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精细刻画薄互层超覆尖灭储层的方法、装置及电子设备与流程

2022-05-17 21:34:38 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种正反演结合精细刻画薄互层超覆尖灭储层的方法,其特征在于,包括:基于正演模拟在平面上刻画尖灭线;基于反演模拟在纵向上刻画薄互层储层的厚度变化;基于所述的尖灭线和厚度变化,在空间上描述薄互层超覆尖灭储层。2.根据权利要求1所述的正反演结合精细刻画薄互层超覆尖灭储层的方法,其特征在于,通过对不同角度尖灭进行正演模拟,建立不同尖灭角度与地震资料尖灭点识别误差间的关系,在平面上准确刻画尖灭线。3.根据权利要求1所述的正反演结合精细刻画薄互层超覆尖灭储层的方法,其特征在于,所述基于正演模拟在平面上刻画尖灭线包括:建立不同角度的超覆尖灭正演模型,选取地震子波进行正演模拟,得到正演记录;对比正演记录上读取尖灭点与模型上真实尖灭点之间的误差,对尖灭角度与识别误差进行趋势拟合;根据不同实际数据拟合的尖灭角度与尖灭点识别误差之间的关系,将尖灭线校正至准确位置。4.根据权利要求3所述的正反演结合精细刻画薄互层超覆尖灭储层的方法,其特征在于,以相关系数r2最接近1为选取标准,尖灭角度与识别误差的变化幅度采用乘幂趋势线进行拟合,公式如下:y=ax
b
其中,x为尖灭角度,y为尖灭点识别误差。5.根据权利要求1所述的正反演结合精细刻画薄互层超覆尖灭储层的方法,其特征在于,对实际测井数据进行分析研究,建立敏感测井参数与薄互层储层及盖层之间的关系,通过井曲线模拟反演实现对储层及盖层纵向上的精细刻画。6.根据权利要求1所述的正反演结合精细刻画薄互层超覆尖灭储层的方法,其特征在于,所述基于反演模拟在纵向上刻画薄互层储层的厚度变化包括:针对已有穿透薄互层的测井数据,进行井数据交汇分析;选取对薄互层储层与盖层区分程度高的敏感参数;针对选取的敏感参数做波形指示模拟反演分析;确定储层敏感参数值域范围,得到储层纵向厚度变化;纵向上精细刻画薄互层超覆尖灭储层。7.一种正反演结合精细刻画薄互层超覆尖灭储层的装置,其特征在于,包括:横向刻画单元,基于正演模拟在平面上刻画尖灭线;纵向刻画单元,基于反演模拟在纵向上刻画薄互层储层的厚度变化;精细刻画单元,基于所述的尖灭线和厚度变化,在空间上描述薄互层超覆尖灭储层。8.根据权利要求7所述的正反演结合精细刻画薄互层超覆尖灭储层的装置,其特征在于,所述横向刻画单元还包括:建立不同角度的超覆尖灭正演模型,选取地震子波进行正演模拟,得到正演记录;对比正演记录上读取尖灭点与模型上真实尖灭点之间的误差,对尖灭角度与识别误差进行趋势拟合;根据不同实际数据拟合的尖灭角度与尖灭点识别误差之间的关系,将尖灭线校正至准
确位置。9.根据权利要求7所述的正反演结合精细刻画薄互层超覆尖灭储层的装置,其特征在于,所述纵向刻画单元还包括:针对已有穿透薄互层的测井数据,进行井数据交汇分析;选取对薄互层储层与盖层区分程度高的敏感参数;针对选取的敏感参数做波形指示模拟反演分析;确定储层敏感参数值域范围,得到储层纵向厚度变化;纵向上精细刻画薄互层超覆尖灭储层。10.一种电子设备,其特征在于,所述电子设备包括:存储器,存储有可执行指令;处理器,所述处理器运行所述存储器中的所述可执行指令,以实现权利要求1-6中任一项所述的正反演结合精细刻画薄互层超覆尖灭储层的方法。

技术总结
本发明提出了一种精细刻画薄互层超覆尖灭储层的方法、装置及电子设备。本发明基于正演模拟,建立了不同角度的尖灭地质模型,分析了不同尖灭角度与地震数据识别误差之间的关系;然后通过这种关系对尖灭线真实位置进行校正与反推。本发明同时充分利用了波形指示模拟反演方法的优势,分析不同井数据参数代表的特定质信息,最终实现薄互层储层分布及厚度的预测。最后充分结合正反演结果及构造解释成果,在纵向上与平面储层范围上共同精细刻画薄互层超覆尖灭储层。此方法在实际资料应用中取得了良好的效果,提高了薄互型超覆尖灭储层的预测精度,证实了方法的实用性。证实了方法的实用性。证实了方法的实用性。


技术研发人员:胡玮 张建宁 黎娜 李芦茜 裴思嘉
受保护的技术使用者:中国石油化工股份有限公司石油物探技术研究院
技术研发日:2020.10.23
技术公布日:2022/5/16
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