处理液喷嘴和清洗装置的制作方法

技术特征：
1.一种处理液喷嘴，其特征在于，包括：超声波施加部，其具有产生超声波的振子和与所述振子接合的振动体；第一供给流路，其对与所述超声波施加部的所述振动体接触的位置供给第一液体；释放流路，其将由所述超声波施加部施加了超声波的所述第一液体供给到释放口；以及对所述释放流路供给第二液体的第二供给流路，其连接在所述释放流路的比所述超声波施加部靠下游侧的位置。2.根据权利要求1所述的处理液喷嘴，其特征在于：所述第一液体具有强酸性或强碱性，所述第二液体具有发泡性。3.根据权利要求1或2所述的处理液喷嘴，其特征在于：在所述释放流路中，从与所述第一供给流路连接的连接部至与所述第二供给流路连接的连接部的长度为所述释放口的口径以上的长度。4.根据权利要求1至3中任一项所述的处理液喷嘴，其特征在于：在所述释放流路中，从与所述第二供给流路连接的连接部至所述释放口的长度为所述释放口的口径以上的长度。5.根据权利要求1至4中任一项所述的处理液喷嘴，其特征在于：所述释放流路的内径与所述释放口的口径相等。6.根据权利要求1至4中任一项所述的处理液喷嘴，其特征在于：所述释放流路中的上游侧的内径比所述释放口的口径大。7.根据权利要求1至6中任一项所述的处理液喷嘴，其特征在于：在所述第一液体的粘度比所述第二液体的粘度大的情况下，所述释放流路中的从与所述第二供给流路连接的连接部至所述释放口的长度，比所述释放流路中的从与所述第一供给流路连接的连接部至与所述第二供给流路连接的连接部的长度长。8.根据权利要求1至7中任一项所述的处理液喷嘴，其特征在于：在所述第一液体的流量比所述第二液体的流量小的情况下，所述释放流路中的从与所述第一供给流路连接的连接部至与所述第二供给流路连接的连接部的长度，比所述释放流路中的从与所述第二供给流路连接的连接部至所述释放口的长度长。9.根据权利要求1至8中任一项所述的处理液喷嘴，其特征在于：所述第一液体的供给压力比所述第二液体的供给压力大。10.根据权利要求1至9中任一项所述的处理液喷嘴，其特征在于：在将所述第一液体和所述第二液体混合时产生反应热的情况下，所述释放流路中的从与所述第一供给流路连接的连接部至与所述第二供给流路连接的连接部的长度，比所述释放流路中的从与所述第二供给流路连接的连接部至所述释放口的长度长。11.根据权利要求1至10中任一项所述的处理液喷嘴，其特征在于：还包括供给第三液体的第三供给流路，所述第三供给流路连接在所述第一供给流路、或者所述释放流路中的比与所述第二供给流路连接的连接部靠上游侧的位置。12.根据权利要求1至11中任一项所述的处理液喷嘴，其特征在于：还包括除电部，所述除电部对从所述释放口释放的混合液进行除电。
13.一种清洗装置，其特征在于，包括：权利要求1至12中任一项所述的处理液喷嘴；和保持基片并使其旋转的基片处理部。14.根据权利要求13所述的清洗装置，其特征在于：还包括设置在所述处理液喷嘴的待机位置的伪分配槽，所述伪分配槽具有吸引附着于所述释放口的液体的吸引嘴。15.根据权利要求14所述的清洗装置，其特征在于：还包括控制各部分的控制部，所述控制部在利用所述基片处理部对所述基片进行处理之前，利用所述吸引嘴对附着于所述处理液喷嘴的所述释放口的液体进行吸引，其中，所述处理液喷嘴在所述伪分配槽待机。16.根据权利要求13所述的清洗装置，其特征在于：还包括设置在所述处理液喷嘴的待机位置的伪分配槽，所述伪分配槽具有对附着于所述释放口的液体进行鼓风的鼓风部。17.根据权利要求16所述的清洗装置，其特征在于：还具有控制各部分的控制部，所述控制部在利用所述基片处理部对所述基片进行处理之前，利用所述鼓风部对附着于所述处理液喷嘴的所述释放口的液体进行鼓风，其中，所述处理液喷嘴在所述伪分配槽待机。

技术总结
本发明的一个方式的处理液喷嘴包括超声波施加部(60)、第一供给流路(71)、释放流路(72)和第二供给流路(73)。超声波施加部(60)具有产生超声波的振子(61)和与振子(61)接合的振动体(62)。第一供给流路(71)对与超声波施加部(60)的振动体(62)接触的位置供给第一液体(L1)。释放流路(72)将由超声波施加部(60)施加了超声波的第一液体(L1)供给到释放口(74)。第二供给流路(73)连接在释放流路(72)的比超声波施加部(60)靠下游侧的位置，对释放流路(72)供给第二液体(L2)。供给第二液体(L2)。供给第二液体(L2)。


技术研发人员：后藤大辅 森川胜洋 古贺贵广
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
技术研发日：2020.09.14
技术公布日：2022/4/26