一种底座、清洗基站及清洁设备的制作方法

技术特征：
1.一种底座，其特征在于，包括：底座本体，所述底座本体上具有容纳槽，所述容纳槽用于容纳清洁设备的拖布，所述底座本体上设置有清水进口和污水出口；围板，所述围板、所述容纳槽的至少一部分侧壁和所述容纳槽的至少一部分底部限定形成洗涤槽，且所述洗涤槽内设置有多个凸起部；其中，所述清水进口与所述洗涤槽连通，所述污水出口位于所述洗涤槽的外部，并低于所述围板的顶部。2.根据权利要求1所述的底座，其特征在于，所述围板的顶部沿远离所述清水进口的方向朝向所述容纳槽的底部倾斜设置。3.根据权利要求2所述的底座，其特征在于，所述围板的顶部倾斜角度为α，满足8度≤α≤17度。4.根据权利要求1所述的底座，其特征在于，所述洗涤槽呈扇形结构，所述扇形结构的纵向截面面积向远离所述清水进口的方向逐渐减小。5.根据权利要求1所述的底座，其特征在于，所述清水进口靠近所述洗涤槽的一侧设置有多个间隔设置的挡板，相邻两个所述挡板之间形成有间隙。6.根据权利要求1至5中任一项所述的底座，其特征在于，所述容纳槽内设置有凸筋，所述凸筋的顶部设置多个凸起，且所述凸筋位于所述洗涤槽的外部。7.根据权利要求1至5中任一项所述的底座，其特征在于，所述洗涤槽至少设置有两个，且所述污水出口位于相邻两个所述洗涤槽之间。8.根据权利要求7所述的底座，其特征在于，所述底座本体上还设置有送风口，所述送风口位于相邻两个所述洗涤槽之间。9.根据权利要求1所述的底座，其特征在于，所述底座本体上还设置有液位检测传感器。10.一种清洗基站，其特征在于，包括如权利要求1至9中任一项所述的底座。11.一种清洁设备，其特征在于，包括如权利要求10所述的清洗基站。

技术总结
本申请公开了一种底座、清洗基站及清洁设备，涉及清洁设备技术领域。底座包括底座本体和围板。所述底座本体上具有容纳槽，所述容纳槽用于容纳清洁设备的拖布，所述底座本体上设置有清水进口和污水出口；所述围板、所述容纳槽的至少一部分侧壁和所述容纳槽的至少一部分底部限定形成洗涤槽，且所述洗涤槽内设置有多个凸起部；其中所述清水进口与所述洗涤槽连通，所述污水出口位于所述洗涤槽的外部，并低于所述围板的顶部。本申请提供的底座，当拖布旋转洗涤时，拖布与洗涤槽接触，拖布也不断接触凸起部，使其边浸水边摩擦，有利于对拖布的清洗，同时，防止了污水与洗涤槽处清水的混合，提高了对拖布的清洗效果。提高了对拖布的清洗效果。提高了对拖布的清洗效果。


技术研发人员：肖栋 刘德福
受保护的技术使用者：深圳市优必选科技股份有限公司
技术研发日：2022.03.24
技术公布日：2022/6/3