纳米压印用树脂固化装置的制作方法

1.本发明涉及一种纳米压印用树脂固化装置。


背景技术：

2.近来，在显示工艺和半导体工艺中，为了在基板(例如，显示面板和晶圆(wafer)等)的表面形成图案(例如，结构化的成型图案和用于蚀刻或蒸镀的掩模图案)，正在利用纳米压印(nano imprint)工艺。
3.以压印(imprint)形式在基板表面形成纳米至微米大小的微细图案的纳米压印工艺对在一面涂布有树脂的基板和在一面形成有图案的模具(mold)加压(molding)并分离(demolding)以将图案转印于树脂。
4.此时，作为加压基板和模具的手段，可以有以板和板对基板和模具加压的板对板型(plate-to-plate type)、以辊和板对基板和模具加压的辊对板型(roll-to-plate type)、以及以辊和辊对基板和模具加压的辊对辊型(roll-to-roll type)。
5.通过基板和模具被加压而转印有图案的树脂是通过光被固化的光固化树脂，其通过从光照射部(例如，uv灯等)照射的光而被固化。
6.这样的光照射部照射树脂的光可以形成光到达树脂的照射区域。
7.照射区域可以由作为光照射部的光源的发光部产生的光直接到达树脂的直接照射区域和直接照射区域的周围的光的扩散而到达树脂的扩散照射区域构成。
8.通过光照射部的直接照射区域完成树脂的光照射的区域可能会通过扩散照射区域重叠地照射光。
9.此时，被重叠地照射光的树脂的区域的固化的程度会不同。
10.例如，光照射部开始光照射的树脂的一侧相较于光照射结束的树脂的另一侧通过扩散照射区域被更多地重叠地照射光，因而固化的程度可能会更高。
11.这样的光照射的重叠所致的固化的程度的差对基板和模具的分离造成影响，因而存在基板发生不良的问题。


技术实现要素：

12.技术问题
13.本发明的目的在于，提供一种纳米压印用树脂固化装置。
14.技术方案
15.本发明的实施例的纳米压印用树脂固化装置包括：光照射部，其以使转印有图案的树脂固化的方式照射光；以及遮光部，其从所述光照射部凸出地配置，以遮蔽因照射至所述树脂的光扩散而重叠地向所述树脂照射光。
16.本发明的实施例的纳米压印用树脂固化装置包括：光照射部，其以使转印有图案的树脂固化的方式照射光；以及准直透镜，其相较于所述光照射部的输出光的发光部配置于前方，以遮蔽因照射至所述树脂的光扩散而重叠地向所述树脂照射光。
17.根据实施例，所述光照射部的照射方向以下侧方向为基准朝向一侧地倾斜。
18.根据实施例，所述光照射部包括照射方向引导部，该照射方向引导部引导照射方向在10度至80度内倾斜。
19.根据实施例，所述光照射部以从所述树脂的一端照射至另一端的方式在一个方向上移动。
20.根据实施例，所述树脂以从一端到另一端依次经过所述光照射部照射的光的方式移动。
21.发明的效果
22.首先，遮光部和准直透镜遮蔽扩散照射区域向树脂重叠地照射光，以使树脂的固化的程度恒定，从而不会对脱模工序造成影响，因而具有防止基板发生不良的效果。
23.此外，照射方向引导部具有以能够根据目的在限定的数值内改变光照射部的光照射方向的斜率的方式进行引导的效果。
附图说明
24.图1至图4是关于本发明的实施例的纳米压印用树脂固化装置的图。
25.图5是关于本发明的实施例的加压基板和模具的手段的图。
26.符号说明
27.1：基板，2：模具，100：光照射部，110：发光部，120：照射方向引导部，130：凸出部，140：导槽，150：固定部，200：遮光部，300：准直透镜。
具体实施方式
28.下面参照附图对本发明的实施例进行详细说明，以便本发明所属领域中的一般的技术人员能够容易实施。
29.本发明可以多种不同的形式实现，并且不限于这里说明的实施例。
30.近来，在显示工艺和半导体工艺中，为了在基板(例如，显示面板和晶圆(wafer)等)的表面形成图案(例如，结构化的成型图案和用于蚀刻或蒸镀的掩模图案)，正在利用纳米压印(nano imprint)工艺。
31.以压印(imprint)形式在基板表面形成纳米至微米大小的微细图案的纳米压印工艺对在一面涂布有树脂的基板和在一面形成有图案的模具(mold)加压(molding)并分离(demolding)以将图案转印于树脂。
32.此时，作为加压基板和模具的手段，可以有以板和板对基板和模具加压的板对板型(plate-to-plate type)、以辊和板对基板和模具加压的滚对板型(roll-to-plate type)、以及以辊和辊对基板和模具加压的辊对辊型(roll-to-roll type)。
33.通过基板和模具被加压而转印有图案的树脂是通过光被固化的光固化树脂，其通过从光照射部(例如，uv灯等)照射的光而被固化。
34.这样的光照射部照射树脂的光可以形成光到达树脂的照射区域。
35.照射区域可以由作为光照射部的光源的发光部产生的光直接到达树脂的直接照射区域和直接照射区域的周围的光的扩散而到达树脂的扩散照射区域构成。
36.通过光照射部的直接照射区域完成树脂的光照射的区域可能会通过扩散照射区
域重叠地照射光。
37.此时，被重叠地照射光的树脂的区域的固化的程度会不同。
38.例如，光照射部开始光照射的树脂的一侧相较于光照射结束的树脂的另一侧通过扩散照射区域被更多地重叠地照射光，因而固化的程度可能会更高。
39.这样的光照射的重叠所致的固化的程度的差对基板和模具的分离造成影响，因而存在基板发生不良的问题。
40.为了解决这样的问题，如图1所示，本发明的实施例的纳米压印用树脂固化装置可以包括光照射部100和遮光部200。
41.光照射部100可以将通过由作为光源的发光部110产生的光向转印有图案的树脂照射光。
42.树脂可以涂布于基板1的一面。
43.在一面形成有图案的模具2和基板1可以压接而向树脂转印图案。
44.此时，树脂可以是能通过光固化的光固化树脂。
45.此外，光照射部100照射至树脂的光可以是紫外线(ultraviolet light)。
46.即，树脂可以被由光照射部100照射的光固化。
47.遮光部200可以从光照射部100凸出地配置，以遮蔽因照射至树脂的光扩散而重叠地向树脂照射光。
48.此时，如图2所示，可以代替遮光部200应用准直透镜300来遮蔽因照射至树脂的光扩散而重叠地向树脂照射光。
49.这样的准直透镜300可以相较于光照射部100的输出光的发光部110配置于前方。
50.遮光部200可以被配置为使光照射部100的照射区域位于遮光部200与基板1之间。
51.遮光部200可以具备比光照射部100的发光部110更大的宽度，并且在不妨碍光照射部100或基板1的移动的范围内具有突出的长度。例如，如图3所示，遮光部200可以形成为板状，且配置于光照射部100。
52.如此，遮光部200和准直透镜300遮蔽扩散照射区域向树脂重叠地照射光，以使树脂的固化的程度恒定，从而不会对脱模工序造成影响，因而具有防止基板1发生不良的效果。
53.如图4所示，作为对实施例的具体说明，光照射部100的照射方向可以以下侧方向为基准朝向一侧地倾斜而形成倾斜度ag。
54.光照射部100的倾斜度ag可以形成为用于立即对加压于模具2的基板1照射光的斜率。即，可以立即固化形成有图案的树脂。
55.光照射部100的倾斜度ag可以以被定义为0度的朝向下侧的方向和被定义为90度的朝向一侧的方向为基准形成为10度至80度的斜率。
56.如图3和图4所示，作为实施例的具体说明，光照射部100可以包括照射方向引导部120。
57.照射方向引导部120可以引导照射方向以作为0度的下侧方向和作为90度的一侧方向为基准在10度至80度内倾斜。
58.作为一实施例，如图3所示，照射方向引导部120可以是在导槽140中结合以使照射方向的斜率不会被改变的方式进行固定的固定部150的结构，导槽140形成为以引导从形成
为能够旋转的光照射部100凸出的凸出部130的移动以引导光照射方向的斜率的方式具备长度的曲线形态。
59.作为另一实施例，虽然未图示，照射方向引导部120可以是通过驱动器(actuator)改变光照射方向的斜率的结构。
60.如此，照射方向引导部120具有以能够根据目的在限定的数值内改变光照射部100的光照射方向的斜率的方式进行引导的效果。
61.光照射部100可以根据加压基板1和模具2的手段而移动或固定。
62.例如，如图5的(a)所示，在以辊和板对基板1和模具2加压的辊对板型(roll-to-plate tyep)的情况下，光照射部100可以以从一端到另一端照射树脂的方式在一个方向上移动。
63.此外，如图5的(b)所示，在以辊和辊对基板1和模具2加压的辊对辊型(roll-to-roll type)的情况下，树脂可以以从一端向另一端依次经过光照射部100照射的光的方式移动。
64.尽管上面通过优选实施例对本发明进行了详细说明，但本发明不限于此，并且可以在权利要求书的范围内被多样地实施。