一种钕铁硼磁铁的充磁工艺的制作方法

1.本发明涉及磁铁充磁技术领域，具体是涉及一种钕铁硼磁铁的充磁工艺。


背景技术：

2.磁铁在工业电子产品领域应用非常广泛，磁铁在生产时包括制粉、成型、固化、研磨、涂装、充磁等将磁铁加工完成进行使用，充磁是把物体放在有直流电通过的线圈所形成的磁场里充放电使其具有磁性的过程，充磁后还需要将磁铁排列好进行包装，在包装的时候磁铁之间不能接触，不然要吸住很难分离，需要用垫片将相邻的磁铁分开，所以在实际操作的时候往往是将磁铁和垫片相间隔排列好以后再进行充磁，但是现在的排列整理都是手工操作，费时费力，不利于大规模的生产，所以急需要一种自动化程度高的设备来解决上述问题。
3.中国专利cn201610415175.8涉及一种磁铁自动充磁排列设备，包括振动盘、传送带和充磁器，振动盘有两个并排布置，分别放置磁铁和垫圈，两个振动盘均通过下料导轨与传送带一端的下料传送机构，下料传送机构一侧的传送带上对称安装有一对导向板，导向板一侧的传送带的上方安装有打标器，传送带的另一端安装有传送排列整理机构，传送排列整理机构的下端与水平布置的排列导轨的一端相连，排列导轨的中部上方安装有充磁器，排列导轨的另一端连接有切断下料机构；传送带的两端布置有滚轴。
4.该设备仅通过传动带输送间接排料的磁铁和垫片，精度较低，容易使得排列顺序发生错误。


技术实现要素：

5.基于此，有必要针对现有技术问题，提供一种钕铁硼磁铁的充磁工艺。
6.为解决现有技术问题，本发明采用的技术方案为：
7.一种钕铁硼磁铁的充磁工艺，充磁工艺使用了充磁设备，所述充磁设备包括排料导轨、充磁器、输送带、推料气缸、第一振动盘、第二振动盘、第一上料爪和第二上料爪，充磁器设置在排料导轨上用于对排料导轨内叠加排列的磁片充磁，推料气缸设置在输送带的进料端，且其输出轴水平朝向排料导轨的进料端，输送带水平设置在排料导轨的进料端和推料气缸的输出轴之间，第一振动盘和第二振动盘设置在输送带的进料侧，第一上料爪设置在第一振动盘和输送带之间，第二上料爪设置在第二振动盘和输送带之间，输送带上沿其长度方向等间距布置有容纳槽，所述容纳槽贯穿输送带的带面，所述容纳槽可卡接磁片和垫片，输送带包括带面水平的上料区和带面竖直的承料区，所述上料区和承料区之间通过弯曲区连接，所述上料区位于第一上料爪和第二上料爪的工作区域内，所述承料区上的其中一个容纳槽位于排料导轨的进料端和推料气缸的输出轴之间。
8.优选地，输送带包括第一基带，第一基带水平设置在排料导轨的进料端和推料气缸的输出轴之间，第一基带沿其长度方向的两端设置有能够自动收放卷的第一主动卷盘，第一基带上沿其长度方向等间距设置有第一容纳孔，第一容纳孔贯穿第一基带的带面，第
一容纳孔的两端均匀布置有能够弯曲的第一限位齿和第二限位齿，第一容纳孔与磁片和垫片间隙配合。
9.优选地，输送带包括第二基带和覆带，第二基带水平设置在排料导轨的进料端和推料气缸的输出轴之间，第二基带沿其长度方向的两端设置有能够自动收放卷的第二主动卷盘，第二基带上沿其长度方向等间距设置有第二容纳孔，第二容纳孔贯穿第二基带的带面，第二容纳孔的一端均匀布置有能够弯曲的第三限位齿，上料区的第一限位齿靠近底端带面，承料区的第一限位齿靠近排料导轨的进料端，第二容纳孔与磁片和垫片间隙配合；覆带水平设置在排料导轨的进料端和推料气缸的输出轴之间，覆带沿长度方向贴附第一基带的弯曲区和承料区的外侧带面，且覆带沿其方向的两端设置有能够自动收放卷的第三主动卷盘。
10.优选地，覆带上沿其长度方向等间距设置有通孔，通孔与第二容纳孔沿第二基带的厚度方向投影重叠，通孔的直径小于第二容纳孔的直径。
11.优选地，输送带的上料区的底端设置有承压板，承压板沿水平方向延伸。
12.优选地，还包括第一约束轮组和第二约束轮组，第一约束轮组和第二约束轮组设置在排料导轨的进料侧，第一约束轮组具有沿水平方向延伸的第一间隙，第二约束轮组具有沿竖直方向延伸的第二间隙，输送带穿过第一间隙和第二间隙后在第一约束轮组和第二约束轮组之间形成弯曲区。
13.优选地，第一上料爪包括直线推动气缸、回转气缸、安置架、第一吸盘和第二吸盘，直线推动气缸沿竖直方向设置在第一振动盘和输送带之间，回转气缸的设置在直线推动气缸的升降工作部，回转气缸的回转工作部竖直朝下，安置架的顶部中心位置与所述回转工作部连接，第一吸盘和第二吸盘分别设置在第一吸盘的两端，第一吸盘和第二吸盘的吸口端竖直朝下，且第一吸盘和第二吸盘分别位于第一振动盘的出料端和输送带的容纳槽的顶部。
14.优选地，第二上料爪与第一上料爪结构完全相同。
15.优选地，还包括牵引轮，牵引轮水平设置在输送带的放料区的底端两侧。
16.优选地，还包括支板，第一上料爪和第二上料爪均设置在支板上。
17.本技术相比较于现有技术的有益效果是：
18.1.本技术通过预先堆叠磁片和垫片的方式，使得单个磁片和单个垫片构成一组，并通过输送带能够将单组磁片和垫片转变其姿态，使得磁片和垫片能够被稳定压入到排料导轨中，从而由充磁器进行充磁，自动化程度和效率更高；
19.2.本技术的第一实施例通过第一基带能够形成带面水平的上料区和带面竖直的承料区，以便于将磁片和垫片压入到第一容纳孔中并由第一限位齿和第一限位齿进行限制，上料稳定，精度更高；
20.3.本技术的第二实施例通过第二基带和覆带能够形成带面水平的上料区和带面竖直的承料区，使得磁片和垫片被压入到第二容纳孔中后被覆带限制，使得单组磁片和垫片能够稳定的被送至排料导轨的进料端和推料气缸的输出轴之间；
21.4.本技术通过在覆带上等间距均布通孔，使得磁片和垫片能够在第三限位齿和通孔的限制下而不易脱离第二容纳孔，同时推料气缸的输出轴可以直接穿过通孔抵接在磁片和垫片的外径，而将磁片和垫片突破第三限位齿并压入到排料导轨中，以防止第二基带和
覆带形变而影响其移动稳定性；
22.5.本技术通过在输送带的上料区底端设置沿水平方向延伸的承压板，使其能够在第一上料爪和第二上料爪上料时，输送带不易受压力而发生变形；
23.6.本技术通过第一约束轮组和第二约束轮组能够使得输送带的带面水平弯曲呈带面竖直，以便于改变磁片和垫片姿态，从而将磁片和垫片稳定压入到排料导轨中。
附图说明
24.图1是本技术的第一实施例的充磁设备的立体图；
25.图2是本技术的第一实施例的充磁设备的俯视图；
26.图3是本技术的第一实施例的充磁设备的正视图；
27.图4是本技术的排料导轨的正视图；
28.图5是本技术的第一基带的立体图；
29.图6是本技术的第一基带的正视图；
30.图7是图6的a-a方向的剖视图；
31.图8是本技术的第一基带安装状态下的立体图；
32.图9是图8的b处局部放大图；
33.图10是本技术的第二实施例的充磁设备的立体图；
34.图11是本技术的第二实施例的充磁设备的俯视图；
35.图12是本技术的第二实施例的充磁设备的正视图；
36.图13是本技术的第二基带和覆带安装状态下的立体图；
37.图14是图13的c处局部放大图。
38.图中标号为：
39.1-排料导轨；2-充磁器；3-输送带；3a-第一基带；3a1-第一容纳孔；3a2-第一限位齿；3a3-第二限位齿；3b-第一主动卷盘；3c-第二基带；3c1-第二容纳孔；3c2-第三限位齿；3d-第二主动卷盘；3e-覆带；3e1-通孔；3f-第三主动卷盘；3g-承压板；4-推料气缸；5-第一振动盘；6-第二振动盘；7-第一上料爪；7a-直线推动气缸；7b-回转气缸；7c-安置架；7d-第一吸盘；7e-第二吸盘；8-第二上料爪；9a-第一约束轮组；9b-第二约束轮组；9c-牵引轮。
具体实施方式
40.为能进一步了解本发明的特征、技术手段以及所达到的具体目的、功能，下面结合附图与具体实施方式对本发明作进一步详细描述。
41.如图1-14所示，本技术提供：
42.一种钕铁硼磁铁的充磁工艺，所述充磁工艺使用了充磁设备，所述充磁设备包括排料导轨1、充磁器2、输送带3、推料气缸4、第一振动盘5、第二振动盘6、第一上料爪7和第二上料爪8，充磁器2设置在排料导轨1上用于对排料导轨1内叠加排列的磁片充磁，推料气缸4设置在输送带3的进料端，且其输出轴水平朝向排料导轨1的进料端，输送带3水平设置在排料导轨1的进料端和推料气缸4的输出轴之间，第一振动盘5和第二振动盘6设置在输送带3的进料侧，第一上料爪7设置在第一振动盘5和输送带3之间，第二上料爪8设置在第二振动盘6和输送带3之间，
43.输送带3上沿其长度方向等间距布置有容纳槽，所述容纳槽贯穿输送带3的带面，所述容纳槽可卡接磁片和垫片，输送带3包括带面水平的上料区和带面竖直的承料区，所述上料区和承料区之间通过弯曲区连接，所述上料区位于第一上料爪7和第二上料爪8的工作区域内，所述承料区上的其中一个容纳槽位于排料导轨1的进料端和推料气缸4的输出轴之间。
44.基于上述实施例，磁片在未充磁前无磁力，排料导轨1上设置有沿其长度方向延伸的抵接槽，磁片和垫片能够均匀排列在抵接槽中，输送带3包括带面水平的上料区和带面竖直的承料区，即上料区和承料区的带面相互垂直，进而使得所述上料区和承料区之间需要通过弯曲区连接。
45.本技术想要解决的技术问题是如何自动排列磁片和垫片并对其进行充磁。为此，本技术通过排料导轨1、充磁器2、输送带3、推料气缸4、第一振动盘5、第二振动盘6、第一上料爪7和第二上料爪8组成了能够自动排列磁片和垫片的充磁设备，使得输送带3在第一上料爪7的工作区域、第二上料爪8的工作区域和排料导轨1的进料端依次循环移动，即使得容纳槽在第一上料爪7的工作区域、第二上料爪8的工作区域和排料导轨1的进料端依次循环移动；
46.在输送带3的上料区，输送带3的带面水平，启动第一上料爪7，使其将第一振动盘5的出料端上的磁片取出并放置在上料区的容纳槽中，同时启动第二上料爪8，使其将第二振动盘6的出料端上的垫片取出并放置在上料区的容纳槽中，使得垫片被堆叠在磁片的顶面；
47.又或是，启动第一上料爪7，使其将第一振动盘5的出料端上的垫片取出并放置在上料区的容纳槽中，同时启动第二上料爪8，使其将第二振动盘6的出料端上的磁片取出并放置在上料区的容纳槽中，使得磁片被堆叠在垫片的顶面；
48.磁片和垫片被卡接在容纳材中而无法脱离，磁片和垫片由上料区移动至承料区时，其姿态发生变化，即水平状态的磁片和垫片，变为竖直状态的磁片和垫片，当竖直状态的磁片和垫片移动至排料导轨1的进料端和推料气缸4的输出轴之间时，启动推料气缸4，使得推料气缸4的输出轴抵接在磁片和垫片的一侧，制动磁片和垫片脱离容纳槽并排列在排料导轨1中，推料气缸4复位，而输送带3继续输送垫片和磁片，使得排料导轨1中沿水平方向逐渐叠加，直到磁片穿过充磁器2而被充磁，使得充磁的磁片从排料导轨1的出料端向外排出。
49.如图5、图7和图8所示，进一步的：
50.输送带3包括第一基带3a，第一基带3a水平设置在排料导轨1的进料端和推料气缸4的输出轴之间，第一基带3a沿其长度方向的两端设置有能够自动收放卷的第一主动卷盘3b，第一基带3a上沿其长度方向等间距设置有第一容纳孔3a1，第一容纳孔3a1贯穿第一基带3a的带面，第一容纳孔3a1的两端均匀布置有能够弯曲的第一限位齿3a2和第二限位齿3a3，第一容纳孔3a1与磁片和垫片间隙配合。
51.基于上述实施例，本技术想要解决的技术问题是输送带3上的容纳槽如何卡接磁片和垫片。为此，作为本技术的第一实施例，本技术通过第一基带3a能够形成带面水平的上料区和带面竖直的承料区，并启动第一主动卷盘3b，使得第一基带3a能够在第一上料爪7、第二上料爪8和排料导轨1之间移动，因第一限位齿3a2能够弯曲，且第一容纳孔3a1的内径略大于磁片和垫片的直径，即通过第一上料爪7能够将第一振动盘5出料端的磁片沿竖直方
向突破第一限位齿3a2并被压入到第一容纳孔3a1中，通过第二上料爪8能够将第一振动盘5出料端的垫片沿竖直方向突破第一限位齿3a2并压入到第一容纳孔3a1中，使得磁片和垫片在第一容纳孔3a1中呈叠加状态，通过第一限位齿3a2和第二限位齿3a3能够防止磁片和垫片在经过弯曲区时而脱落，当磁片和垫片移动至排料导轨1的进料端和推料气缸4的输出轴之间时，磁片和垫片已经有水平姿态转为竖直姿态，通过启动推料气缸4，使其输出轴能够穿过第一容纳孔3a1，同时将第一容纳孔3a1中的磁片和垫片突破第二限位齿3a3并压入到排料导轨1中，从而在排料导轨1中连续堆叠，以实现磁片和垫片的连续排列上料。
52.如图13和图14所示，进一步的：
53.输送带3包括第二基带3c和覆带3e，
54.第二基带3c水平设置在排料导轨1的进料端和推料气缸4的输出轴之间，第二基带3c沿其长度方向的两端设置有能够自动收放卷的第二主动卷盘3d，第二基带3c上沿其长度方向等间距设置有第二容纳孔3c1，第二容纳孔3c1贯穿第二基带3c的带面，第二容纳孔3c1的一端均匀布置有能够弯曲的第三限位齿3c2，上料区的第一限位齿3a2靠近底端带面，承料区的第一限位齿3a2靠近排料导轨1的进料端，第二容纳孔3c1与磁片和垫片间隙配合；
55.覆带3e水平设置在排料导轨1的进料端和推料气缸4的输出轴之间，覆带3e沿长度方向贴附第一基带3a的弯曲区和承料区的外侧带面，且覆带3e沿其方向的两端设置有能够自动收放卷的第三主动卷盘3f。
56.基于上述实施例，本技术想要解决的技术问题是输送带3上的容纳槽如何卡接磁片和垫片。为此，作为本技术的第二实施例，本技术通过第二基带3c和覆带3e能够形成带面水平的上料区和带面竖直的承料区，同步启动第二主动卷盘3d和第三主动卷盘3f，能够使得第二基带3c和覆带3e同步移动，在第二基带3c的上料区，通过第一上料爪7能够将第一振动盘5出料端的磁片沿竖直方向压入到第二容纳孔3c1中，通过第二上料爪8能够将第一振动盘5出料端的垫片沿竖直方向压入到第二容纳孔3c1中，使得磁片和垫片在第二容纳孔3c1中呈叠加状态，当磁片和垫片进入弯曲区时，覆带3e覆盖在第二基带3c的外侧能够防止磁片和垫片脱离第二容纳孔3c1，当磁片和垫片移动至排料导轨1的进料端和推料气缸4的输出轴之间时，启动推料气缸4，使其输出轴抵接覆带3e，使得第二基带3c和覆带3e形变，进而使得磁片和垫片突破第一限位齿3a2而被压入到排料导轨1中，从而在排料导轨1中连续堆叠，以实现磁片和垫片的连续排列上料。
57.如图14所示，进一步的：
58.覆带3e上沿其长度方向等间距设置有通孔3e1，通孔3e1与第二容纳孔3c1沿第二基带3c的厚度方向投影重叠，通孔3e1的直径小于第二容纳孔3c1的直径。
59.基于上述实施例，本技术想要解决的技术问题是因推料气缸4的输出轴抵接使得磁片和垫片脱离容纳槽的方式，容易影响第二基带3c和覆带3e输送。为此，本技术通过在覆带3e上等间距均布通孔3e1，使得磁片和垫片能够在第三限位齿3c2和通孔3e1的限制下而不易脱离第二容纳孔3c1，同时推料气缸4的输出轴可以直接穿过通孔3e1抵接在磁片和垫片的外径，而将磁片和垫片突破第三限位齿3c2并压入到排料导轨1中，以防止第二基带3c和覆带3e形变而影响其移动稳定性。
60.如图9所示，进一步的：
61.输送带3的上料区的底端设置有承压板3g，承压板3g沿水平方向延伸。
62.基于上述实施例，本技术想要解决的技术问题是第一上料爪7和第二上料爪8将磁片和垫片沿竖直方向卡接在容纳槽中时，输送带3因其底端无支撑而发生形变。为此，本技术通过在输送带3的上料区底端设置沿水平方向延伸的承压板3g，使其能够在第一上料爪7和第二上料爪8上料时，输送带3不易受压力而发生变形。
63.如图8和图13所示，进一步的：
64.还包括第一约束轮组9a和第二约束轮组9b，第一约束轮组9a和第二约束轮组9b设置在排料导轨1的进料侧，第一约束轮组9a具有沿水平方向延伸的第一间隙，第二约束轮组9b具有沿竖直方向延伸的第二间隙，输送带3穿过第一间隙和第二间隙后在第一约束轮组9a和第二约束轮组9b之间形成弯曲区。
65.基于上述实施例，本技术想要解决的技术问题是输送带3如何形成弯曲区。为此，本技术通过第一约束轮组9a和第二约束轮组9b能够使得输送带3的带面水平弯曲呈带面竖直，以便于改变磁片和垫片姿态，从而将磁片和垫片稳定压入到排料导轨1中。
66.如图9所示，进一步的：
67.第一上料爪7包括直线推动气缸7a、回转气缸7b、安置架7c、第一吸盘7d和第二吸盘7e，直线推动气缸7a沿竖直方向设置在第一振动盘5和输送带3之间，回转气缸7b的设置在直线推动气缸7a的升降工作部，回转气缸7b的回转工作部竖直朝下，安置架7c的顶部中心位置与所述回转工作部连接，第一吸盘7d和第二吸盘7e分别设置在第一吸盘7d的两端，第一吸盘7d和第二吸盘7e的吸口端竖直朝下，且第一吸盘7d和第二吸盘7e分别位于第一振动盘5的出料端和输送带3的容纳槽的顶部。
68.基于上述实施例，本技术想要解决的技术问题是第一上料爪7如何将第一振动盘5出料端上的磁片或垫片放置到输送带3的容纳槽中。为此，本技术通过直线推动气缸7a、回转气缸7b和安置架7c，组成了能够将第一振动盘5出料端的磁片稳定放置在上料区的容纳槽中，通过启动直线推动气缸7a，使其升降工作部带动回转气缸7b，安置架7c、第一吸盘7d和第二吸盘7e竖直下降，使得第一吸盘7d能够吸附起第一振动盘5出料端上的磁片，然后直线推动气缸7a复位，启动回转气缸7b，使得回转工作部旋转，磁片回转至容纳槽的顶部，然后启动直线推动气缸7a，将磁片压入到容纳槽中后复位，从而能够连续上料。
69.如图8和图9所示，进一步的：
70.第二上料爪8与第一上料爪7结构完全相同。
71.基于上述实施例，本技术想要解决的技术问题是第二上料爪8如何将第二振动盘6出料端上的垫片或磁片防止到输送带3的容纳槽中。为此，本技术通过与第一上料爪7结构完全相同的第二上料爪8，使其能够将第二振动盘6出料端上的垫片稳定压入到容纳槽中。
72.如图9所示，进一步的：
73.还包括牵引轮9c，牵引轮9c水平设置在输送带3的放料区的底端两侧。
74.基于上述实施例，本技术想要解决的技术问题是如何确保上料区输送带3的带面水平。为此，本技术通过在放料区的底端两侧设置牵引轮9c，通过将输送带3与牵引轮9c的最顶面相切，能够确保输送带3水平，以便将磁片或垫片沿竖直方向压入到容纳槽中。
75.如图8和图9所示，进一步的：
76.还包括支板，第一上料爪7和第二上料爪8均设置在支板上。
77.基于上述实施例，本技术想要解决的技术问题是如何稳定至第一上料爪7和第二
上料爪8。为此，本技术通过支板能够稳定至第一上料爪7和第二上料爪8，使其能够正常工作。
78.以上实施例仅表达了本发明的一种或几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。