显示装置的制作方法

1.本发明涉及一种显示装置。更详细而言，本发明涉及一种能够最小化损坏的显示装置。


背景技术：

2.用于计算机显示器或tv、移动电话等的显示装置包括自发光的有机发光显示装置(oled：organic light emitting display)等和需要单独的光源的液晶显示装置(lcd：liquid crystal display)等。
3.另外，当外力施加到显示装置时，在显示装置内部可能发生裂纹。在裂纹发生在显示装置的像素区域或裂纹扩散到像素区域的情况下，布置于所述像素区域的晶体管和/或发光层可能被损坏。


技术实现要素：

4.本发明的一目的在于提供一种能够最小化布置于像素区域的晶体管和/或发光层的损坏的显示装置。
5.本发明的另一目的在于提供一种制造所述显示装置的方法。
6.然而，本发明的目的并不限于上述的目的，可以在不脱离本发明的思想及领域的范围内实现多样的扩展。
7.为了实现上述的本发明的一目的，根据本发明的一实施例的一种显示装置包括：基板，包含第一像素区域、与所述第一像素区域隔开的第二像素区域以及布置于所述第一像素区域与所述第二像素区域之间的谷区域；至少一个第一绝缘层，布置于所述基板上，并且与所述第一像素区域及所述第二像素区域重叠；第二绝缘层，布置于所述第一绝缘层上，并且通过贯通所述第一绝缘层的贯通孔而在所述谷区域中与所述基板接触；以及裂纹防止图案，与所述谷区域重叠，并且布置于所述第一绝缘层与所述第二绝缘层之间，其中，所述贯通孔可以暴露所述第一绝缘层的侧表面，并且所述裂纹防止图案可以覆盖所述侧表面。
8.根据一实施例，所述裂纹防止图案的模量可以大于所述第一绝缘层的模量。
9.根据一实施例，所述裂纹防止图案可以包括金属。
10.根据一实施例，所述裂纹防止图案可以包括钼。
11.根据一实施例，所述裂纹防止图案可以被电浮置。
12.根据一实施例，所述裂纹防止图案可以进一步覆盖所述第一绝缘层的上表面。
13.根据一实施例，所述第一绝缘层包括：第一无机绝缘层、布置于所述第一无机绝缘层上的第二无机绝缘层以及布置于所述第二无机绝缘层上的第三无机绝缘层，所述显示装置还包括：有源图案，布置于所述基板与所述第一无机绝缘层之间，并与所述第一像素区域重叠；多个栅电极，布置于所述第一无机绝缘层与所述第二无机绝缘层之间，并与所述有源图案重叠；以及连接电极，布置于所述第三无机绝缘层上，其中，所述裂纹防止图案可以包括与所述连接电极相同的物质。
14.根据一实施例，所述显示装置还可以包括：连接图案，布置于所述第二绝缘层上，与所述谷区域重叠，并与所述多个栅电极中的任意一个电连接。
15.根据一实施例，所述基板包括：第一有机膜；第一阻挡膜，布置于所述第一有机膜上；第二有机膜，布置于所述第一阻挡膜上；第二阻挡膜，布置于所述第二有机膜上；以及缓冲层，布置于所述第二阻挡膜上，其中，所述贯通孔可以进一步贯通所述缓冲层的一部分。
16.为了实现上述的本发明的一目的，根据本发明的另一实施例的一种显示装置包括：基板，包含以矩阵形态排列的多个像素区域及围绕所述多个像素区域中的每一个的谷区域；至少一个第一绝缘层，布置于所述基板上，并且与所述像素区域重叠；第二绝缘层，布置于所述第一绝缘层上，并且通过贯通所述第一绝缘层的贯通孔而在所述谷区域中与所述基板接触；以及裂纹防止图案，与所述谷区域重叠，并且布置于所述第一绝缘层与所述第二绝缘层之间，其中，所述贯通孔可以暴露所述第一绝缘层的侧表面，并且所述裂纹防止图案可以覆盖所述侧表面。
17.根据一实施例，所述裂纹防止图案的模量可以大于所述第一绝缘层的模量。
18.根据一实施例，所述裂纹防止图案可以包括金属。
19.根据一实施例，所述裂纹防止图案可以包括钼。
20.根据一实施例，所述裂纹防止图案可以被电浮置。
21.根据一实施例，所述裂纹防止图案可以进一步覆盖所述第一绝缘层的上表面。
22.根据一实施例，所述第一绝缘层包括：第一无机绝缘层、布置于所述第一无机绝缘层上的第二无机绝缘层以及布置于所述第二无机绝缘层上的第三无机绝缘层，所述显示装置还包括：有源图案，布置于所述基板与所述第一无机绝缘层之间，并与所述第一像素区域重叠；多个栅电极，布置于所述第一无机绝缘层与所述第二无机绝缘层之间，并与所述有源图案重叠；以及连接电极，布置于所述第三无机绝缘层上，其中，所述裂纹防止图案可以包括与所述连接电极相同的物质。
23.根据一实施例，所述显示装置还可以包括：连接图案，布置于所述第二绝缘层上，与所述谷区域重叠，并与所述多个栅电极中的任意一个电连接。
24.根据一实施例，所述基板包括：第一有机膜；第一阻挡膜，布置于所述第一有机膜上；第二有机膜，布置于所述第一阻挡膜上；第二阻挡膜，布置于所述第二有机膜上；以及缓冲层，布置于所述第二阻挡膜上，其中，所述贯通孔可以进一步贯通所述缓冲层的一部分。
25.为了实现上述本发明的另一目的，根据本发明的一实施例的显示装置的制造方法包括如下步骤：形成包含第一像素区域、与所述第一像素区域隔开的第二像素区域以及布置于所述第一像素区域与所述第二像素区域之间的谷区域的基板；在所述基板上形成与所述第一像素区域及所述第二像素区域重叠的至少一个第一绝缘层；形成与所述谷区域重叠并贯通所述第一绝缘层的贯通孔；在所述贯通孔的内部形成裂纹防止图案；以及在所述第一绝缘层上形成通过所述贯通孔而在所述谷区域中与所述基板接触的第二绝缘层，其中，所述贯通孔可以暴露所述第一绝缘层的侧表面，并且所述裂纹防止图案可以覆盖所述侧表面。
26.根据一实施例，在所述贯通孔的内部形成所述裂纹防止图案的步骤可以包括如下步骤：在所述第一绝缘层上形成连接电极。
27.根据本发明的一实施例的一种显示装置可以包括：基板，包含第一像素区域、与所
述第一像素区域隔开的第二像素区域以及布置于所述第一像素区域与所述第二像素区域之间的谷区域；至少一个第一绝缘层，布置于所述基板上，并且与所述第一像素区域及所述第二像素区域重叠；第二绝缘层，布置于所述第一绝缘层上，并且通过贯通所述第一绝缘层的贯通孔而在所述谷区域中与所述基板接触；以及裂纹防止图案，与所述谷区域重叠，并且布置于所述第一绝缘层与所述第二绝缘层之间。所述贯通孔可以暴露所述第一绝缘层的侧表面，并且所述裂纹防止图案可以覆盖所述侧表面。
28.由于所述裂纹防止图案在所述谷区域覆盖所述第一绝缘层的侧表面，因此所述裂纹防止图案可以防止裂纹扩散到所述第一像素区域及所述第二像素区域。据此，可以最小化布置于所述第一像素区域及所述第二像素区域的晶体管和/或发光层的损坏。
29.并且，在所述显示装置的制造方法中，形成与所述谷区域重叠的所述裂纹防止图案的步骤可以包括如下步骤：在所述第一绝缘层上形成所述连接电极。换句话说，形成所述裂纹防止图案的步骤可以与形成所述连接电极的步骤同时进行，并且所述裂纹防止图案可以利用与所述连接电极相同的物质形成。因此，所述显示装置的制造方法不需要额外的掩模来图案化所述裂纹防止图案。
30.然而，本发明的技术效果并不限于上述的技术效果，可以在不脱离本发明的思想及领域的范围内实现多样的扩展。
附图说明
31.图1是示出根据本发明的一实施例的显示装置的平面图。
32.图2是放大图1的a区域的放大图。
33.图3是沿图2的i-i'线而截取的剖视图。
34.图4至图7是示出根据本发明的一实施例的显示装置的制造方法的剖视图。
35.附图标记说明：
36.10：显示装置
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pa1：第一像素区域
37.pa2：第二像素区域
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va：谷区域
38.da：显示区域
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cp：裂纹防止图案
39.bp：基板
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pi1：第一有机膜
40.pi2：第二有机膜
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brr1：第一阻挡膜
41.brr2：第二阻挡膜
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bf：缓冲层
42.ild：第一绝缘层
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via：第二绝缘层
43.ph：贯通孔
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ce1：第一连接电极
44.ild1：第一无机绝缘层
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ild2：第二无机绝缘层
45.ild3：第三无机绝缘层
46.via1：第一有机绝缘层
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via2：第二有机绝缘层
47.via3：第三有机绝缘层
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via4：第四有机绝缘层
48.act1：第一有源图案
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act2：第二有源图案
49.gat1：第一栅电极
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gat2：第二栅电极
50.gat3：第三栅电极
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gat4：第四栅电极
51.sdp：连接图案
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ade1：第一下部电极
52.ade2：第二下部电极
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el1：第一发光层
53.el2：第二发光层
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cte：上部电极
54.pdl：像素定义膜
具体实施方式
55.以下，参照附图对本发明的实施例进行更详细的说明。对附图上的相同的构成要素使用相同的附图标记，并且将省略对相同的构成要素的重复说明。
56.图1是示出根据本发明的一实施例的显示装置的平面图，图2是放大图1的a区域的放大图，图3是沿图2的i-i'线而截取的剖视图。
57.参照图1及图2，根据本发明的一实施例的显示装置10可以划分为显示区域da及非显示区域nda。所述显示区域da可以包括多个像素区域，并且可以显示图像。在所述非显示区域nda可以布置有驱动部(例如，栅极驱动部和/或数据驱动部)，并且所述非显示区域nda在平面上可以布置成围绕所述显示区域da。
58.在一实施例中，所述显示区域da可以包括第一像素区域pa1、第二像素区域pa2及谷区域va。例如，所述显示区域da可以包括所述第一像素区域pa1、与所述第一像素区域pa1隔开的所述第二像素区域pa2及位于所述第一像素区域pa1与所述第二像素区域pa2之间的谷区域va。
59.参照图3，所述显示装置10可以包括布置于所述显示区域da的基板bp、第一绝缘层ild、第二绝缘层via、像素定义膜pdl、第一发光层el1及第二发光层el2。
60.所述基板bp可以包括第一有机膜pi1、布置于所述第一有机膜pi1上的第一阻挡膜brr1、布置于所述第一阻挡膜brr1上的第二有机膜pi2、布置于所述第二有机膜pi2上的第二阻挡膜brr2、布置于所述第二阻挡膜brr2上的缓冲层bf。例如，所述基板bp可以包括单层或多层。
61.至少一个第一绝缘层ild可以布置于所述缓冲层bf上。在一实施例中，所述第一绝缘层ild可以包括第一无机绝缘层ild1、布置于所述第一无机绝缘层ild1上的第二无机绝缘层ild2及布置于所述第二无机绝缘层ild2上的第三无机绝缘层ild3。所述第一绝缘层ild可以包括无机绝缘物质。例如，所述第一绝缘层ild可以包括氮化硅(sin
x
)、氧化硅(sio
x
)等。
62.至少一个第二绝缘层via可以布置于所述第一绝缘层ild上。在一实施例中，所述第二绝缘层via可以包括第一有机绝缘层via1、布置于所述第一有机绝缘层via1上的第二有机绝缘层via2、布置于所述第二有机绝缘层via2上的第三有机绝缘层via3及布置于所述第三有机绝缘层via3上的第四有机绝缘层via4。所述第二绝缘层via可以包括有机绝缘物质。所述第一有机绝缘层via1可以通过贯通第一绝缘层ild的贯通孔ph而在谷区域va中与所述基板bp接触。所述贯通孔ph可以暴露所述第一绝缘层ild的侧表面。所述贯通孔ph可以进一步贯通布置于所述基板bp的最上端的所述缓冲层bf的一部分。
63.第一有源图案act1及第二有源图案act2可以布置于所述基板bp与所述第一无机绝缘层ild1之间。在一实施例中，所述第一有源图案act1可以与所述第一像素区域pa1重叠，所述第二有源图案act2可以与所述第二像素区域pa2重叠。所述第一有源图案act1及所述第二有源图案act2可以包括硅半导体和/或氧化物半导体。
64.多个第一栅电极gat1可以布置于所述第一无机绝缘层ild1与所述第二无机绝缘层ild2之间，并且可以与所述第一有源图案act1重叠。多个第二栅电极gat2可以布置于所述第一无机绝缘层ild1与所述第二无机绝缘层ild2之间，并且可以与所述第二有源图案act2重叠。第三栅电极gat3可以布置于所述第二无机绝缘层ild2与所述第三无机绝缘层ild3之间，并且可以与所述第一有源图案act1重叠。第四栅电极gat4可以布置于所述第二无机绝缘层ild2与所述第三无机绝缘层ild3之间，并且可以与所述第二有源图案act2重叠。
65.可以将驱动信号传输到所述第一栅电极gat1或所述第二栅电极gat2的至少一个连接电极可以布置于所述第三无机绝缘层ild3上。例如，所述连接电极可以包括第一连接电极ce1、第二连接电极ce2、第三连接电极ce3、第四连接电极ce4、第五连接电极ce5、第六连接电极ce6、第七连接电极ce7、第八连接电极ce8、第九连接电极ce9、第十连接电极ce10。所述第一连接电极ce1及所述第四连接电极ce4可以与所述第一有源图案act1接触，所述第七连接电极ce7及所述第十连接电极ce10可以与所述第二有源图案act2接触。所述第二连接电极ce2及所述第五连接电极ce5可以与所述第一栅电极gat1接触，所述第六连接电极ce6及所述第九连接电极ce9可以与所述第二栅电极gat2接触。
66.所述显示装置10可以包括：连接图案sdp，布置于所述第二绝缘层via上，与所述谷区域va重叠，并与所述第一栅电极gat1中的任意一个电连接。所述连接图案sdp可以将与所述第一像素区域pa1重叠的所述第五连接电极ce5和与所述第二像素区域pa2重叠的所述第六连接电极ce6电连接。
67.所述第一有源图案act1、所述第一栅电极gat1、所述第三栅电极gat3、所述第一连接电极ce1、所述第二连接电极ce2、所述第三连接电极ce3、所述第四连接电极ce4及所述第五连接电极ce5可以构成布置于所述第一像素区域pa1的第一晶体管。并且，所述第二有源图案act2、所述第二栅电极gat2、所述第四栅电极gat4、所述第六连接电极ce6、所述第七连接电极ce7、所述第八连接电极ce8、所述第九连接电极ce9及所述第十连接电极ce10可以构成布置于所述第二像素区域pa2的第二晶体管。
68.可以从所述第四连接电极ce4接收驱动信号的第十一连接电极ce11可以布置于所述第一有机绝缘层via1上，可以从所述第七连接电极ce7接收驱动信号的第十二连接电极ce12可以布置于所述第一有机绝缘层via1上。
69.可以从所述第十一连接电极ce11接收驱动信号的第十三连接电极ce13可以布置于所述第二有机绝缘层via2上，可以从所述第十二连接电极ce12接收驱动信号的第十四连接电极ce14可以布置于所述第二有机绝缘层via2上。
70.第一下部电极ade1可以布置于所述第四有机绝缘层via4上。所述第一下部电极ade1可以与所述第一像素区域pa1重叠，并且可以与所述第十三连接电极ce13接触。第二下部电极ade2可以布置于所述第四有机绝缘层via4上。所述第二下部电极ade2可以与所述第二像素区域pa2重叠，并且可以与所述第十四连接电极ce14接触。
71.像素定义膜pdl可以布置于所述第四有机绝缘层via4上。在所述像素定义膜pdl可以形成有分别暴露所述第一下部电极ade1及所述第二下部电极ade2的第一开口及第二开口。
72.所述第一发光层el1可以布置于所述第一下部电极ade1上。并且，所述第一发光层
el1可以布置于所述第一开口的内部。所述第一发光层el1可以包括有机发光物质，并且可以根据所述有机发光物质发出具有预设定的颜色的光。
73.所述第二发光层el2可以布置于所述第二下部电极ade2上。并且，所述第二发光层el2可以布置于所述第二开口的内部。所述第二发光层el2可以包括有机发光物质，并且可以根据所述有机发光物质发出具有预设定的颜色的光。
74.上部电极cte可以布置于所述像素定义膜pdl上。
75.对现有的显示装置而言，当外力施加到所述显示装置时，在所述显示装置的内部可能发生裂纹(crack)。在所述裂纹发生在所述显示装置的像素区域或所述裂纹扩散到所述显示装置的所述像素区域的情况下，布置于所述像素区域的晶体管和/或发光层可能被损坏。
76.但是，在根据本发明的一实施例的显示装置10中，在所述谷区域va可以形成有贯通所述第一绝缘层ild的所述贯通孔ph。据此，施加到所述显示装置10的所述外力可能不会均匀地分散，而是可能通过所述贯通孔ph而集中到所述谷区域va。利用这种结构，所述第一像素区域pa1及所述第二像素区域pa2可以借由布置于所述第一像素区域pa1与所述第二像素区域pa2之间的谷区域va而受保护。
77.但是存在着如下的忧虑：集中到所述贯通孔ph的所述外力扩散到所述第一像素区域pa1及所述第二像素区域pa2，因此所述裂纹仍然会扩散到第一像素区域pa1及第二像素区域pa2。
78.裂纹防止图案cp可以与所述谷区域va重叠，并且可以布置于所述第一绝缘层ild与所述第二绝缘层via之间。所述裂纹防止图案cp可以覆盖由所述贯通孔ph暴露的所述第一绝缘层ild的侧表面。所述裂纹防止图案cp可以进一步覆盖所述第一绝缘层ild的上表面。
79.所述裂纹防止图案cp的模量可以大于所述第一绝缘层ild的模量。因此，所述裂纹防止图案cp可以防止集中到所述贯通孔ph的所述外力扩散到所述第一像素区域pa1及所述第二像素区域pa2。因此，裂纹防止图案cp可以最小化布置于所述第一像素区域pa1及所述第二像素区域pa2的所述第一晶体管及所述第二晶体管和/或所述第一发光层el1及所述第二发光层el2由于裂纹而损坏。
80.所述裂纹防止图案cp可以包括金属。更详细而言，所述裂纹防止图案cp可以包括钼(mo)。所述裂纹防止图案cp可以被电浮置。
81.并且，所述裂纹防止图案cp并不限于金属，可以包括氮化硅(sin
x
)、氧化硅(sio
x
)及氮氧化硅(sion)中的任意一个。
82.图4至图7是示出根据本发明的一实施例的显示装置的制造方法的剖视图。
83.参照图4，根据本发明的一实施例的显示装置10的制造方法可以包括如下步骤：形成所述基板bp；形成所述第一有源图案act1及所述第二有源图案act2；形成所述第一无机绝缘层ild1；形成所述第一栅电极gat1及所述第二栅电极gat2；形成所述第二无机绝缘层ild2；形成所述第三栅电极gat3及所述第四栅电极gat4；以及形成所述第三无机绝缘层ild3。
84.在一实施例中，形成所述基板bp的步骤可以包括如下步骤：形成所述第一有机膜pi1；形成所述第一阻挡膜brr1；形成所述第二有机膜pi2；形成所述第二阻挡膜brr2；以及
形成所述缓冲层bf。
85.参照图5，所述显示装置10的制造方法可以在形成所述第三无机绝缘层ild3的步骤之后包括如下步骤：形成与所述谷区域va重叠并贯通所述第一无机绝缘层ild1、所述第二无机绝缘层ild2、所述第三无机绝缘层ild3的贯通孔ph。例如，形成所述贯通孔ph的步骤可以包括如下步骤：形成暴露所述第一有源图案act1、所述第二有源图案act2、所述第一栅电极gat1、所述第二栅电极gat2、所述第三栅电极gat3以及所述第四栅电极gat4中的任意一个的接触孔。
86.参照图6，所述显示装置10的制造方法可以在形成所述贯通孔ph的步骤之后包括如下步骤：在所述贯通孔ph内部形成所述裂纹防止图案cp。例如，形成所述裂纹防止图案cp的步骤可以包括如下步骤：形成所述第一连接电极ce1、所述第二连接电极ce2、所述第三连接电极ce3、所述第四连接电极ce4、所述第五连接电极ce5、所述第六连接电极ce6、所述第七连接电极ce7、所述第八连接电极ce8、所述第九连接电极ce9、所述第十连接电极ce10。例如，形成所述裂纹防止图案cp的步骤和形成所述第一连接电极ce1、所述第二连接电极ce2、所述第三连接电极ce3、所述第四连接电极ce4、所述第五连接电极ce5、所述第六连接电极ce6、所述第七连接电极ce7、所述第八连接电极ce8、所述第九连接电极ce9、所述第十连接电极ce10的步骤可以同时进行，并且所述裂纹防止图案cp可以利用与所述第一连接电极ce1、所述第二连接电极ce2、所述第三连接电极ce3、所述第四连接电极ce4、所述第五连接电极ce5、所述第六连接电极ce6、所述第七连接电极ce7、所述第八连接电极ce8、所述第九连接电极ce9、所述第十连接电极ce10相同的物质形成。因此，所述显示装置10的制造方法可能不需要额外的掩模来图案化所述裂纹防止图案cp。
87.参照图7，所述显示装置10的制造方法可以在形成所述裂纹防止图案cp的步骤之后包括如下步骤：形成所述第一有机绝缘层via1；形成所述第十一连接电极ce11及所述第十二连接电极ce12；形成所述连接图案sdp；形成所述第二有机绝缘层via2；形成所述第十三连接电极ce13及所述第十四连接电极ce14；形成所述第三有机绝缘层via3；形成所述第四有机绝缘层via4；形成所述第一下部电极ade1及所述第二下部电极ade2；形成所述像素定义膜pdl；形成所述第一发光层el1及所述第二发光层el2；以及形成所述上部电极cte。例如，形成所述第十一连接电极ce11及所述第十二连接电极ce12的步骤和形成所述连接图案sdp的步骤可以同时进行，并且所述第十一连接电极ce11及所述第十二连接电极ce12和所述连接图案sdp可以利用相同的物质形成。
88.如上所述，参照本发明的示例性实施例进行了说明，但只要是具有本技术领域中的普通知识的人员，便可以理解在不脱离权利要求书中记载的本发明的思想和领域的范围内，可以对本发明进行多种修改和变更。
89.产业上的可利用性
90.本发明可以应用于显示装置及包括该显示装置的电子设备。例如，本发明可以应用于高分辨率智能电话、移动电话、智能平板电脑、智能手表、平板pc、车辆用导航仪系统、电视、计算机显示器、笔记本计算机等。