技术特征：
1.一种将测量数据拟合至模型的方法，包括：获得与衬底的至少一部分的性能参数相关联的测量数据；以及通过在不允许所述测量数据与被拟合的模型之间的偏差超过阈值的同时使应用于所述模型的拟合参数的复杂性指标最小化，以将所述测量数据拟合至所述模型。2.如权利要求1所述的方法，其中，所述复杂性指标是所述模型参数的1-范数或2-范数，或者是加权的模型参数的1-范数或2-范数。3.如权利要求1所述的方法，其中，所述复杂性指标还包括：用于调节被包括于所述测量数据内的任何异常值的一个或更多个松弛变量以及用于对所述一个或更多个松弛变量加权的一个或更多个系数，所述测量数据与所述被拟合的模型之间的所述偏差被允许超过所述异常值的阈值。4.如权利要求3所述的方法，其中，所述一个或更多个系数是复杂性系数，所述复杂性系数能够被选择和/或优化以确定针对所述拟合的复杂性对所述异常值进行惩罚的程度。5.如权利要求1所述的方法，其中，所述测量数据至少包括二维测量数据。6.如权利要求5所述的方法，其中，所述拟合的步骤包括：确定描述所述性能参数的空间分布的二维区别标识。7.如权利要求1所述的方法，还包括：限定用于所述复杂性指标的拉格朗日乘数，使用所述拉格朗日乘数将所述复杂性指标转换为拉格朗日函数，以及将所述拉格朗日函数转换为二次规划优化。8.如权利要求7所述的方法，其中，所述拟合的步骤包括：将模型参数确定为设计矩阵和用于所述拉格朗日乘数的优化值的线性组合。9.如权利要求1所述的方法，其中，所述测量数据描述以下各项中的一项或多项：所述衬底的特性；限定待应用至所述衬底的图案的图案形成装置的特性；用于保持所述衬底的衬底台和用于保持所述图案形成装置的掩模版台中的一个或两个的位置；或将所述图案形成装置上的图案转移至所述衬底的图案转移系统的特性。10.如权利要求1所述的方法，其中，所述测量数据包括重叠数据、临界尺寸数据、对准数据、焦距数据和调平数据中的一项或多项。11.如权利要求1所述的方法，其中，所述复杂性指标涉及控制光刻过程以优化以下各项中的一项或多项的控制：在平行于衬底平面的方向上的曝光轨迹控制、在垂直于所述衬底平面的方向上的曝光轨迹控制、透镜像差校正、剂量控制和用于光刻设备的激光源的激光带宽控制。12.如权利要求11所述的方法，包括：根据优化的所述控制来控制所述光刻过程。13.如权利要求11所述的方法，其中，所述光刻过程包括对衬底上的层的曝光，所述曝光形成用于制造集成电路的制造过程的一部分。14.如权利要求1所述的方法，所述复杂性指标能够被操作以使重叠误差、边缘放置误差、临界尺寸误差、焦距误差、对准误差和调平误差中的一项或多项最小化。15.一种非暂时性计算机程序载体，包括计算机程序，所述计算机程序包括能够操作以当在适合的设备上运行时执行如权利要求1所述的方法的程序指令。
技术总结
披露了一种将测量数据拟合至模型的方法。该方法包括：获得与衬底的至少一部分的性能参数相关联的测量数据；以及通过在不允许测量数据与被拟合的模型之间的偏差超过阈值的同时使应用于模型的拟合参数的复杂性指标最小化，以将测量数据拟合至模型。以将测量数据拟合至模型。以将测量数据拟合至模型。
技术研发人员：阿利亚斯加尔
受保护的技术使用者：ASML荷兰有限公司
技术研发日：2020.10.05
技术公布日：2022/6/4
再多了解一些
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