一种用于光刻机的EUV辐射源产生装置的制作方法

一种用于光刻机的euv辐射源产生装置
技术领域
1.本实用新型属于光刻机辅助装置技术领域，具体涉及一种用于光刻机的euv辐射源产生装置。


背景技术：

2.极紫外光刻（extreme ultra-violet），常称作euv光刻，它是以波长为10-14纳米的极紫外光作为辐射源的光刻技术，现阶段通用的波长为13.4nm。在现有的光刻机中，目前最先进的光刻机已经达到3nm级别水平，1nm级别的na euv光刻机的设计方案也已经完成；而制造高端光刻机的难点中的难点是euv光的制造与收集，但现有的国产光刻机中，缺乏euv极紫外光的制造技术。
3.光致发光（photoluminescence，简称pl）是冷发光的一种，指物质吸收光子（或电磁波）后重新辐射出光子（或电磁波）的过程。
4.专利号为zl 202120462649.0的实用新型公开了一种用于光刻机的euv光源发生器结构，其包括传送带，在传送带上设置有多组euv光源发生器，在传送带下部设置有激光器；所述euv光源发生器包括带体，在带体上设置一通光孔，通光孔内纵向设置有由多根纳米管构成的纳米管束，纳米管束下侧设置透光的封堵，在封堵上部设置有光致发光体；在通光孔所对应的传送带位置设置有供激光器发出的光通过的通孔。该实用新型结构中，入射光束通过数次击打euv光源发生器上的光致发光体，使其激发出极紫外光光子，极紫外光光子通过纳米管束的引导及分流作用，形成多条近乎平行的光束，再通过光束矫正系统等装置，最终输送至物镜用于进行刻蚀，通过传送带的连续转动，将含有未被激光激发的光致发光体的euv光源发生器，连续输送至激光器垂直上方，使激光器发出的入射光可以连续击打新鲜的光致发光体，从而实现连续激发出极紫外光的效果。
5.但是，该实用新型专利与申请公布号cn102823330a的实用新型专利euv辐射源以及euv辐射源产生办法，提供的方法类似，影响了该实用新型专利的稳定性，而该实用新型采用管束结构，使其存在极紫外光的收集角度小，管底部易被极紫外光攻击而损坏的问题，由于该实用新型只能进行饱和攻击，无法避免激光击打纳米管束底部，从而进一步的影响器件的使用寿命。此外，该实用新型缺少“光致发光体”清洗及注入装置，使其不能实现全自动化。
6.申请公布号cn102823330a的实用新型专利euv辐射源以及euv辐射源产生办法，公开了一种euv辐射源制备方法，包括配置成将燃料的液滴传输至等离子体产生位置的燃料供给装置；配置成提供第一激光束辐射的第一激光束源，该第一激光束辐射在等离子体产生位置入射到燃料液滴上并由此蒸发燃料液滴以产生用于发射euv辐射的等离子体；以及配置成随后在等离子体产生位置处提供第二激光束辐射的第二激光束源，第二激光束辐射配置成蒸发由燃料液滴的不完全蒸发引起的碎片颗粒。该专利可制备euv辐射源，但是由于单次携带燃料液滴数量少，产生的euv辐射的强度不高，若选择增加燃料液滴体积以增加单次燃料携带量，则激光束的辐射强度也相应需要增加，但目前的激光器激发的激光强度达
不到要求，因此目前不能作为euv光刻机的辐射源。
7.在现有的激光器激发的激光强度有限的情况下，目前现有技术，是通过每秒连续击打5万滴直径约20微米的锡液滴，实现euv辐射源的制备，但是其性能仍有进一步提升的空间，由于无法避免多组激光器击打同一金属锡液滴，使激光器的数量只能有一组，若能避免多组激光器击打同一金属锡液滴，可增加激光器的数量，从而增加euv辐射源的强度。此外，增加euv辐射源强度的办法还有，增加单位时间内导入euv辐射源产生装置中的锡的量，以及减少euv光被吸收等。


技术实现要素：

8.本实用新型的目的是：提供一种用于光刻机的euv辐射源产生装置，以解决现有技术中的问题。
9.本实用新型是通过如下技术方案实现的： 一种用于光刻机的euv辐射源产生装置，包括传送带；其特征在于：还包括euv辐射源产生单元、清洗单元、燃料注入单元、真空控制单元；
10.所述euv辐射源产生单元包括套设在传送带上的反光杯和设置在反光杯下方的激光器；所述反光杯的下部设置有弧形的封口，在封口上设有与激光器相配合的激光发射孔；在传送带的带体上设置有通光孔，在通光孔内设置有激光晶体，在激光晶体上部设置有涂层，在涂层上设置有多个微米孔，在微米孔内设置有可产生极紫外光的燃料；所述激光器设置有可识别颜色的探头；
11.所述清洗单元包括套设在传送带上的碎片清洗腔，在碎片清洗腔内部的传送带设置有回环；在清洗腔内设置有蒸汽喷头，所述蒸汽喷头与圆环顶部的激光晶体相对应；
12.所述燃料注入单元包括燃料注入腔，在燃料注入腔内设置有高压喷嘴，所述高压喷嘴与燃料储液罐相连通并与微米孔相对应；在燃料注入腔前部设置有第一机械臂和辅助光源，所述第一机械臂用于将感光挡片移设在激光晶体上，所述辅助光源用于向激光晶体发射光束以击穿感光挡片；在燃料注入腔后部设置有第二机械臂，所述第二机械臂用于将感光挡片移除。
13.进一步的：所述反光杯内部涂有反射涂层。
14.进一步的：所述燃料为金属锡。
15.进一步的：所述涂层为硅材料和钼材料交替构成。
16.进一步的：所述涂层为40层。
17.进一步的：所述反光杯的杯体厚度为1厘米，杯体上部内径38厘米，下部28厘米，杯体高度50厘米。
18.进一步的：所述通光孔孔径为20厘米。
19.进一步的：所述激光晶体上的涂层厚度为30微米，涂层上的微米孔分布在两个长方形区域内，每个长方形区域尺寸为10厘米*4厘米，所述微米孔孔径均为20微米。
20.进一步的：所述高压喷嘴为圆形，管壁厚度1厘米，内径为20厘米，可与激光晶体的顶部紧密配合，高压喷嘴底部内设有两个内径尺寸为10厘米*4厘米*20微米的小喷头，在小喷头上部设有预抽腔室，预抽腔室底部小喷头相对位置上部，设有可移动挡板，厚度为0.5厘米，挡板一侧设有挡板移动腔，挡板可在电力控制下，移入或移出挡板移动腔，挡板上设
有进气导管。
21.进一步的：所述传送带材料为石英或玻璃或钢材，并设置有反射涂层。
22.本实用新型的有益效果是：本实用新型所述方案，通过真空泵，分别将反光杯两侧的真空控制腔内的气体抽干，确保反光杯处在真空状态，该反光杯共有两个杯形管桶，传送带每秒传送80厘米，将两个携有燃料液滴的激光晶体，分别传送至反光杯的两个杯形管桶内的中心区域，每传送1秒后会停顿1秒，激光器上的颜色识别系统在传送带停顿后的100纳秒内，通过颜色差异，识别出燃料液滴的具体位置，激光器的四组发射装置分别在1秒内，选择性的击打激光晶体上方的指定的一个长方形区域内（颜色为灰色）的燃料液滴（颜色为银白色），包括配制第一激光束源，击打激光晶体上方的燃料液滴，将其击到空中，并使其形成粉饼状等离子体，并在随后的100纳秒内，配制成第二激光束源，击打被击到空中的粉饼状燃料液滴，使其激发出极紫外光，生成的极紫外光直接传出反光杯，或经传送带和反光杯内壁反射出反光杯，形成两条发散的光束，再通过光束矫正系统等装置，最终输送至物镜，同时供给两个晶圆进行刻蚀，通过传送带的连续转动，将含有未形成等离子体的燃料液滴的激光晶体，连续输送至反光杯的两个杯形管桶内的中心区域，使激光器发出的激光可以连续击打新鲜的燃料液滴，从而实现连续激发出极紫外光的效果；
23.激光晶体上方的燃料液滴被激光击打产生极紫外光后，传送带将其传送至碎片清洗腔内，传送带通过预设的圆形回环轨道，将激光晶体传送至圆形回环轨道顶部使其倒置，传送带下部的蒸汽喷头在2个大气压的作用下，向激光晶体发射蒸汽，将激光晶体涂层内的碎片冲至蒸汽喷头下方的托盘内，传送带再在沿着预设轨道，将激光晶体传送至腔内底部使其正置并传出；
24.可在燃料注入前，在激光晶体上方安装挡片，燃料注入后，再将挡片移出，从而避免燃料注入时，污染激光晶体顶部涂层，以及避免在传送过程中，燃料液滴溅出微米孔外，具体方法如下：传送带传出碎片清洗腔后，传送到第一机械臂旁，第一机械臂在传送带停顿后的1秒内，通过传送口将感光挡片安装在激光晶体上方；之后传送带再将其传送至辅助光源上方，辅助光源在传送带停顿的1秒内，通过在激光晶体下部发射光束，使光束通过激光晶体上方涂层内的微米孔照到感光挡片上，使其生成沸点比较低的物质，并在高温下蒸发，形成与微米孔孔径相同的孔；之后传送带将涂层内不含燃料的激光晶体传入至燃料注入腔，燃料注入腔内的真空控制系统抽干腔内气体，使其保持在近乎真空的状态，并将燃料液预抽至预抽腔室内，扫描系统在传送带停顿后的100纳秒内识别出设有感光挡片的激光晶体的具体位置，使高压喷嘴在0.3秒内与激光晶体紧密结合，预抽腔室底部的挡板在0.4秒内迅速插入挡板移动腔内，再移回，使两个小喷头内的燃料液高度控制在20微米，并通过挡板上的进气导管加压，在0.3秒内将两个小喷头内中的燃料，定量的注入至激光晶体涂层内的微米孔内，完成燃料的注入；在燃料注入后，传送带将其传出燃料注入腔，第二械臂在传送带停顿的1秒内，通过传送口将感光挡片移走，周而复始，进入下一轮循环。
25.本实用新型是通过颜色的不同识别锡的位置，其实现精准打击的方法与申请公布号cn102823330a的实用新型专利中提供的方法不同。按照激光器识别并击打锡一次需要100纳秒估算，一组激光器一秒可击打1000万滴锡；按照上述提供的参数估算，上述传送带每秒可将2个含有燃料液滴的激光晶体，传送至反光杯的两个杯形管桶的中心区域，每个激光晶体的携锡量最多为2*4厘米*10厘米
÷
（20微米*20微米/滴）=2000万滴，因此通过增加
激光晶体的载锡量，传送带的传送速度，以及激光器组的数量，可有效增加euv辐射源的强度，从而增加曝光率，减少芯片制造时间，同时也为增加反射镜组数量提供可能，以增加na数值孔径，达到提高光刻精度的目的。
附图说明
26.图1是本实用新型的整体结构示意图；
27.图2是euv辐射源产生单元的结构示意图；
28.图3是清洗单元的结构示意图；
29.图4是燃料注入单元的结构示意图；
30.图5是辅助光源与激光晶体的配合示意图；
31.图6是真空控制单元的结构示意图。
32.图中序号说明：1为传送带、2为euv辐射源产生单元、3为清洗单元、4为燃料注入单元、5为真空控制单元；
33.11为通光孔、12为带体；
34.21为反光杯、22为激光器、23为封口、24为激光发射孔、25为识别探头、26为激光晶体、27为涂层、28为微米孔、29为燃料；
35.31为碎片清洗腔、32为回环、33为蒸汽喷头；
36.41为燃料注入腔、42为高压喷嘴、43为第一机械臂、44为辅助光源、45为感光挡片、46为第二机械臂；
37.51为真空控制腔i、52为真空控制腔ii。
具体实施方式
38.如图1-6所示，为本实用新型一种用于光刻机的euv辐射源产生装置，包括传送带1，传送带为环形设置，带体可在传送带框架限定的范围内自由移动，在伺服电机的驱动下匀速运行或脉冲式运行，传动带上含有多个通孔，带体用硅材料和钼材料涂层，具有反射极紫外光的能力；还包括euv辐射源产生单元2、清洗单元3、燃料注入单元4以及真空控制单元5；
39.所述euv辐射源产生单元2包括套设在部分传送带上的反光杯21和设置在反光杯下方的激光器22；所述反光杯的杯体上设置有供传送带通过的开口，反光杯下部设置有弧形的封口23，在封口上设有与激光器相配合的激光发射孔24；在传送带的带体12上设置有通光孔11，在通光孔内设置有激光晶体26，在激光晶体上部设置有涂层27，在涂层上设置有多个微米孔28，在微米孔内设置有可产生极紫外光的燃料29；所述激光器25上设置用于确定金属锡的位置的识别探头25，该识别探头为具有颜色识别功能的传感器，可识别不同的颜色从而确定锡的位置；
40.所述清洗单元3包括套设在部分传送带上的碎片清洗腔31，在碎片清洗腔内部的传送带设置有回环32；在清洗腔内设置有蒸汽喷头33，所述蒸汽喷头与圆环顶部的激光晶体相对应；
41.所述燃料注入单元4包括燃料注入腔41，在燃料注入腔内设置有高压喷嘴42，所述高压喷嘴与燃料储液罐相连通并与微米孔相对应；在燃料注入腔前部（可以是腔体内部的
前部，也可以是整个腔体的前部）设置有第一机械臂43和辅助光源44，所述第一机械臂用于将感光挡片45移设在激光晶体上，所述辅助光源用于向激光晶体发射光束以击穿感光挡片；在燃料注入腔后部设置有第二机械臂46，所述第二机械臂用于将感光挡片移除。
42.优选的：所述反光杯的杯体厚度为1厘米，杯体上部内径38厘米，下部28厘米，杯体高度50厘米。
43.优选的：所述反光杯内部和外部均涂有反射涂层。
44.优选的：所述涂层（包括反光杯上的反射涂层以及传送带上的涂层）为硅材料和钼材料交替构成。
45.优选的：所述涂层为40层。
46.优选的：所述燃料为金属锡。
47.优选的：所述通光孔孔径为20厘米。
48.优选的：所述激光晶体上的涂层厚度为30微米，涂层上的微米孔分布在两个长方形区域内，每个长方形区域尺寸为10厘米*4厘米，所述微米孔孔径为20微米。
49.优选的：所述真空控制单元5包括设置在反光杯与传送带相配合的传送口位置的真空控制腔ⅰ和真空控制腔ⅱ，其中反光杯后部的真空控制腔为真空控制腔ⅰ51，反光杯前部的真空控制腔为真空控制腔ⅱ52；两个真空控制腔套设在传送带外侧并分别与传送口相连通，对反光杯的开口位置进行抽气，以保证其内部的真空，避免空气对光的影响。反光杯上部的开口与光线处理装置（现有结构，非本方案技术要点）相连通，实现密封和真空。
50.优选的：所述高压喷嘴为圆形，管壁厚度1厘米，内径为20厘米，与激光晶体的顶部紧密配合，高压喷嘴底部内设有两个尺寸为10厘米*4厘米*20微米的小喷头，在小喷头上部设有预抽腔室，预抽腔室底部小喷头相对位置上部，设有可移动挡板，厚度为0.5厘米，挡板一侧设有挡板移动腔，挡板可移入或移出挡板移动腔，挡板上设有进气导管。
51.优选的：所述传送带材料为石英或玻璃或钢材，并设置有反射涂层。
52.优选的：所述真空控制单元，包括在反光杯两侧各设有一个真空控制腔，真空控制腔内均设有真空泵和气压监控装置；
53.下面通过使用方法及原理对本实用新型方案做进一步说明。
54.本实用新型为一种光刻机辐射源产生装置，可连续制备出极紫外光，其由九个部分组成：
55.1，由耐高温材料制成的传送带，传动带上设置有多个通孔，用硅材料和钼材料涂层，具有反射极紫外光的能力，以避免传送带被极紫外光破坏；
56.2，每个通孔位置对应设有一个激光晶体，该激光晶体上方设有硅材料和钼材料组成的涂层，厚约30微米，涂层内中心位置两侧的两个长方形区域内，设置有大小一致、矩阵排列的微米孔，微米孔内含有燃料液滴；
57.3，在euv辐射源产生单元区域内，反光杯有两个，分别由设在传送带上方的杯形管体和在传送带下方的弧形封口组成，杯体上设有传送带传入口和传出口，每个弧形底设有两个激光发射孔；
58.4，激光器装在反光杯下部，激光器上设有颜色识别系统，以及四组激光发射装置，并将颜色识别系统的探头和四组激光发射装置安装在激光发射孔下方；
59.5，反光杯两侧，各设有一个真空控制腔，均是由耐高温材料制成的隔间，设有传送
带传入口和传出口，并设检修门，控制腔与真空泵和压力监测装置相连通；
60.6，碎片清洗腔是采用耐高温材料制成的隔间，设有传送带传入口和传出口，并设有检修门，在碎片清洗腔内部的传送带设置有回环，回环类似过山车的轨道，使传送带在运行至回环顶部区域时为“头下脚上”的倒置方式，在回环顶部下方设有多组蒸汽喷头，蒸汽喷头下面设有托盘，蒸汽产生装置通过管道与蒸汽喷头连接，通过蒸汽对涂层上的微米孔进行清洗，以清除其内残存的燃料碎片；
61.7，燃料注入腔是采用耐高温材料制成的隔间，设有传送带传入口和传出口，并设有检修门；在燃料注入腔内设置有燃料注入机，其包括在传送带上部设置的多组扫描系统和高压喷嘴，在燃料注入腔内还设置有真空控制系统，储液罐等；
62.8，在燃料注入腔前部，安装有第一机械臂和辅助光源，第一机械臂安装在传送带传送方向上游，辅助光源安装在传送带下方，第一机械臂将感光挡板放置在激光晶体涂层上方，并使其与涂层紧密贴合，之后辅助光源启动，激发激光器产生光束，光束通过微米孔作用在感光挡板上，并将感光挡板击穿，且击穿的孔洞与微米孔完全一致；本部分机械臂的结构为现有技术，感光挡板与涂层贴合可通过卡接、限位槽等方式进行限位并固定，具体结构为现有技术不再详细描述；
63.9，在燃料注入腔后部，安装有第二机械臂，第二机械臂安装在传送带传送方向下游，第二机械臂将加注燃料后的微米孔上方的感光挡板去除，从而完成微米孔内燃料的加注过程，本部分机械臂的结构为现有技术，不再详细描述。
64.此外，本方案中，未说明的连接关系及结构，可以是卡接、粘接等方式，或为现有技术的其他形式。
65.为了更好的理解本方案，现将本方案各部件的制备方法示例如下，以下所述方法仅仅是一种示例，不做为对本方案的限定，本方案所述结构，还可通过现有技术所公开了其他方式制备而得。具体示例如下：
66.一.在激光晶体上制备微米孔
67.1，用激光将厚度为1厘米的基板上打出半径为10厘米的圆，并在所得的圆形基板中心位置两侧1厘米处，打出两个长方形的通光孔，尺寸均为10厘米*4厘米，将制备好的基板放置在一水平平板上；
68.2，微米管束的制备：先通过相应的化学反应，将化学官能团，如羟基、甲基、羟甲基、羧基等与半径为10微米的微米管结合，再将硅碳氮中间体与微米管引入的官能团结合，上述硅碳氮中间体指的是能与微米管结合的一切物质，也包括微米管本身，其微米管束也可通过3d打印技术制备而成，其长、宽、高分别为10厘米、4厘米、1.5厘米；
69.3，将两微米管束插入圆形基板的长方形孔中，使靠近平板的一侧与基板保持齐平；
70.4，微米管束的另一侧，用激光晶体封口，并将微米管束与基板和激光晶体固定住，具体可用胶将微米管束外壁与基板和激光晶体粘连，或者通过塑型将微米管卡在机壳上，也可采用现有的其他方式，再用螺丝将基板与激光晶体固定好；
71.5，采用数控机床，将激光晶体做成厚度为1厘米，半径为10厘米的圆形结构，激光晶体一侧用硅材料和钼材料反复涂层，使涂层厚度为30微米；
72.6，将上述激光晶体与上述含有微米管束的基板固定在一起，激光器发出激光，通
过基板这一侧的微米管束照射在激光晶体上，将激光晶体上的涂层击穿，使涂层上的两个长方形区域内，形成大小一致、排列有序的微米孔。
73.二．euv辐射源产生装置的制备与安装
74.1，采用数控机床设备，将厚度为5厘米，由耐高温材料制成的传送带，每隔20厘米，打一个半径为10厘米的通孔，将传送带上部，通光孔左侧，打出宽度为1厘米的环形边框，高度较传送带顶部低0.5厘米，通光孔右侧，打出底长20厘米，底深为1厘米的凹槽，凹槽两端连接通光孔右半圆两端，作为感光挡片的传送口，将上述传送带用硅材料和钼材料反复交替涂层，共涂40层，使其具有反射极紫外光的能力；
75.2，将上述含有微米孔的激光晶体，涂层朝上卡在传送带上的通光孔上，且使顶部与凹槽底部齐平；
76.3，采用数控机床设备制造反光杯，反光杯为两个，上部内径38厘米，下部内径28厘米，管壁厚1厘米的杯形管桶，下方用弧形底封口，连接处设有传送带的传入口和传出口，在每个弧形底上均设有两个激光发射口，将两个杯形管桶上沿焊在一起，用硅材料和钼材料将反光杯内壁外壁反复交替涂层，共涂40层，使其具有反射极紫外光的能力；
77.优选的，将两个反光杯相邻位置的传送口焊出一容纳传送带的通道，使两个反光杯焊为一体且可供传送带通过，从而将传送带在该部分密封，避免外部环境对传送带上的燃料液滴的影响；
78.4，在反光杯下方安装co2激光器，将激光器上的颜色识别系统的探头和四组激光发射装置安装在激光发射口的下方；
79.5，在反光杯两侧各安装一个真空控制腔，所述真空控制腔是由耐高温材料制成的隔间，仅留传送带传入口和传出口，以及检修门，腔内安装有真空泵以及气压监测装置，将反光杯后部的真空控制腔设为真空控制腔ⅰ，将反光杯前部的真空控制腔设为真空控制腔ⅱ；
80.6，在真空控制腔ⅰ后部，用耐高温材料制成隔间，作为碎片清洗腔，仅留传送带传入口和传出口，并设置检修门，在碎片清洗腔内部的传送带，设置有回环，在圆形回环顶部下方安装蒸汽喷头，在蒸汽喷头下方安装托盘，通过管道将蒸汽发生装置与蒸汽喷头连接；
81.7，在真空控制腔ⅱ前部，用耐高温材料制成隔间，作为燃料注入腔，仅留传送带传入口和传出口，并设置检修门，在燃料注入腔内安装燃料注入机，所述燃料注入机设有包括真空控制系统，储液罐，高压喷嘴和扫描系统等，其中，喷头管壁内径的尺寸应与激光晶体的尺寸一致，喷头底部的小喷头的尺寸与激光晶体涂层内的两个长方形区域的尺寸一致，确保燃料喷头发出的燃料液滴仅能流入激光晶体上方涂层内的微米孔中，喷头内设有预抽腔室，腔室底部含有可移动挡板，挡板一侧设有挡板移动腔；
82.8，在燃料注入腔前部，传送带的下方，安装有辅助光源；
83.9，在辅助光源前部，在传送带的外侧，安装有多组第一机械臂;
84.10，在燃料注入腔后部，在传送带的外侧，安装有多组第二机械臂，该机械臂既可以安装在真空控制腔ⅱ前部，也可安装在真空控制腔ⅱ内部。
85.本方案的工作原理如下：
86.所述清洗单元，包括碎片清洗腔，传送带从反光杯传出后，经真空控制腔ⅰ传入碎片清洗腔，在碎片清洗腔内部的传送带设置有圆形回环，使传送带在圆形回环顶部区域倒
置运行，在圆形回环顶部下方设有多组蒸汽喷头，蒸汽喷头下面设有托盘，蒸汽产生装置通过管道与蒸汽喷头连接，传送带在传出碎片清洗腔前恢复正置运行；
87.所述燃料注入单元包括燃料注入腔，在燃料注入腔内设置有燃料注入机，所述燃料注入机是经适宜的离子注入机改造而得，包括在传送器上部设置有多组扫描系统和高压喷嘴，在燃料注入腔内还设置有真空控制系统，储液罐等，所述喷嘴通过管道与储液罐相连通并与传送带上的设有涂层的激光晶体相对应；在燃料注入腔前部，在传送带右侧，设置有第一机械臂，传送带下部设有辅助光源；在燃料注入腔后部，在传送带右侧，设置有第二机械臂。
88.所述颜色识别系统是一种新兴的检测技术，它是在自动控制系统的出现后才被提出的，系通过识别待识别物体表面的rgb值来确定物体颜色。
89.所述传送带材料为石英或玻璃或钢材，其带宽为25厘米，厚度为5厘米，传送时的平均传送速度为80厘米/秒，每传送1秒，会停顿1秒，传送带上的通孔为半径为10厘米的圆，通孔间距为20厘米，通孔的左半圆（此外以环形传送带的中心方向为左，传送带外侧为右）厚度为4.5厘米，并设有1厘米宽的环形边框，均较传送带顶部低0.5厘米，该环形边框的宽度与燃料注入机上的高压喷嘴管臂的厚度一致，通孔右半圆厚度为4厘米，通孔右侧设有底长20厘米，底深1厘米的凹槽，该凹槽底部与通孔右半圆齐高，并连接通孔右半圆两端，作为感光挡片的传送口，通孔右半圆和凹槽均较传送带顶端低1厘米，将上述传送带用硅材料和钼材料反复交替涂层，共涂40层，使其具有反射极紫外光的能力。
90.所述反光杯材料为石英或玻璃或钢材，管壁厚1厘米，上圆内径均为38厘米，下圆内径均为28厘米，杯高均为50厘米，将反光杯用硅材料和钼材料反复交替涂层，共40层，使其具有反射极紫外光的能力。
91.所述激光晶体为半径为10厘米的圆，厚度为1厘米，激光晶体上部设有由硅材料和钼材料组成的涂层，厚度为30微米，颜色为灰色，圆心两侧1厘米处，各设有一个长、宽分别为10厘米、4厘米的长方形区域，该区域内设置有直径为20微米，高30微米，排列整齐的微米孔洞。
92.所述燃料通过高压喷嘴将液态燃料注入微米孔内并凝固封装而成，如锡，颜色为银白色。
93.所述激光晶体通过螺纹配合方式设置在传送带上。
94.所述真空控制腔、碎片清洗腔和燃料注入腔均是采用耐高温材料制成的隔间，仅留传送带传入口和传出口，并设有一扇门。
95.所述真空控制腔，设有真空泵，将腔内气体抽干，并设有气压监测装置，工作时气压控制在0~5帕。
96.所述蒸汽喷头由耐高温材质制成，如钢材，工作时温度应控制在250~300℃，喷头内部压力控制在2个大气压。
97.所述储液罐为燃料液储液罐，燃料液为液态金属锡。
98.所述高压喷嘴为管壁厚度1厘米，内半径10厘米的圆形喷头，设在传送带上方2厘米处，可与传送带上的激光晶体相对应，底部内设有两个内径尺寸为10厘米*4厘米*20微米的小喷头，相对位置与激光晶体涂层上的两个长方形区域相对应，在小喷头上部设有预抽腔室，预抽腔室底部小喷头相对位置上部，设有可移动挡板，厚度为0.5厘米，挡板一侧设有
挡板移动腔，挡板可在电力控制下，移入或移出挡板移动腔，挡板上设有进气导管。
99.所述真空控制系统采用真空泵将燃料注入腔内的气体抽干，并设有气压监测装置，工作时气压控制在0～10帕，另一组真空泵将燃料液抽入预抽腔室内。
100.所述扫描系统用于扫描激光晶体具体位置，帮助高压喷嘴与激光晶体结合。
101.所述辅助光源发出光束，通过激光晶体上方的微米孔将感光挡片击穿。
102.所述感光挡片，上部和下部均无遮挡，为半径为10厘米的圆，厚度为0.5厘米，对光不稳定，遇光会发生化学反应，生成沸点比较低的物质，例如，将沸点比较低的物质（如乙醇，乙酸，苯酚等）作为单体，通过化学键相互结合形成聚合物，该聚合物在强光的照射下或特定波长光源的照射下，快速分解成单体，并在高温下气化成气体。
103.euv辐射源产生装置的工作温度应高于燃料的熔点，如选择锡时，温度要高于232℃。传送带每秒将两个携带有燃料液滴的激光晶体，传送至反光杯的两个杯形管桶内，并停顿1秒，co2激光器的四组激光器发射装置，在停顿的1秒时间内，选择性的击打指定区域内（颜色为灰色）的燃料液滴（颜色为银白色），使其释放出紫外光，该极紫外光可直接传出反光杯，或经传送带和反光杯内壁反射出反光杯，形成两束发散的光束，再通过光束矫正系统等装置，最终输送至物镜，同时给两个晶圆进行刻蚀，通过连续旋转传送带，将未被激光激发的燃料液滴连续输送至反光杯两个管桶内的中心区域，从而实现连续激发出极紫外光的效果；真空控制腔将腔内气体抽干，从而确保反光杯处在真空状态；碎片清洗腔和燃料注入腔通过对激光晶体的清洗和燃料液滴注入，确保该euv辐射源产生装置可全自动连续产生euv辐射源。同时，本实用新型为了防止激光晶体顶部的涂层被锡污染，以及在传送时，燃料液滴溅出微米孔，通过机械臂在燃料注入前将激光晶体的顶部安装挡片，并在燃料注入后，通过机械臂将挡片移走，从而避免其顶部被锡污染，以及燃料液滴的溅出，从而保证了光束的稳定。