微反射镜阵列的制作方法

技术特征：
1.一种微反射镜阵列，包括：衬底；多个反射镜，用于反射入射光；针对所述多个反射镜中的每个反射镜，支撑所述反射镜的相应的柱；以及针对所述多个反射镜中的每个反射镜，被连接到所述衬底的一个或多个静电致动器，所述一个或多个静电致动器用于向所述柱施加力以使柱相对于所述衬底进行位移，由此使所述反射镜进行位移。2.根据权利要求1所述的微反射镜阵列，其中所述一个或多个静电致动器包括至少一对梳状致动器，其中每个梳状致动器包括静态部分和移动部分，所述静态部分被固定到所述衬底，所述移动部分相对于所述衬底是可移动的并且被连接到所述柱，多个细长导体元件中的至少一个细长导体元件从所述静态部分延伸并且与从所述移动部分延伸的多个细长导体元件交错。3.根据权利要求2所述的微反射镜阵列，其中所述一个或多个静电致动器包括两对梳状致动器，所述两对梳状致动器被连接到所述柱并且被布置为实现对所述反射镜的倾倒和倾斜位移控制，其中每个梳状致动器包括静态部分和移动部分，所述静态部分被固定到所述衬底，所述移动部分相对于所述衬底是可移动的并且被连接到所述柱。4.根据权利要求2或3所述的微反射镜阵列，其中每个梳状致动器的所述移动部分被成形为梯形，并且在所述梯形的一些或全部角处被锚定到所述衬底。5.根据前述权利要求中任一项所述的微反射镜阵列，其中每个静电致动器通过一个或多个弹性元件被连接到所述柱。6.根据前述权利要求中任一项所述的微反射镜阵列，针对所述多个反射镜中的每个反射镜，所述微反射镜阵列包括用于感测所述反射镜的位移的感测元件。7.根据权利要求6所述的微反射镜阵列，其中所述感测元件包括来自所述反射镜的突起和被连接到所述衬底的电极，所述感测元件被布置为感测所述突起与所述电极之间的电容。8.根据权利要求6所述的微反射镜阵列，其中所述感测元件包括压电电阻器，所述压电电阻器被耦合到所述柱。9.根据前述权利要求中任一项所述的微反射镜阵列，针对所述多个反射镜中的每个发射镜，所述微反射镜阵列包括用于将热从所述反射镜扩散到所述衬底的热扩散器。10.根据权利要求9所述的微反射镜阵列，其中所述热扩散器包括散热器和一个或多个柔性连接器，所述一个或多个柔性连接器将所述散热器连接到所述柱。11.根据前述权利要求中任一项所述的微反射镜阵列，其中所述多个反射镜中的每个反射镜用于反射具有基本上为13.5nm的波长的光。12.一种可编程照射器，包括根据权利要求1至11中任一项所述的微反射镜阵列，所述微反射镜阵列用于调节辐射束。13.根据权利要求12所述的可编程照射器，包括位移控制反馈系统，所述位移控制反馈系统被配置为针对所述多个反射镜中的每个反射镜确定所述反射镜的位置，并且基于所确定的所述位置和基于所述反射镜的预定目标位置来调整被施加给所述一个或多个静电致动器的电压。
14.一种光刻设备，被布置为将图案从图案形成装置投影到衬底上，包括根据权利要求12或13所述的可编程照射器，所述可编程照射器用于调节被用来照射所述图案形成装置的辐射束和/或用于调节被用来测量所述衬底上的目标结构的辐射束。15.一种检查设备，包括根据权利要求12或13所述的可编程照射器，所述可编程照射器用于调节被用来测量衬底上的目标结构的辐射束。16.一种形成微反射镜阵列的方法，包括：提供衬底；形成用于反射入射光的多个反射镜，并且针对所述多个反射镜中的每个反射镜，形成支撑所述反射镜的相应的柱；针对所述多个反射镜中的每个反射镜，形成一个或多个静电致动器，所述静电致动器被连接到所述衬底，所述静电致动器用于向所述柱施加力以使所述柱相对于所述衬底进行位移，由此使所述反射镜进行位移。17.根据权利要求16所述的方法，其中形成所述一个或多个静电致动器的步骤包括：形成至少一对梳状致动器，其中每个梳状致动器包括静态部分和移动部分，所述静态部分被固定到所述衬底，所述移动部分相对于所述衬底是可移动的并且被连接到所述柱，多个细长导体元件中的至少一个细长导体元件从所述静态部分延伸并且与从所述移动部分延伸的多个细长导体元件交错。18.根据权利要求16所述的方法，其中形成所述一个或多个静电致动器的步骤包括：形成两对梳状致动器，所述两对梳状致动器被布置为实现对所述反射镜的倾倒和倾斜位移控制，其中每个梳状致动器包括静态部分和移动部分，所述静态部分被固定到所述衬底，所述移动部分相对于所述衬底是可移动的并且被连接到所述柱。19.根据权利要求17或18所述的方法，其中每个梳状致动器被成形为梯形，并且在所述梯形的一些或全部角处被锚定到所述衬底。20.根据权利要求16至19中任一项所述的方法，其中形成所述一个或多个静电致动器的步骤包括：形成一个或多个弹性元件，所述一个或多个弹性元件将所述一个或多个静电致动器连接到所述柱。21.根据权利要求16至20中任一项所述的方法，包括：针对所述多个反射镜中的每个反射镜，形成用于感测所述反射镜的位移的感测元件。22.根据权利要求21所述的方法，其中形成所述感测元件的步骤包括：形成来自所述反射镜的突起和被连接到所述衬底的电极，所述感测元件被布置为感测所述突起与所述电极之间的电容。23.根据权利要求21所述的方法，其中形成所述感测元件的步骤包括：形成被耦合到所述柱的压电电阻器。24.根据权利要求16至23中任一项所述的方法，包括：针对所述多个反射镜中的每个反射镜，形成用于将热从所述反射镜扩散到所述衬底的热扩散器。25.根据权利要求24所述的方法，其中形成所述热扩散器的步骤包括：形成散热器和一个或多个柔性连接器，所述一个或多个柔性连接器将所述散热器连接到所述柱。

技术总结
微反射镜阵列包括：衬底；用于反射入射光的多个反射镜；以及针对多个反射镜中的每个反射镜，将衬底连接到反射镜的相应的柱。针对多个反射镜中的每个反射镜，微反射镜阵列还包括被连接到衬底的一个或多个静电致动器，该一个或多个静电致动器用于向柱施加力以使柱相对于衬底进行位移，由此使反射镜进行位移。还公开了一种形成该微反射镜阵列的方法。微反射镜阵列可以用于可编程照射器中。可编程照射器可以用于光刻设备和/或检查设备中。以用于光刻设备和/或检查设备中。以用于光刻设备和/或检查设备中。


技术研发人员：L
受保护的技术使用者：ASML荷兰有限公司
技术研发日：2020.08.05
技术公布日：2022/4/12