛，对半导体的需求不断增加，倒逼行业内各工序工艺的提升，对等离子体清洗设备的要求也越来越高，促使等离子清洗设备向着更高，更快，更强发展。尤其是工业4.0的飞速发展，对等离子清洗设备提出了更高的要求，要求具有更高的处理效率，更加智能化，以及更好的处理效果等特点。


技术实现要素：

4.为解决上述问题，本实用新型提出了一种等离子清洗系统。
5.本实用新型的主要内容包括：一种等离子清洗系统，主要包括：壳体、反应腔、rf射频电源、rf调谐网络、真空泵和配电箱，其中，所述壳体包括：上壳体、下壳体和侧壳体，所述反应腔设置于下壳体上端面，所述反应腔包括：上腔体和下腔体，在所述侧壳体内设置有升降装置，所述上腔体连接于升降装置并可随升降装置升降，所述反应腔内设置有电极板组件，所述电极板组件与rf射频电源、rf调谐网络之间电连接，所述真空泵与反应腔之间管道连接。
6.优选地，所述上腔体包括：反应腔上盖、第一电极板，所述反应腔上盖与第一上极板之间形成第一密闭空间，所述下腔体包括：反应腔下盖、第二电极板，所述反应腔下盖与第二电极板之间形成第二密闭空间，所述第一密闭空间与第二密闭空间内分别通入冷却液。
7.优选地，所述上腔体与下腔体之间设置有密封装置。
8.优选地，所述真空泵与反应腔之间通过真空阀和抽真空管道连接。
9.优选地，所述抽真空管道具有多个均匀分散的管路分别连接至反应腔，多个管路最终汇集为一条管路并通过真空阀与真空泵连接。
10.优选地，所述下壳体的至少一个侧壁处设置有冷却口，在所述冷却口内设置有风扇。
11.优选地，还包括操作面板和开关，所述开关、真空泵、升降装置、rf视频电源分别与配电箱之间电连接。
12.本实用新型的有益效果在于：
13.1、本实用新型采用集成化的设计，占地空间较小，适合于与大的流水线对接，实现在线等离子清洗；
14.2、设置有冷却系统，能及时对电极板进行冷却；
15.3、分体式反应腔设计，并采用自动化的升降装置，提高了其工作效率。
附图说明
16.图1为本实用新型一种等离子清洗系统一较佳实施例的立体结构示意图；
17.图2为一种等离子清洗系统的内部结构示意图；
18.图3为反应腔的爆炸示意图；
19.图4为反应腔另一角度的爆炸示意图；
20.附图标记：11-下壳体，12-上壳体，13-侧壳体，21-反应腔上盖，22-反应腔下盖，23-第二电极板，24-密封圈，25-第一电极板，26-密封槽，3-导轨，4-操作面板，5-冷却口，6-开关，7-rf射频电源，8-rf调谐网络，9-真空泵，10-配电箱，91-真空阀，92-抽真空管道，93-接口。
具体实施方式
21.以下结合附图对本实用新型所保护的技术方案做具体说明。
22.如图1、图2所示，一种等离子清洗系统，主要包括：壳体，所述壳体包括：上壳体12、下壳体11和侧壳体13，反应腔设置于下壳体11上端面，所述反应腔包括：上腔体和下腔体，在所述上壳体内设置有rf射频电源7，用于为机器提供等离子能量，所述侧壳体13内设置有升降装置，本实施例中，升降装置采用导轨3、滑块的组合，滑块通过气缸驱动，上腔体固定于滑块，可随滑块上下移动，达到反应腔打开和闭合的目的。下壳体内设置有rf调谐网络8、真空泵9和配电箱10，rf调谐网络8与第一电极板25和第二电极板23之间分别连接，并连接于rf射频电源7，rf调谐网络8包含了真空电容和电感线圈，为系统匹配等离子能量，减少反射功率。
23.进一步的，导轨3的数量设置为平行的两根，两根导轨处分别设置有滑块，上腔体分别连接于两个滑块，使得运行更平稳。气缸处还设置有气路控制单元，包含了气缸，气体流量控制器，传感器等元件，为系统提供处理气体和控制反应腔体的开合。
24.如图3、图4所示，所述上腔体包括：反应腔上盖21、第一电极板25，所述反应腔上盖21与第一上极板25之间形成第一密闭空间，所述下腔体包括：反应腔下盖22、第二电极板23，所述反应腔下盖22与第二电极板23之间形成第二密闭空间，所述第一密闭空间与第二密闭空间内分别通入冷却液。所述上腔体与下腔体之间设置有密封装置，本实施例中，反应腔上盖21处设置有密封槽26，反应腔下盖22处设置有密封圈24，当滑块带动反应腔上盖21与反应腔下盖22闭合时，密封圈24卡入密封槽26内，实现反应腔的密封性。
25.进一步的，反应腔与真空泵9之间通过真空阀91和抽真空管道92连接，本实施例中，抽真空管道92设置为十字形，通过4个接口93分别与反应腔之间连接，工作时，通过真空
泵9与真空阀91对反应腔进行抽真空，多个接口形式的抽真空管道设置，使得抽真空效率更高。
26.为了便于电器元件散热，下壳体侧壁处设置有冷却口5，在所述冷却口5内设置有风扇。
27.本实用新型还包括有操作面板4和开关6，打开开关6，操作面板4进行工作，用于对系统进行操作和监测系统内部工作情况，实现了智能化操作。
28.以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。


技术特征：
1.一种等离子清洗系统，其特征在于，主要包括：壳体、反应腔、rf射频电源、rf调谐网络、真空泵和配电箱，其中，所述壳体包括：上壳体、下壳体和侧壳体，所述反应腔设置于下壳体上端面，所述反应腔包括：上腔体和下腔体，在所述侧壳体内设置有升降装置，所述上腔体连接于升降装置并可随升降装置升降，所述反应腔内设置有电极板组件，所述电极板组件与rf射频电源、rf调谐网络之间电连接，所述真空泵与反应腔之间管道连接。2.根据权利要求1所述的一种等离子清洗系统，其特征在于，所述上腔体包括：反应腔上盖、第一电极板，所述反应腔上盖与第一上极板之间形成第一密闭空间，所述下腔体包括：反应腔下盖、第二电极板，所述反应腔下盖与第二电极板之间形成第二密闭空间，所述第一密闭空间与第二密闭空间内分别通入冷却液。3.根据权利要求2所述的一种等离子清洗系统，其特征在于，所述上腔体与下腔体之间设置有密封装置。4.根据权利要求1所述的一种等离子清洗系统，其特征在于，所述真空泵与反应腔之间通过真空阀和抽真空管道连接。5.根据权利要求4所述的一种等离子清洗系统，其特征在于，所述抽真空管道具有多个均匀分散的管路分别连接至反应腔，多个管路最终汇集为一条管路并通过真空阀与真空泵连接。6.根据权利要求1所述的一种等离子清洗系统，其特征在于，所述下壳体的至少一个侧壁处设置有冷却口，在所述冷却口内设置有风扇。7.根据权利要求1所述的一种等离子清洗系统，其特征在于，还包括操作面板和开关，所述开关、真空泵、升降装置、rf视频电源分别与配电箱之间电连接。

技术总结
本实用新型提出了一种等离子清洗系统，主要包括：壳体、反应腔、RF射频电源、RF调谐网络、真空泵和配电箱，其中，所述壳体包括：上壳体、下壳体和侧壳体，所述反应腔设置于下壳体上端面，所述反应腔包括：上腔体和下腔体，在所述侧壳体内设置有升降装置，所述上腔体连接于升降装置并可随升降装置升降，所述反应腔内设置有电极板组件，所述电极板组件与RF射频电源、RF调谐网络之间电连接，所述真空泵与反应腔之间管道连接。通过上述方式，集成化的设计，占地空间较小，适合于与大的流水线对接，实现在线等离子清洗。离子清洗。离子清洗。


技术研发人员：华徐浩
受保护的技术使用者：达格测试设备（苏州）有限公司
技术研发日：2021.12.24
技术公布日：2022/6/7