一种用于石英晶片生产的浸蚀系统的制作方法

1.本实用新型涉及晶片生产加工技术领域，尤其涉及一种用于石英晶片生产的浸蚀系统。


背景技术：

2.在石英晶片的生产加工过程中，一般需要经过磨削、切片、抛光等机械加工工序，之后晶片的表面会因加工造成机械损伤层，也称加工变质层，使得晶片的机械强度降低，会在后续制作过程中对产品的性能产生影响。为了去除晶片表面的机械损伤层，通常需要对石英晶片进行浸蚀处理。
3.在对石英晶片的浸蚀处理过程中，一般将晶片置于浸蚀容器内，由于浸蚀液的浓度和温度对浸蚀效果的影响较大，因此常通过搅拌结构来促进浸蚀液浓度和温度分布的均匀性。然而现有的部分石英晶片生产用浸蚀装置在使用时，搅拌机构的搅拌叶易与晶片产生磕碰，造成晶片的损伤，进而影响产品质量。因此，为了解决此类问题，我们提出一种用于石英晶片生产的浸蚀系统。


技术实现要素：

4.本实用新型提出的一种用于石英晶片生产的浸蚀系统，解决了现有的部分石英晶片生产用浸蚀装置在使用时，搅拌机构的搅拌叶易与晶片产生磕碰，造成晶片的损伤，进而影响产品质量的问题。
5.为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：
6.一种用于石英晶片生产的浸蚀系统，包括浸蚀筒，所述浸蚀筒的底部内壁上转动设置有搅拌轴，且所述搅拌轴的周向侧壁上固定设置有搅拌叶，所述浸蚀筒的内部活动设置有承放架，且所述承放架呈环形筒状设置，所述承放架与搅拌叶呈套接设置，且所述承放架的周向内壁上开设有若干个贯通的并呈阵列分布的第一通孔，所述浸蚀筒的底部固定安装有电机，且所述电机的输出轴贯穿并延伸至浸蚀筒内与搅拌轴固定相连，所述浸蚀筒的顶部设置有盖体，且所述浸蚀筒的底部内壁上设置有异向驱动组件。
7.优选的，所述搅拌叶呈螺旋状设置，且所述搅拌叶与承放架的周向内壁呈非接触设置。
8.优选的，所述承放架与浸蚀筒的周向内壁呈滑动接触，所述承放架的内部固定设置有若干个呈阵列分布的分隔板。
9.优选的，所述分隔板上开设有若干个贯通的且呈阵列分布的第二通孔。
10.优选的，所述异向驱动组件包括齿盘、齿轮、齿环、嵌装槽和嵌定块，所述浸蚀筒的底部内壁上活动设置有齿盘，且所述齿盘与搅拌轴呈固定套接设置，所述浸蚀筒的底部内壁上活动设置有多个关于齿盘呈环形阵列分布的齿轮，所述浸蚀筒的底端周向内壁活动设置有齿环，且所述齿盘和齿环均与齿轮呈相互啮合设置，所述齿环的顶部开设有多个呈阵列分布的嵌装槽，所述承放架的底部固定设置有多个呈阵列分布的嵌定块，所述嵌定块与
嵌装槽呈一一对应设置且相互匹配。
11.优选的，所述齿盘与浸蚀筒的底端内壁呈滑动接触设置，所述齿轮转动设置在浸蚀筒的底端内壁上，所述齿环与浸蚀筒的底端周向内壁呈转动连接。
12.本实用新型的有益效果为：
13.1、通过承放架和分隔板的设置，承放架呈环形筒状设置，在承放架的周向内壁上开设有若干个贯通的且呈阵列分布的第一通孔，用于浸蚀液向承放架内渗透，在承放架的内部固定设置有若干个呈阵列分布的分隔板，将承放架分隔为多个承放空间，使得相邻承放空间的石英晶片不会发生碰撞挤压，在分隔板上开设有若干个贯通的且呈阵列分布的第二通孔，便于承放架内相邻承放空间内的浸蚀液能够相互流通。
14.2、通过电机、搅拌轴和异向驱动组件的设置，当嵌定块与嵌装槽嵌合时，承放架与齿环为相对固定关系，此时，电机带动搅拌轴转动时，能够带动齿盘转动，进而利用齿轮的传动带动齿环转动，且齿盘与齿环的转动方向相反，即通过齿环带动承放架转动，且搅拌叶与承放架的转动方向相反，有利于石英晶片更加充分的被浸蚀液浸蚀。
15.综上所述，本实用新型不仅实现了在石英晶片浸蚀处理过程中，承放架与搅拌叶的相对隔离，且实现了承放架与搅拌叶的异向转动，有利于石英晶片更加充分的浸蚀处理，解决了现有的部分石英晶片生产用浸蚀装置在使用时，搅拌机构的搅拌叶易与晶片产生磕碰，造成晶片的损伤，进而影响产品质量的问题，适宜推广。
附图说明
16.图1为本实用新型的结构示意图；
17.图2为本实用新型的剖视图；
18.图3为本实用新型的图2中a的放大图；
19.图4为本实用新型的承放架与分隔板的安装结构图；
20.图5为本实用新型的齿盘、齿轮和齿环的安装结构图。
21.图中标号：1、浸蚀筒；2、搅拌轴；3、搅拌叶；4、承放架；5、第一通孔；6、电机；7、分隔板；8、第二通孔；9、齿盘；10、齿轮；11、齿环；12、嵌装槽；13、嵌定块。
具体实施方式
22.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。
23.参照图1-3，一种用于石英晶片生产的浸蚀系统，包括浸蚀筒1，在浸蚀筒1的顶部设置有盖体，在浸蚀筒1的底部内壁上转动设置有搅拌轴2，在搅拌轴2的周向侧壁上固定设置有搅拌叶3，搅拌叶3呈螺旋状设置，在浸蚀筒1的内部活动设置有承放架4，将承放架4与浸蚀筒1的周向内壁呈滑动接触，使承放架4呈环形筒状设置，在承放架4的周向内壁上开设有若干个贯通的且呈阵列分布的第一通孔5，用于浸蚀液向承放架4内渗透，在承放架4的内部固定设置有若干个呈阵列分布的分隔板7，将承放架4分隔为多个承放空间，使得相邻承放空间的石英晶片不会发生碰撞挤压，在分隔板7上开设有若干个贯通的且呈阵列分布的第二通孔8，便于承放架4内相邻承放空间内的浸蚀液能够相互流通，将承放架4与搅拌叶3
呈套接设置，使搅拌叶3与承放架4的周向内壁呈非接触设置，避免搅拌叶3与承放架4产生运动干涉，在浸蚀筒1的底部固定安装有电机6，使电机6的输出轴贯穿并延伸至浸蚀筒1内与搅拌轴2固定相连，通过电机6驱动搅拌轴2转动，进而带动搅拌叶3转动。
24.参照图2-5，在浸蚀筒1的底部内壁上设置有异向驱动组件，异向驱动组件包括齿盘9、齿轮10、齿环11、嵌装槽12和嵌定块13，在浸蚀筒1的底部内壁上活动设置有齿盘9，使齿盘9与浸蚀筒1的底端内壁呈滑动接触设置，将齿盘9与搅拌轴2呈固定套接设置，在浸蚀筒1的底部内壁上转动设置有多个关于齿盘9呈环形阵列分布的齿轮10，在浸蚀筒1的底端周向内壁活动设置有齿环11，使齿环11与浸蚀筒1的底端周向内壁呈转动连接，将齿盘9和齿环11均与齿轮10呈相互啮合设置，在齿环11的顶部开设有多个呈阵列分布的嵌装槽12，在承放架4的底部固定设置有多个呈阵列分布的嵌定块13，使嵌定块13与嵌装槽12呈一一对应设置相互匹配，当嵌定块13与嵌装槽12嵌合时，即承放架4与齿环11为相对固定关系，此时，电机6带动搅拌轴2转动时，能够带动齿盘9转动，进而利用齿轮10的传动带动齿环11转动，且齿盘9与齿环11的转动方向相反。
25.工作原理：本实用新型在使用时，待浸蚀的石英晶片承装在承放架4的分隔空间内，通过嵌定块13与嵌装槽12的嵌合，使得承放架4与齿环11呈相对固定管，此时，启动电机6，电机6带动搅拌轴2转动，即带动搅拌叶3转动，促进浸蚀液的均匀分布，同时，在搅拌轴2转动时，能够带动齿盘9转动，进而利用齿轮10的传动带动齿环11转动，且齿盘9与齿环11的转动方向相反，即通过齿环11带动承放架4转动，且搅拌叶3与承放架4的转动方向相反，有利于石英晶片更加充分的被浸蚀液浸蚀。
26.以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。