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一种宽光谱离轴四反式光学系统的制作方法

2022-06-04 11:34:50 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种宽光谱离轴四反式光学系统,其特征在于:包括四反式光学机构,所述四反式光学机构包括沿光束传播方向依次设置的第一反射镜(1)、第二反射镜(2)、第三反射镜(3)、第四反射镜(4)和焦平面(5);所述第一反射镜(1)将入射光束反射后以离轴的方式入射至第二反射镜(2),第二反射镜(2)、第三反射镜(3)、第四反射镜(4)对入射光束依次进行反射,第四反射镜(4)将反射光束汇聚至焦平面(5);所述第一反射镜(1)的面型为双曲面结构,第二反射镜(2)的面型为椭球面结构,第三反射镜(3)的面型为自由曲面结构,第四反射镜(4)为平面结构。2.根据权利要求1所述的宽光谱离轴四反式光学系统,其特征在于:所述第一反射镜(1)的曲率半径为r1,且-4000mm≤r1≤-1000mm,其圆锥系数为k1,且-150≤k1≤-10,离轴量为d1,且-40mm≤d1≤-5mm,第一反射镜(1)沿x轴旋转角度为a1,且-40
°
≤a1≤-10
°
;所述第二反射镜(2)的曲率半径为r2,且-1000mm≤r2≤-400mm,其圆锥系数为k2,且-1≤k2≤0,离轴量为d2,且-100mm≤d2≤-40mm,第二反射镜(2)沿x轴旋转角度为a2,且-30
°
≤a2≤-10
°
;所述第三反射镜(3)的曲率半径为r3,且-1000mm≤r3≤-300mm,其离轴量为d3,且-250mm≤d3≤-100mm,第二反射镜(2)沿x轴旋转角度为a3,且0
°
≤a3≤10
°
;所述第四反射镜(4)为平面反射镜,其离轴量为d4,且-25mm≤d4≤-5mm。3.根据权利要求2所述的宽光谱离轴四反式光学系统,其特征在于:所述第一反射镜(1)与第二反射镜(2)的中心距离为e1,且-300mm≤e1≤-200mm;所述第二反射镜(2)与第三反射镜(3)的中心距离为e2,且200mm≤e2≤300mm;所述第三反射镜(3)与第四反射镜(4)的中心距离为e3,且-350mm≤e3≤-250mm;所述第四反射镜(4)与焦平面(5)的中心距离为e4,且200mm≤e4≤300mm。4.根据权利要求3所述的宽光谱离轴四反式光学系统,其特征在于:所述第一反射镜(1)和第二反射镜(2)中的圆锥系数均为圆锥曲面参数,表达式如下:式中,z1为第一反射镜(1)或第二反射镜(2)沿四反式光学机构中心视场的轴线方向在高度为r位置时,沿z轴方向的距离矢高,c表示第一反射镜(1)或第二反射镜(2)的表面顶点曲率,等于第一反射镜(1)或第二反射镜(2)曲率半径r的倒数,即c=1/r,k为第一反射镜(1)或第二反射镜(2)圆锥系数。5.根据权利要求4所述的宽光谱离轴四反式光学系统,其特征在于:所述第三反射镜(3)为xy型自由曲面,其xy多项式的表达式如下:式中:z2为自由曲面沿四反式光学机构中心视场的轴线方向在高度为r位置时,沿z轴方向的距离矢高,r为自由曲面的半径,其余c1…
c
15
为xy多项式中的各项系数,x,y均为自由
曲面的面型坐标。6.根据权利要求5所述的宽光谱离轴四反式光学系统,其特征在于:所述四反式光学机构的焦距与口径比值为4,沿x轴方向水平视场角为-3
°
至 3
°
,沿y轴方向垂直视场角为-3
°
至 3
°
。7.根据权利要求6所述的宽光谱离轴四反式光学系统,其特征在于:所述四反式光学机构的侦擦光谱范围为0.55um至14um,其焦距为250mm≤f≤400mm。8.根据权利要求7所述的宽光谱离轴四反式光学系统,其特征在于:所述第一反射镜(1)的曲率半径为-3514.48mm,第一反射镜(1)的中心与第二反射镜(2)的中心距离为-270mm,第一反射镜(1)的圆锥系数为-142.2,离轴量为-6mm,第一反射镜(1)沿x轴旋转角度为-18
°
,第一反射镜(1)的形状大小为140mm
×
140mm;所述第二反射镜(2)的曲率半径为-622mm,第二反射镜(2)的中心与第三反射镜(3)的中心距离为280mm,第二反射镜(2)的圆锥系数为-0.472,离轴量为-50mm,第二反射镜(2)的沿x轴旋转角度为-14
°
,第二反射镜(2)的形状大小为80mm
×
80mm;所述第三反射镜(3)的曲率半径为-549.601mm,第三反射镜(3)的中心与第四反射镜(4)的中心距离为-308mm,第三反射镜(3)为xy型自由曲面,离轴量为-200mm,第三反射镜(3)沿x轴旋转角度为2.5
°
,第三反射镜(3)的形状大小为170mm
×
170mm;所述第四反射镜(4)为平面反射镜,第四反射镜(4)的中心与焦平面(5)的中心距离为262mm,离轴量为-9mm,第四反射镜(4)形状大小为160mm
×
110mm。

技术总结
本实用新型的目的是解决现有二反射、三反射和四反射光学系统存在自由度较低,难以解决高成像质量与小型化之间矛盾的技术问题。该宽光谱离轴四反式光学系统,包括四反式光学机构,四反式光学机构包括沿光束传播方向依次设置的第一反射镜、第二反射镜、第三反射镜、第四反射镜和焦平面;第一反射镜将入射光束反射后以离轴的方式入射至第二反射镜,第二反射镜、第三反射镜、第四反射镜对入射光束依次进行反射,第四反射镜将反射光束汇聚至焦平面。优化了其光学系统的自由度,同时减小了宽光谱离轴四反式光学系统的体积,并提高了成像质量。并提高了成像质量。并提高了成像质量。


技术研发人员:刘伟 冯联华 蔡占恩 陈继铭 闫福文
受保护的技术使用者:西安中科立德红外科技有限公司
技术研发日:2022.01.14
技术公布日:2022/6/3
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