光激活抗菌敷料及其制备方法

技术特征：
1.一种光激活抗菌敷料的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：s1、将max陶瓷蚀刻为mxene纳米片；s2、制备mxene/ag3po4异质结；s3、用聚多巴胺修饰mxene/ag3po4异质结；以及s4、将聚己内酯颗粒和聚多巴胺修饰mxene/ag3po4异质结溶解、混匀、成膜，得到纳米纤维膜。2.一种光激活抗菌敷料的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：s1、将max陶瓷蚀刻为mxene纳米片；s2、制备mxene/ags异质结；s3、用聚多巴胺修饰mxene/ags异质结；以及s4、将聚己内酯颗粒和聚多巴胺修饰mxene/ags异质结溶解、混匀、混匀、成膜，得到纳米纤维膜。3.根据权利要求1或2所述的光激活抗菌敷料的制备方法，其特征在于，所述步骤s1包括：s11、将max陶瓷原料浸泡在蚀刻溶液中，并在37～45℃恒温下，持续搅拌12～24小时。4.根据权利要求1或2所述的光激活抗菌敷料的制备方法，其特征在于，所述蚀刻溶液是氟化锂和盐酸溶液的混合物。5.根据权利要求1或2所述的光激活抗菌敷料的制备方法，其特征在于，所述步骤s1还包括：s12、用去离子水冲洗沉淀，3500～4500r/min离心；将产物在真空干燥机中冻干，得到蚀刻的mxene。6.根据权利要求1所述的光激活抗菌敷料的制备方法，其特征在于，所述步骤s2包括：s21、将所述步骤s1得到的mxene分散在蒸馏水中，加入ag

溶液，使ag

静电吸附在mxene表面，所得产物透析，直到透析液中没有ag

残留；s22、强烈搅拌透析液，并逐渐加入的第一沉淀水溶液，所述第一沉淀水溶液为磷酸氢二钠水溶液、亚磷酸银水溶液和磷酸银水溶液中的一种或多种；以及s23、将沉淀再次冻干，得到纯化的mxene/ag3po4异质结。7.根据权利要求2所述的光激活抗菌敷料的制备方法，其特征在于，所述步骤s2包括：s21
′
、将所述步骤s1得到的mxene分散在蒸馏水中，加入ag

溶液，使ag

静电吸附在mxene表面，所得产物透析，直到透析液中没有ag

残留；s22
′
、强烈搅拌透析液，并逐渐加入的第二沉淀水溶液，所述第二沉淀水溶液为硫离子水溶液；以及s23
′
、将沉淀再次冻干，得到纯化的mxene/ags异质结。8.根据权利要求6或7所述的光激活抗菌敷料的制备方法，其特征在于，所述ag

溶液为硝酸银溶液，浓度为0.1～0.15m。9.根据权利要求1所述的光激活抗菌敷料的制备方法，其特征在于，s4、将聚己内酯颗粒、聚多巴胺修饰mxene/ags异质结分布在1,1,1,3,3,3-六氟-2-丙醇，混匀，采用静电纺丝方法成膜，得到纳米纤维膜。10.一种光激活抗菌敷料，其特征在于，所述光激活抗菌敷料由权利要求1至9中任意一项所述的制备方法制备得到，所述光激活抗菌敷料包括异质结、聚多巴胺涂层和聚己内酯
纳米纤维膜，所述异质结为mxene/ag3po4或者mxene/ags异质结。

技术总结
本发明提供了一种光激活抗菌敷料及其制备方法，所述制备方法包括：S1、将MAX陶瓷蚀刻为MXene纳米片；S2、制备MXene/Ag3PO4异质结；S3、用聚多巴胺修饰MXene/Ag3PO4异质结；以及S4、将聚己内酯颗粒和聚多巴胺修饰MXene/Ag3PO4异质结溶解、混匀、成膜，得到纳米纤维膜。本发明的用于感染伤口治疗的伤口敷料，可以短期快速杀菌，长期抑菌并促进伤口愈合的效果。果。果。


技术研发人员：梁坤能 杨英明 陶思颖 邓怡 李继遥
受保护的技术使用者：四川大学
技术研发日：2022.01.05
技术公布日：2022/4/15