一种光刻胶组合物及应用的制作方法

1.本发明涉及光刻胶技术领域，尤其涉及一种光刻胶组合物及应用。


背景技术：

2.常用的光刻胶树脂包括酚醛树脂、苯乙烯树脂和丙烯酸树脂等，由于耐热性不足，随着时间推移会发生树脂的降解和变性，一般在完成蚀刻后会被剥离去除，不能保留在显示器和芯片模组内。
3.聚酰亚胺树脂材料一样具有高耐热性和高绝缘性、以及良好的强度和柔韧度，近年来在平板显示器、功能性芯片以及半导体芯片制造上被广泛应用。现有光刻胶在碱性溶液中溶解度小，显影效果差，聚酰亚胺树脂作为平板显示器和芯片模块的组成部分，如果能够同时具有光敏性，能够形成需要的光刻图形，将大大缩短现有的生产工艺流程、提高模组的生产效率，具有极大的实用性。


技术实现要素：

4.本发明的目的在于提供一种光刻胶组合物及应用，该光刻胶在碱性溶液中溶解度大，显影效果好，实现形成需要的光刻图形，缩短现有的生产工艺流程，提高模组的生产效率，提高实用性。
5.本发明的目的采用以下技术方案实现：
6.本发明提供了一种光刻胶组合物，该光刻胶组合物包括：
7.聚酰胺酸树脂，重氮萘醌磺酸脂类感光剂和添加剂；
8.所述聚酰胺酸树脂具有如式(1)或式(2)所示的结构单元，
9.式(1)：
10.式(2)：
11.其中，r1和r2各自独立地选自如式(3)所示的结构，
12.式(3)：-o-r
11-(oh)n，
13.式(3)中，r
11
选自1-6个碳原子的烷基、2-6个碳原子的烯烃基、3-6个碳原子的炔烃基、1-6个碳原子的至少含氧、氮、硫之一的杂合碳链、或6-12个碳原子的芳香族基团，n为1-6中任意一个整数；
14.r7选自单键、1-4个碳原子的烷基、1-4个碳原子的烷氧基、羰基、磺酸基、芳基、氧、
硫、氮中的任意一种；
15.r3选自1-4个碳原子的烷基、1-4个碳原子的至少含氧、氮、硫之一的杂合碳链、或式(4)所示的结构，
16.式(4)：
17.式(4)中，r8和r9各自独立地选自羟基、羧基、氨基、磺酸基中的任意一种；
18.r
10
选自单键、1-4个碳原子的烷基、1-4个碳原子的烷氧基、羰基、磺酸基、芳基、氧、硫、氮中的任意一种；
19.r4、r5和r6各自独立地选自羟基、羧基、氨基、磺酸基中的任意一种。
20.在一些可选的实施例中，所述聚酰胺酸树脂具有如下如式(5)、式(6)、式(7)、式(8)所示的结构单元，
21.式(5)：
22.式(6)：
23.式(7)：
24.；式(8)：
[0025][0026]
在一些可选的实施例中，所述重氮萘醌磺酸脂类感光剂具有如式(9)、(10)或(11)所示的结构，
[0027]
式(9)：
[0028]
式(10)：
[0029]
式(11)：
[0030]
式(9)、(10)、(11)中，d各自独立地选取如式(12)或(13)所示的结构，
[0031]
式(12)：
[0032]
式(13)：
[0033]
在一些可选的实施例中，式(9)、(10)或(11)所示的结构中，d数量为1个、2个或3个。
[0034]
在一些可选的实施例中，式(3)为式(14)所示的结构，p为1-3中任意一个整数，m为1-10中任意一个整数，n为2、3、4、5中任意一个整数；
[0035]
式(14):
[0036]
在一些可选的实施例中，所述聚酰胺酸树脂的重均分子量为1000-50000。
[0037]
在一些可选的实施例中，按重量份计，所述光刻胶组合物包括：
[0038]
聚酰胺酸树脂：5-20份；
[0039]
重氮萘醌磺酸脂类感光剂：1-6份；
[0040]
添加剂：1-2份。
[0041]
在一些可选的实施例中，所述添加剂包括溶剂和表面活性剂。
[0042]
在一些可选的实施例中，所述溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯、二甲基乙酰胺、二甲苯、苯甲醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇甲醚乙酸酯、二缩乙二醇甲醚、二缩乙二醇乙醚、丙二醇甲醚醋酸酯、醋酸丁酯、乙酸乙酯、乳酸乙酯、γ-丁内酯、n-甲基吡咯烷酮中的至少一种；
[0043]
所述表面活性剂为含氟类和含硅类表面活性剂中的一种，或含氟类和含硅类表面活性剂多种组合。
[0044]
本发明还提供了一种光刻胶组合物的应用，所述光刻胶组合物应用于制造平板显示器、功能性芯片或半导体芯片。
[0045]
与现有技术相比，本发明的有益效果至少包括：
[0046]
通过上述光刻胶组合物，在聚酰胺酸树脂结构单元的羧基中引入一个二醇(或二醇以上的结构)，尤其是当r
11
是带有烃基的苯基时，式(3)所示的结构在酯化前，烃基和苯基上分别带有羟基基团，聚酰胺酸树脂在酯化过程中，烃基上的醇羟基和羧基反应性较强，可以和羧酸基团通过常规酯化反应结合形成酯基，而苯基上的酚羟基在该酯化反应竞合中不会和羧基反应而得以保留，通过酯化得到的聚酰胺酸树脂构成的光刻胶组分，酯化后的聚酰胺酸树脂和重氮萘醌磺酸脂类感光剂能够在加热条件下形成非碱溶性结构从而使得光刻胶被固化，在光刻机内进行曝光时，曝光区域通过光照作用使重氮萘醌磺酸脂类感光剂发生沃尔夫转位反应形成带羧酸基团的物质，聚酰胺酸树脂间的架桥点断裂形成羧酸，以及r1和r2各自与主体断裂分解并在主体上形成羧酸，断裂后的r1和r2分别带有酚羟基，羧酸和酚羟基都能够显著提高曝光区域的碱溶性，且重氮萘醌磺酸脂类感光剂的反应对于聚酰
胺酸树脂的分解具有促进作用，经碱性显影液作用被溶解；而非曝光区域不发生反应不具有碱溶性被留下形成光刻图形，通过实验证实，上述设计使得即使非曝光区域的聚酰胺酸树脂上带有酚羟基，也无法被溶解，因此，可以有效的进行光刻胶成形，而且由于聚酰胺酸树脂良好的耐热性能，光刻胶图形的耐热性也提高到300℃以上，耐热性能良好，本发明的光刻胶组合物能够在提高曝光区域的碱溶性、降低非曝光区域的碱溶性以及提高耐热性方面取得较佳平衡。
具体实施方式
[0047]
现在将更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本发明更全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。
[0048]
本发明实施例提供了一种光刻胶组合物，该光刻胶组合物包括聚酰胺酸树脂，重氮萘醌磺酸脂类感光剂和添加剂。
[0049]
所述聚酰胺酸树脂具有如式(1)或式(2)所示的结构单元，
[0050]
式(1)：
[0051]
式(2)：
[0052]
其中，r1和r2各自独立地选自如式(3)所示的结构，
[0053]
式(3)：-o-r
11-(oh)n，
[0054]
式(3)中，r
11
选自1-6个碳原子的烷基、2-6个碳原子的烯烃基、3-6个碳原子的炔烃基、1-6个碳原子的至少含氧、氮、硫之一的杂合碳链、或6-12个碳原子的芳香族基团，n为1-6中任意一个整数。烷基例如是甲基、乙基、正丙基、异丙基；烯烃基例如是丙烯基；炔烃基例如是丙炔基；芳香族基团例如是苯基、萘基。
[0055]
r7选自单键、1-4个碳原子的烷基、1-4个碳原子的烷氧基、羰基、磺酸基、芳基、氧、硫、氮中的任意一种。
[0056]
r3选自1-4个碳原子的烷基、1-4个碳原子的至少含氧、氮、硫之一的杂合碳链、或式(4)所示的结构，
[0057]
式(4)：
[0058]
式(4)中，r8和r9各自独立地选自羟基、羧基、氨基、磺酸基中的任意一种。
[0059]r10
选自单键、1-4个碳原子的烷基、1-4个碳原子的烷氧基、羰基、磺酸基、芳基、氧、硫、氮中的任意一种。
[0060]
r4、r5和r6各自独立地选自羟基、羧基、氨基、磺酸基中的任意一种。
[0061]
通过上述光刻胶组合物，在聚酰胺酸树脂结构单元的羧基中引入一个二醇(或二醇以上的结构，如式(3)所示的结构)，尤其是当r
11
是带有烃基的苯基时，式(3)所示的结构在酯化前，烃基和苯基上分别带有羟基基团，聚酰胺酸树脂在酯化过程中，烃基上的醇羟基和羧基反应性较强，可以和羧酸基团通过常规酯化反应结合形成酯基，而苯基上的酚羟基在该酯化反应竞合中不会和羧基反应而得以保留，通过酯化得到的聚酰胺酸树脂构成的光刻胶组分，酯化后的聚酰胺酸树脂和重氮萘醌磺酸脂类感光剂能够在加热条件下形成非碱溶性结构从而使得光刻胶被固化，在光刻机内进行曝光时，曝光区域通过光照作用使重氮萘醌磺酸脂类感光剂发生沃尔夫转位反应形成带羧酸基团的物质，聚酰胺酸树脂间的架桥点断裂形成羧酸，以及r1和r2各自与主体断裂分解并在主体上形成羧酸，断裂后的r1和r2分别带有酚羟基，羧酸和酚羟基都能够显著提高曝光区域的碱溶性，且重氮萘醌磺酸脂类感光剂的反应对于聚酰胺酸树脂的分解具有促进作用，经碱性显影液作用被溶解；而非曝光区域不发生反应不具有碱溶性被留下形成光刻图形，通过实验证实，上述设计使得即使非曝光区域的聚酰胺酸树脂上带有酚羟基，也无法被溶解，因此，可以有效的进行光刻胶成形，而且由于聚酰胺酸树脂良好的耐热性能，光刻胶图形的耐热性也提高到300℃以上，耐热性能良好，本发明的光刻胶组合物能够在提高曝光区域的碱溶性、降低非曝光区域的碱溶性以及提高耐热性方面取得较佳平衡。
[0062]
下面对本示例实施方式中的上述光刻胶组合物进行更详细的说明。
[0063]
可选的，在一些实施例中，所述聚酰胺酸树脂具有如下如式(5)、式(6)、式(7)或式(8)所示的结构单元，
[0064]
式(5)：
[0065]
式(6)：
[0066]
式(7)：
[0067]
；
[0068]
式(8)：
[0069][0070]
可选的，在一些实施例中，所述重氮萘醌磺酸脂类感光剂具有如式(9)、(10)或(11)所示的结构，
[0071]
式(9)：
[0072]
式(10)：
[0073]
式(11)：
[0074]
式(9)、(10)、(11)中，d各自独立地选取如式(12)或(13)所示的结构，
[0075]
式(12)：
[0076]
式(13)：
[0077]
可选的，在一些实施例中，式(9)、(10)或(11)所示的结构中，d数量为1个、2个或3个。具体的，重氮萘醌磺酸脂类感光剂中，配位子d的数量可根据实际情况选择，对此，本实施例不做任何限制。
[0078]
可选的，在一些实施例中，式(3)为式(14)所示的结构，p为1-3中任意一个整数，m为1-10中任意一个整数，n为2、3、4、5中任意一个整数；
[0079]
式(14):
[0080]
具体的，式(14)结构中，烷基上的羟基和羧基发生酯化反应，酚羟基上的羟基在酯化反应竞合中不会和羧基反应而得以保留。同时由于酚羟基具有弱酸性，聚酰胺酸树脂的碱溶性比烷烃基上结合的羟基具有更好的碱溶性，在曝光显影过程时，曝光区域的酯基分解形成羧基，羧基与酚羟基共同作用以提高曝光区域的碱溶性，因此不会使得聚酰胺酸树脂的碱溶性过低而不能正常显影，而制备形成的聚酰胺酸树脂，在非曝光区域又保持较低的碱溶性而使其形成光刻图形。其中，优选的，m为1-3中任意一个整数。
[0081]
可选的，在一些实施例中，所述聚酰胺酸树脂的重均分子量为1000-50000。上述分子量的聚酰胺酸树脂具有较佳的耐热性，其中，优选的，聚酰胺酸树脂的重均分子量为2000-30000。
[0082]
可选的，在一些实施例中，按重量份计，所述光刻胶组合物包括：
[0083]
聚酰胺酸树脂：5-20份；
[0084]
重氮萘醌磺酸脂类感光剂：1-6份；
[0085]
添加剂：1-2份。
[0086]
具体的，聚酰胺酸树脂的份数、重氮萘醌磺酸脂类感光剂的份数、添加剂的份数，可根据实际情况选择，对此，本实施例不做任何限制。
[0087]
可选的，在一些实施例中，所述添加剂包括溶剂和表面活性剂。具体的，溶剂用于分散聚酰胺酸树脂和重氮萘醌磺酸脂类感光剂，表面活性剂作为催化剂，使得聚酰胺酸树
脂和重氮萘醌磺酸脂类感光剂更加充分地反应。
[0088]
可选的，在一些实施例中，所述溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯、二甲基乙酰胺、二甲苯、苯甲醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇甲醚乙酸酯、二缩乙二醇甲醚、二缩乙二醇乙醚、丙二醇甲醚醋酸酯、醋酸丁酯、乙酸乙酯、乳酸乙酯、γ-丁内酯、n-甲基吡咯烷酮中的至少一种；
[0089]
所述表面活性剂为含氟类和含硅类表面活性剂中的一种，或含氟类和含硅类表面活性剂多种组合。
[0090]
可选的，在一些实施例中，所述光刻胶组合物应用于制造平板显示器、功能性芯片或半导体芯片。
[0091]
通过上述光刻胶组合物，在聚酰胺酸树脂结构单元的羧基中引入一个二醇(或二醇以上的结构)，尤其是当r
11
是带有烃基的苯基时，式(3)所示的结构在酯化前，烃基和苯基上分别带有羟基基团，聚酰胺酸树脂在酯化过程中，烃基上的醇羟基和羧基反应性较强，可以和羧酸基团通过常规酯化反应结合形成酯基，而苯基上的酚羟基在该酯化反应竞合中不会和羧基反应而得以保留，通过酯化得到的聚酰胺酸树脂构成的光刻胶组分，酯化后的聚酰胺酸树脂和重氮萘醌磺酸脂类感光剂能够在加热条件下形成非碱溶性结构从而使得光刻胶被固化，在光刻机内进行曝光时，曝光区域通过光照作用使重氮萘醌磺酸脂类感光剂发生沃尔夫转位反应形成带羧酸基团的物质，聚酰胺酸树脂间的架桥点断裂形成羧酸，以及r1和r2各自与主体断裂分解并在主体上形成羧酸，断裂后的r1和r2分别带有酚羟基，羧酸和酚羟基都能够显著提高曝光区域的碱溶性，且重氮萘醌磺酸脂类感光剂的反应对于聚酰胺酸树脂的分解具有促进作用，经碱性显影液作用被溶解；而非曝光区域不发生反应不具有碱溶性被留下形成光刻图形，通过实验证实，上述设计使得即使非曝光区域的聚酰胺酸树脂上带有酚羟基，也无法被溶解，因此，可以有效的进行光刻胶成形，而且由于聚酰胺酸树脂良好的耐热性能，光刻胶图形的耐热性也提高到300℃以上，耐热性能良好，本发明的光刻胶组合物能够在提高曝光区域的碱溶性、降低非曝光区域的碱溶性以及提高耐热性方面取得较佳平衡。
[0092]
下面通过对比例、实施例1、实施例2、实施例3、实施例4对上述光刻胶组合物做进一步说明。
[0093]
对比例
[0094]
聚酰胺酸树脂a的合成：(无酯化聚酰胺酸的合成)
[0095]
冰水混合浴条件下，200ml反应釜中加入100ml的nmp(n-甲基吡咯烷酮)溶剂，再将苯四酸二酐21.8g(100mmol)加入后，放入冰水浴中，边搅拌边将溶解于20ml的nmp中的3,3'-二羟基联苯胺(hab)21.6g(100mmol)用滴定管缓慢滴入反应釜中，滴完后反应釜被移到油浴中加热60℃反应4小时。反应结束后，反应溶液倒入用2l纯水中沉淀后，聚酰胺酸树脂经过3天干燥后得到聚酰胺酸树脂a约38.6g，聚酰胺酸树脂收率约89％。用gpc(凝胶渗透色谱)确认重均分子量约为41400(安捷伦gpc-1260)。
[0096]
实施例1
[0097]
聚酰胺酸树脂b的合成：(甲基酯化聚酰胺酸的合成)
[0098]
冰水混合浴条件下，反应釜中加入100ml的过量的甲醇后，边搅拌边加入苯四酸二酐21.8g(100mmol)，室温下搅拌1小时候用旋转蒸发仪将过量的甲醇去除后得到酯化产物
28.2g。然后将反应釜置于-20℃的甲醇冷媒制冷漕中，在反应釜中缓慢滴入50ml的氯化亚砜，至所有的固体完全溶解，从冷媒中取出并在室温下搅拌3小时，再将过量的氯化亚砜在50℃下减压蒸馏除去后得到氯化后产物31.9g。在反应釜中加入nmp100ml并搅拌至固体完全溶解，放入冰水浴中，边搅拌边将溶解于20ml的nmp中的3,3'-二羟基联苯胺(hab)21.6g(100mmol)用滴定管缓慢滴入反应釜中，滴完后反应釜被移到油浴中加热60℃反应4小时。反应结束后，反应溶液倒入用2l纯水中沉淀后，聚酰胺酸树脂经过3天干燥后得到聚酰胺酸树脂a约37.8g。用gpc确认重均分子量约为37400(安捷伦gpc-1260)。
[0099]
实施例2
[0100]
聚酰胺酸c的合成：(苯四酸二酐的4-羟基苯甲醇酯化)
[0101]
冰水混合浴条件下，200ml反应釜中加入100ml的nmp溶剂，再将苯四酸二酐21.8g(100mmol)加入，然后边搅拌边加入4-羟基苯甲醇14.9g(120mmol)，室温下搅拌2小时后将反应釜置于-20℃的甲醇冷媒制冷漕中，在反应釜中缓慢滴入50ml的氯化亚砜，至所有的固体完全溶解，从冷媒中取出并在室温下搅拌3小时，再将过量的氯化亚砜在50℃下减压蒸馏除去后得到氯化后产物31.9g。在反应釜中加入nmp100ml并搅拌至固体完全溶解，放入冰水浴中，边搅拌边将溶解于20ml的nmp中的3,3'-二羟基联苯胺(hab)21.6g(100mmol)用滴定管缓慢滴入反应釜中，滴完后反应釜被移到油浴中加热60℃反应4小时。反应结束后，反应溶液倒入用2l纯水中沉淀后，聚酰胺酸树脂经过3天干燥后得到聚酰胺酸树脂a约42.6g，聚酰胺酸树脂收率约73％。用gpc确认重均分子量约为36400(安捷伦gpc-1260)。
[0102]
实施例3
[0103]
聚酰胺酸树脂d的合成：(4,4'-氧双邻苯二甲酸酐的4-羟基苯甲醇酯化)
[0104]
冰水混合浴条件下，200ml反应釜中加入100ml的nmp溶剂，再将4,4'-氧双邻苯二甲酸酐31g(100mmol)加入，然后边搅拌边加入4-羟基苯甲醇14.9g(120mmol)，室温下搅拌2小时后将反应釜置于-20℃的甲醇冷媒制冷漕中，在反应釜中缓慢滴入50ml的氯化亚砜，至所有的固体完全溶解，从冷媒中取出并在室温下搅拌3小时，再将过量的氯化亚砜在50℃下减压蒸馏除去后得到氯化后产物41.3g。在反应釜中加入nmp100ml并搅拌至固体完全溶解，重新放入冰水浴中，将溶解于20ml的nmp中的3,3'-二羟基联苯胺(hab)21.6g(100mmol)用滴定管缓慢滴入反应釜中，滴完后反应釜被移到油浴中加热60℃反应4小时。反应结束后，反应溶液倒入用2l纯水中沉淀后，聚酰胺酸树脂经过烘箱在60℃下真空干燥3天，得到聚酰胺酸树脂b约50.2g，聚酰胺酸树脂收率约75％。用gpc确认重均分子量约为38500(安捷伦gpc-1260)。
[0105]
实施例4
[0106]
聚酰胺酸树脂e的合成：(其他胺基：2,2-双(3-氨基-4-羟苯基)丙烷)
[0107]
冰水混合浴条件下，200ml反应釜中加入100ml的nmp溶剂，再将4,4'-氧双邻苯二甲酸酐31g(100mmol)加入，然后边搅拌边加入4-羟基苯甲醇14.9g(120mmol)，室温下搅拌2小时后将反应釜置于-20℃的甲醇冷媒制冷漕中，在反应釜中缓慢滴入50ml的氯化亚砜，至所有的固体完全溶解，从冷媒中取出并在室温下搅拌3小时，再将过量的氯化亚砜在50℃下减压蒸馏除去后得到氯化后产物41.3g。在反应釜中加入nmp100ml并搅拌至固体完全溶解，重新放入冰水浴中，将溶解于20ml的nmp中的2,2-双(3-氨基-4-羟苯基)丙烷25.8g(100mmol)用滴定管缓慢滴入反应釜中，滴完后反应釜被移到油浴中加热60℃反应4小时。
反应结束后，反应溶液倒入用2l纯水中沉淀后，聚酰胺酸树脂经过烘箱在60℃下真空干燥3天，得到聚酰胺酸树脂约46.6g，聚酰胺酸树脂重量收率约65％。用gpc确认重均分子量约为33400(安捷伦gpc-1260)。
[0108]
光刻胶样品调制如下：
[0109]
将10g合成的聚酰亚胺前驱体树脂加入于gbl 50g中，搅拌2小时至完全溶解，然后加入感光剂2.0g(东洋合成)，流平剂megaface f-563 0.3g(dic株式会社)以及交联剂kf-54 0.7g(信越化学株式会社)，搅拌2小时至固体全部溶解。最后将调好的光刻胶样品用3m公司生产的0.2μm过滤器进行过滤。
[0110]
上述光刻胶样品调制中，使用的感光剂的结构为式(9)，式(9)结构如下：
[0111][0112]
配位子d的结构为：
[0113]
式(12)：
[0114]
对上述调好的光刻胶样品进行耐热性测试：
[0115]
将上述调好的光刻胶样品，用旋转涂布机苏斯labspin6通过旋转涂布方式在硅片上生成光刻胶膜，该基板被置于280℃氮气烘箱中烘烤30分钟后降温至23℃室温。用刮刀将硅片表面的光刻胶膜刮落收集，可以得到约1g左右样品。用电子秤称量样品0.5g至于tga铝钵中，然后用perkinelmer tga-8000测量材料随温度变化曲线，确认材料失重5％时的温度。
[0116]
曝光显影及图形观察：
[0117]
将上述调好的不同聚酰胺酸树脂的光刻胶样品，用旋转涂布机苏斯labspin6通过旋转涂布方式在硅片上生成2μm膜厚的膜，该基板被置于120℃热板上烘烤1分钟后降温至23℃室温，然后使用苏斯公司生产的曝光机ma6进行曝光，曝光后基板用tmah 2.38％显影液显影1分钟后用纯水清洗，经过110℃后烘1分钟后，用日立公司生产的扫描电镜su-8100观测断面并测定线宽确定解像度变化。
[0118]
结果与考察：
[0119]
合成树脂的单体构成如表1所示。
[0120]
表1为合成树脂的单体构成
[0121][0122]
测试结果：
[0123]
1)曝光显影后图像效果确认如表2所示：
[0124]
表2曝光显影后图像效果
[0125][0126][0127]
结论：
[0128]
由表2可知，耐热性指标td5：加热时5％热失重。
[0129]
酚醛树脂虽然也具有良好的耐热性，但和聚酰亚胺相比其耐热性严重不足，5％热失重温度只有150℃左右，完全不能满足耐热性需求。
[0130]
聚酰胺酸树脂a由于没有酯化，碱溶性过大，被碱性显影液tmah2.38％完全溶解导致留膜率为零，不能得到正常的光刻图形，但300℃亚胺化后得到的亚胺化膜依然具有接近300℃的良好的耐热性。
[0131]
聚酰胺酸树脂b由于是甲基酯化，曝光后曝光区域难以被tmah显影液正常溶解，得到的图形严重成像不良。
[0132]
而新型酯化后的聚酰胺酸树脂c、d和e具有良好的碱溶性，曝光区域在曝光后发生转为反应在标准2.38％tmah显影液中可以溶解被去除，而非曝光区域则不发生反应留在基板上，可以得到正常光刻图形，且图像形貌良好。非曝光区域得以保留也显示出即使聚酰胺酸树脂c、d和e含有酚羟基，非曝光区域的聚酰胺酸树脂c、d和e也无法被溶解。
[0133]
4-羟基苯甲醇酯化的聚酰胺酸树脂c、d和e的耐热性测试也表明，新型酯化剂酯化后的聚酰胺酸树脂形成的膜均具有较好的耐热性能，失重5％的温度可以达到300℃以上。
[0134]
通过本发明羟基苯甲醇进行酯化得到的聚酰胺酸树脂构成的光刻胶组分，可以有效的进行光刻胶成形，而且由于聚酰胺酸树脂良好的耐热性能，光刻胶图形的耐热性也提高到300℃以上，耐热性能良好，本发明的光刻胶组合物能够在提高曝光区域的碱溶性、降低非曝光区域的碱溶性以及提高耐热性方面取得较佳平衡。
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尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在不脱离本发明的原理和宗旨的情况下，在发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型，所有的这些改变都应该属于本发明权利要求的保护范围之内。