激光装置和激光装置的泄漏检查方法与流程

1.本公开涉及激光装置和激光装置的泄漏检查方法。


背景技术：

2.近年来，在半导体曝光装置中，随着半导体集成电路的微细化和高集成化，要求分辨率的提高。因此，从曝光用光源放出的光的短波长化得以发展。例如，作为曝光用的气体激光装置，使用输出波长大约为248nm的激光的krf准分子激光装置、以及输出波长大约为193nm的激光的arf准分子激光装置。
3.krf准分子激光装置和arf准分子激光装置的自然振荡光的谱线宽度较宽，为350～400pm。因此，在利用透过krf和arf激光这种紫外线的材料构成投影透镜时，有时产生色差。其结果，分辨率可能降低。因此，需要将从气体激光装置输出的激光的谱线宽度窄带化到能够无视色差的程度。因此，有时在气体激光装置的激光谐振器内具有包含窄带化元件(标准具、光栅等)的窄带化模块(line narrowing module：lnm)，以使谱线宽度窄带化。下面，将谱线宽度被窄带化的气体激光装置称为窄带化气体激光装置。
4.现有技术文献
5.专利文献
6.专利文献1：日本实开平01-146565号公报
7.专利文献2：美国专利第6819699号说明书
8.专利文献3：日本特开2008-270279号公报
9.专利文献4：日本实开平02-142558号公报


技术实现要素：

10.本公开的1个观点的激光装置的泄漏检查方法包含以下步骤：使收纳激光介质气体的封闭空间暴露于大气；在使封闭空间暴露于大气后，使封闭空间与大气隔绝；向封闭空间导入包含氖气的含氖气体；以及判定氖气是否泄漏到封闭空间的外部。
11.在本公开的另一个观点的激光装置的泄漏检查方法中，所述激光装置包含：激光腔；第1配管，其向激光腔导入包含氖气和氟气的第1气体；以及第2配管，其向激光腔导入包含氖气且氟气浓度比第1气体低的第2气体，其中，所述泄漏检查方法包含以下步骤：向包含激光腔的内部的空间的封闭空间导入包含氖气且氟气浓度比第1气体低的第3气体；以及判定氖气是否泄漏到封闭空间的外部。
12.本公开的1个观点的激光装置包含：激光腔；第1配管，其向激光腔导入包含氖气和氟气的第1气体；第2配管，其向激光腔导入包含氖气且氟气浓度比第1气体低的第2气体；以及第3配管，其向激光腔和第1配管导入包含氖气且氟气浓度比第1气体低的第3气体。
附图说明
13.下面，参照附图将本公开的若干个实施方式作为简单例子进行说明。
14.图1概略地示出比较例的激光装置的结构。
15.图2是示出比较例中的泄漏检查方法的过程的流程图。
16.图3是说明封闭空间的范围的图。
17.图4是示出比较例中的维护作业的过程的流程图。
18.图5是示出比较例中的泄漏检查的过程的流程图。
19.图6概略地示出第1实施方式的激光装置的结构。
20.图7是示出第1实施方式中的维护作业的过程的流程图。
21.图8是示出第1实施方式中的泄漏检查的过程的流程图。
22.图9是示出第2实施方式中的泄漏检查的过程的流程图。
23.图10概略地示出更换用激光腔的结构。
24.图11是示出第3实施方式中的泄漏检查的过程的流程图。
具体实施方式
25.内容
26.1.比较例的激光装置
27.1.1结构
28.1.1.1激光振荡器和各种控制部
29.1.1.2各种气体供给装置和排气装置
30.1.1.2.1激光气体供给装置
31.1.1.2.2腔吹扫气体供给装置
32.1.1.2.3排气装置
33.1.1.2.4光学模块吹扫气体供给装置
34.1.2动作
35.1.2.1激光振荡器的动作
36.1.2.2光学模块吹扫气体供给装置的动作
37.1.2.3泄漏检查方法
38.1.2.3.1维护作业
39.1.2.3.2泄漏检查
40.1.3比较例的课题
41.2.使用含氖气体进行泄漏检查的激光装置
42.2.1结构
43.2.2动作
44.2.2.1维护作业
45.2.2.2泄漏检查
46.2.3作用
47.3.根据气压的变化来进行泄漏检查的激光装置
48.4.进行更换用激光腔的泄漏检查的激光装置
49.4.1更换用激光腔
50.4.2泄漏检查的过程
51.4.3作用
52.5.其他
53.下面，参照附图对本公开的实施方式进行详细说明。以下说明的实施方式示出本公开的几个例子，不限定本公开的内容。此外，各实施方式中说明的结构和动作并不一定全都是本公开的结构和动作所必须的。另外，对相同结构要素标注相同参照标号并省略重复说明。
54.1.比较例的激光装置
55.1.1结构
56.图1概略地示出比较例的激光装置1的结构。激光装置1与曝光装置100一起被使用。
57.激光装置1包含激光腔10、窄带化模块14、输出耦合镜15、激光控制部30和气体控制部32。窄带化模块14和输出耦合镜15构成激光谐振器。激光装置1还包含激光气体供给装置33、腔吹扫气体供给装置35、排气装置37和光学模块吹扫气体供给装置39。
58.1.1.1激光振荡器和各种控制部
59.激光腔10被配置于激光谐振器的光路上。利用激光腔10、激光谐振器和未图示的高电压电源构成激光振荡器。在激光腔10设置有窗口10a和10b。
60.激光腔10在内部收纳一对电极11a和11b，还收纳激光介质气体。激光介质气体包含卤素气体、稀有气体和缓冲气体。例如，卤素气体是氟气，稀有气体是氩气或氪气，缓冲气体是氖气。此外，激光介质气体也可以包含氙气作为添加气体。激光腔10与压力计p连接。
61.窄带化模块14包含棱镜14a和光栅14b等波长选择元件。窄带化模块14被收纳于外壳18。输出耦合镜15由部分反射镜构成。输出耦合镜15被收纳于外壳19。在外壳19设置有窗口10c。也可以在外壳19中还收纳有用于计测脉冲激光的脉冲能量的未图示的能量监视器。
62.激光控制部30由包含cpu(central processing unit：中央处理单元)30a和存储器30b的计算机装置构成。存储器30b存储有信息处理所需要的程序和数据。cpu30a构成为按照存储器30b中存储的程序，读出各种数据并进行信息处理。激光控制部30与曝光装置100的未图示的曝光装置控制部、fdc系统(fault detection and classification system：故障检测和分类系统)120和用户界面140连接。
63.气体控制部32由包含cpu32a和存储器32b的计算机装置构成。存储器32b存储信息处理所需要的程序和数据。cpu32a构成为按照存储器32b中存储的程序，读出各种数据并进行信息处理。
64.1.1.2各种气体供给装置和排气装置
65.接着，对激光气体供给装置33、腔吹扫气体供给装置35、排气装置37和光学模块吹扫气体供给装置39进行说明。在以下的说明中，供气体流动的各种配管的第1端部是气体流的上游侧的端部，第2端部是与第1端部相反的一侧的端部。
66.1.1.2.1激光气体供给装置
67.激光气体供给装置33包含被设置于配管331的第1端部附近的阀f2-v1、以及被设置于配管332的第1端部附近的阀b-v1。配管331相当于本公开中的第1配管。配管332相当于本公开中的第2配管。
68.配管331的第1端部经由配管231与含氟气体瓶23连接。含氟气体瓶23相当于本公
开中的第1气体供给源。含氟气体瓶23收纳有包含氖气和氟气的含氟气体。含氟气体相当于本公开中的第1气体。含氟气体例如是氟气、氩气和氖气的混合气体。
69.配管332的第1端部经由配管241与含氖气体瓶24连接。含氖气体瓶24相当于本公开中的第2气体供给源。含氖气体瓶24收纳有包含氖气且氟气浓度比含氟气体低的含氖气体。含氖气体相当于本公开中的第2气体。含氖气体也可以不包含氟气。含氖气体例如是氩气、氖气和氙气的混合气体。
70.或者，也可以是，含氟气体是氟气、氪气和氖气的混合气体，含氖气体是氪气和氖气的混合气体。
71.配管331的第2端部和配管332的第2端部彼此连接，进而与配管333连接。配管333与配管334连接，配管334与激光腔10连接。在配管332的第2端部附近设置有用于抑制来自配管331和配管333的含氟气体的逆流的止回阀332a。也可以在配管331和332分别设置有未图示的质量流量控制器。
72.1.1.2.2腔吹扫气体供给装置
73.腔吹扫气体供给装置35包含被设置于配管351的第1端部附近的阀l-v1。配管351的第1端部经由配管251与氦气瓶25连接。配管351的第2端部与配管333和配管334的连接部分连接。在配管351的第2端部附近设置有用于抑制来自配管333和配管334的含氟气体或含氖气体的逆流的止回阀351a。
74.在配管351的阀l-v1与止回阀351a之间连接有配管352的第1端部。配管352的第2端部与配管331连接。在配管352的第2端部附近设置有用于抑制来自配管331的含氟气体的逆流的止回阀352a。
75.在配管351的阀l-v1与止回阀351a之间连接有配管353的第1端部。配管353的第2端部与配管332连接。在配管353的第2端部附近设置有用于抑制来自配管332的含氖气体的逆流的止回阀353a。
76.1.1.2.3排气装置
77.排气装置37包含被设置于配管373的氟捕集器37a和排气泵37b。氟捕集器37a收纳有对氟气和氟化合物进行捕捉的处理剂。排气泵37b构成为强制地排出通过氟捕集器37a后的气体。配管373也可以包含对排气泵37b进行旁通的未图示的旁通流路，以使得在激光腔10内的气压高于大气压的情况下，放出通过氟捕集器37a后的气体。
78.配管373的第1端部与配管371的第2端部和配管372的第2端部连接。配管371的第1端部与激光腔10连接。在配管371配置有阀ex-v1。配管372的第1端部与配管331和配管332的连接部分附近连接。在配管372配置有阀ex-v2。
79.1.1.2.4光学模块吹扫气体供给装置
80.光学模块吹扫气体供给装置39包含被设置于配管391的第1端部附近的阀n2-v1。配管391的第1端部经由配管291与氮气瓶29连接。配管391的第2端部分支成配管392和配管393。配管392与收纳有窄带化模块14的外壳18连接。配管393与收纳有输出耦合镜15的外壳19连接。也可以在配管392和393分别设置未图示的质量流量控制器。
81.1.2动作
82.1.2.1激光振荡器的动作
83.激光控制部30根据来自曝光装置控制部的控制信号，向未图示的高电压电源发送
触发信号。高电压电源根据触发信号生成脉冲状的高电压，将该高电压施加给电极11a和11b。
84.在电极11a和11b被施加高电压后，在电极11a和11b之间引起放电。通过该放电的能量，激光腔10内的激光介质气体被激励，跃迁到高能级。然后，被激励的激光介质气体跃迁到低能级时，放出与该能级差对应的波长的光。
85.激光腔10内产生的光经由窗口10a和10b向激光腔10的外部出射。从窗口10a出射的光被窄带化模块14窄带化，期望波长附近的光经由窗口10a返回到激光腔10。
86.输出耦合镜15使从窗口10b出射的光中的一部分透过并输出，使另一部分反射而经由窗口10b返回到激光腔10。
87.这样，从激光腔10出射的光在窄带化模块14与输出耦合镜15之间往复。该光每当通过电极11a和11b之间的放电空间时被放大。此外，该光每当在窄带化模块14折返时被窄带化。这样进行激光振荡而被窄带化的光作为脉冲激光而经由输出耦合镜15从激光谐振器输出，经由窗口10c从激光装置1输出。
88.从激光装置1输出的脉冲激光入射到曝光装置100。
89.1.2.2光学模块吹扫气体供给装置的动作
90.在激光装置1的工作时，光学模块吹扫气体供给装置39向外壳18和19导入氮气。此时，阀n2-v1成为打开状态，阀f2-v1、b-v1、l-v1、ex-v1和ex-v2成为关闭状态。
91.氮气的导入量也可以由分别被设置于配管392和393的未图示的质量流量控制器来控制。氮气在外壳18和19各自的内部滞留后，从排气口18a和19a被排出。通过向外壳18和19导入氮气，抑制外壳18和19各自的内部的光学元件的污染。
92.1.2.3泄漏检查方法
93.图2是示出比较例中的泄漏检查方法的过程的流程图。泄漏检查方法按照维护作业(s10)、泄漏检查(s30)的顺序来进行。
94.维护作业(s10)包含以下步骤：使收纳激光介质气体的封闭空间暴露于大气，然后，实施激光腔10的部件更换，然后，使封闭空间与大气隔绝。
95.泄漏检查(s30)包含以下步骤：向与大气隔绝的封闭空间导入氦气，然后，判定氦气是否泄漏到封闭空间的外部。
96.图3是说明封闭空间的范围的图。图3选取地示出图1所示的激光装置1中的激光腔10和各种配管，利用虚线示出成为封闭空间的激光腔10和配管的范围。封闭空间包含配管331、332、351、371、372的各一部分的内部的空间、配管333、334、352和353的各内部的空间、以及激光腔10的内部的空间。
97.1.2.3.1维护作业
98.图4是示出比较例中的维护作业的过程的流程图。图4的流程图相当于图2的s10的子例程。图4所示的过程中的由实线的框包围的步骤表示气体控制部32的动作，由虚线的框包围的步骤表示作业者的动作。
99.在激光腔10的维护中，在使封闭空间暴露于大气前，通过以下的工序去除封闭空间的内部的氟气。
100.在s11中，气体控制部32将用于对气体排气的重复次数进行计数的计数器n的值设置成初始值1。
101.在s12中，气体控制部32经由氟捕集器37a排出封闭空间的内部的气体。具体而言，使阀f2-v1、b-v1和l-v1依然为关闭状态，使阀ex-v1和ex-v2为打开状态。由此，激光腔10的内部的气体经由阀ex-v1向排气装置37流动，配管331、332、333、334、351、352和353的内部的气体经由阀ex-v2向排气装置37流动。在排气装置37中，氟捕集器37a捕捉氟气和氟化合物。通过氟捕集器37a后的气体经由排气泵37b或未图示的旁通流路被排出到激光装置1的外部。在驱动了排气泵37b的情况下，能够进行排气以使封闭空间的内部的气压小于大气压。
102.在s13中，气体控制部32向封闭空间导入氦气。具体而言，使阀f2-v1和b-v1依然为关闭状态，使排气泵37b的驱动停止，使阀ex-v1和ex-v2为关闭状态，使阀l-v1为打开状态。由此，从配管351经由配管352、353、331、332、333和334向激光腔10导入氦气。还向配管371和372的各一部分导入氦气。这样，利用氦气进行封闭空间的气体吹扫。在导入氦气后，气体控制部32使阀l-v1为关闭状态。
103.在s14中，气体控制部32判定计数器n的值是否达到规定值nmax。规定值nmax为2以上的整数。
104.在计数器n的值未达到规定值nmax的情况下(s14：否)，气体控制部32使处理进入s15。在s15中，气体控制部32对计数器n的值加上1，对n的值进行更新。在s15之后，气体控制部32使处理返回s12。通过重复进行多次的气体的排气和氦气的导入，包含激光腔10的内部的空间的封闭空间的氟气被去除到能够暴露于大气的浓度。
105.在计数器n的值达到了规定值nmax的情况下(s14：是)，气体控制部32使处理进入s16。
106.在s16中，气体控制部32向外部通知氟气的去除完成。例如，气体控制部32将表示氟气的去除完成的信号发送到激光控制部30。以该信号为契机，激光控制部30向fdc系统120发送表示氟气的去除完成的通知。在针对fdc系统120的通知的基础上，或者代替针对fdc系统120的通知，激光控制部30使用户界面140进行表示氟气的去除完成的显示。
107.在s17中，作业者使封闭空间暴露于大气，以实施激光腔10的部件更换。例如，在进行窗口10a或10b的更换作业的情况下，激光腔10的内部的空间的至少一部分被暴露于大气。此外，例如，在进行激光腔10自身的更换作业的情况下，与激光腔10连接的配管334、371的一部分等也被暴露于大气。在s18中，作业者实施激光腔10的部件更换。
108.在s19中，作业者使封闭空间与大气隔绝，进而，经由用户界面140输入维护作业的完成。激光控制部30接收被输入到用户界面140的信号，将表示维护作业的完成的信号发送到气体控制部32。
109.在s20中，气体控制部32判定是否接收到表示维护作业的完成的信号。在未接收到表示维护作业的完成的信号的情况下(s20：否)，气体控制部32待机到接收到表示维护作业的完成的信号为止。在接收到表示维护作业的完成的信号的情况下(s20：是)，气体控制部32结束本流程图的处理，返回图2所示的处理。
110.1.2.3.2泄漏检查
111.图5是示出比较例中的泄漏检查的过程的流程图。图5的流程图相当于图2的s30的子例程。图5所示的过程中的由实线的框包围的步骤表示气体控制部32的动作，由虚线的框包围的步骤表示作业者的动作。
112.在s32中，气体控制部32使阀l-v1为打开状态，向封闭空间导入氦气。此时，阀f2-v1、b-v1、ex-v1和ex-v2成为关闭状态。
113.在s33中，气体控制部32判定由压力计p计测的激光腔10的内部的气压是否达到规定值。在激光腔10的内部的气压未达到规定值的情况下(s33：否)，气体控制部32待机到激光腔10的内部的气压达到规定值为止。在激光腔10的内部的气压达到了规定值的情况下(s33：是)，气体控制部32使处理进入s34。
114.在s34中，气体控制部32使阀l-v1为关闭状态，向外部通知气体的填充完成。例如，气体控制部32将表示气体的填充完成的信号发送到激光控制部30，激光控制部30向fdc系统120发送表示气体的填充完成的通知、和/或使用户界面140进行表示气体的填充完成的显示。
115.在s35中，作业者使用未图示的氦检漏仪判定氦气是否泄漏到封闭空间的外部。例如，在更换了窗口10a或10b的情况下，在更换后的窗口的周围调查氦气是否泄漏。然后，作业者经由用户界面140输入判定结果。激光控制部30接收被输入到用户界面140的信号，将表示判定结果的信号发送到气体控制部32。或者，也可以从氦检漏仪向激光控制部30发送表示判定结果的信号，激光控制部30将该信号发送到气体控制部32。
116.在s36中，气体控制部32识别氦气是否泄漏到封闭空间的外部的判定结果。
117.在氦气泄漏到封闭空间的外部的情况下(s36：是)，气体控制部32结束本流程图的处理，返回图2所示的处理。此时，气体控制部32也可以向激光控制部30发送表示装置错误的信号。激光控制部30也可以向fdc系统120发送表示装置错误的通知、和/或使用户界面140进行表示装置错误的显示。
118.在氦气未泄漏到封闭空间的外部的情况下(s36：否)，气体控制部32使处理进入s37。在s37中，气体控制部32排出封闭空间的内部的气体。排气的过程可以与图4的s12中说明的过程相同。然后，在s38中，气体控制部32向包含激光腔10的内部的空间在内的封闭空间导入含氖气体和含氟气体。具体而言，首先，使阀ex-v1、ex-v2、f2-v1和l-v1为关闭状态，使阀b-v1为打开状态。由此，从配管332向激光腔10导入含氖气体。接着，使阀ex-v1、ex-v2、b-v1、l-v1为关闭状态，使阀f2-v1为打开状态。由此，从配管331向激光腔10导入含氟气体。
119.在激光腔10的内部的气压和氟气浓度成为期望的值后，气体控制部32使阀ex-v1、ex-v2、f2-v1、b-v1和l-v1为关闭状态，将表示激光装置1的工作准备完成的信号发送到激光控制部30。
120.或者，为了使激光腔10的内部的气体组成稳定化，也可以在重复进行多次的s37的排气和s38的气体导入后，将表示激光装置1的工作准备完成的信号发送到激光控制部30。
121.在s38之后，气体控制部32结束本流程图的处理，返回图2所示的处理。
122.1.3比较例的课题
123.在比较例中，使用氦气进行封闭空间的气体吹扫和泄漏检查。但是，氦气的产地和产量有限，因此，有时供应困难或价格高昂。假设在氦气的供应停止的情况下，无法进行激光装置1的维护，可能无法使激光装置1进行工作。
124.2.使用含氖气体进行泄漏检查的激光装置
125.2.1结构
126.使用图6～图8对第1实施方式进行说明。
127.图6概略地示出第1实施方式的激光装置1的结构。在第1实施方式中，也可以没有氦气瓶25。配管351构成为向激光腔10、配管331和332导入包含氖气且氟气浓度比含氟气体低的第3气体。配管351相当于本公开中的第3配管。
128.优选第3气体是与含氖气体相同组成的气体。相同组成的气体是指成分及其混合比率都相等的气体。更加优选配管351的第1端部与含氖气体瓶24连接。在含氖气体瓶24连接有配管242。配管242在分支部24a处分支成配管243和配管244。配管243与配管332的第1端部连接，配管244与配管351的第1端部连接。配管242、243和244相当于本公开中的第4配管。
129.关于其他方面，第1实施方式的结构与比较例的结构相同。
130.2.2动作
131.第1实施方式中的激光振荡器的动作和光学模块吹扫气体供给装置39的动作与上述比较例中说明的动作相同。第1实施方式中的泄漏检查方法按照与参照图2说明的过程相同的过程来进行。但是，以下说明的子例程在第1实施方式和比较例中不同。
132.2.2.1维护作业
133.图7是示出第1实施方式中的维护作业的过程的流程图。代替图4的s13，在图7的s13a中，气体控制部32向封闭空间导入含氖气体。
134.关于其他方面，图7的处理与参照图4说明的比较例的处理相同。
135.2.2.2泄漏检查
136.图8是示出第1实施方式中的泄漏检查的过程的流程图。代替图5的s32，在图8的s32a中，气体控制部32向封闭空间导入含氖气体。此外，代替图5的s35，在图8的s35a中，作业者使用对氖气具有灵敏度的未图示的检漏仪判定氖气是否泄漏到封闭空间的外部。例如，在检测到比规定的阈值多的氖气的情况下，判定为氖气泄漏到封闭空间的外部。对氖气具有灵敏度的检漏仪例如可以是通过检测基准气体与测定气体之间的热传导率的差异来检测氖气的装置。检漏仪也可以构成为输出基于氖气的检测量的显示或警报。
137.关于其他方面，图8的处理与参照图5说明的比较例的处理相同。
138.2.3作用
139.(1)根据第1实施方式，向封闭空间导入包含氖气的含氖气体(图8的s32a)，判定氖气是否泄漏到封闭空间的外部(图8的s35a)。由此，即使不使用氦气，也能够进行泄漏检查，因此，在氦气的供应困难的情况下，也能够抑制激光装置1由于不能维护而停止工作。
140.(2)根据第1实施方式，在使封闭空间暴露于大气前，经由氟捕集器37a排出封闭空间的内部的气体(图7的s12)，向封闭空间导入含氖气体(图7的s13a)，经由氟捕集器37a再次排出封闭空间的内部的气体(图7的s12)。由此，即使不使用氦气，也能够对封闭空间的内部进行气体吹扫来降低氟气浓度。此外，使用与在泄漏检查中使用的气体相同的含氖气体进行气体吹扫，因此，抑制配管的增加。
141.(3)根据第1实施方式，使用对氖气具有灵敏度的检漏仪判定氖气是否泄漏到封闭空间的外部(图8的s35a)。由此，能够将含氖气体导入激光腔10内而立即进行泄漏检查。
142.(4)根据第1实施方式，在判定为氖气未泄漏到封闭空间的外部的情况下，排出封闭空间的内部的气体(图8的s37)，向封闭空间导入含氖气体和含氟气体(图8的s38)。由此，事先判定氖气未泄漏，因此，在导入了含氟气体等时，能够抑制氟气泄漏。此外，与使用氦气
进行泄漏检查的情况相比，在使用含氖气体进行泄漏检查的情况下，能够减少s37的排气和s38的气体导入的重复次数。
143.(5)根据第1实施方式，激光装置1包含：配管331，其向激光腔10导入包含氖气和氟气的含氟气体；配管332，其向激光腔10导入包含氖气且氟气浓度比含氟气体低的含氖气体；以及配管351，其向激光腔10和配管331导入包含氖气且氟气浓度比含氟气体低的第3气体。由此，即使不使用氦气，也能够使用包含氖气的第3气体进行泄漏检查，因此，在氦气的供应困难的情况下，也能够抑制激光装置1由于不能维护而停止工作。
144.另外，说明了经由配管351导入第3气体的情况，但是，本公开不限于此。即使没有配管351，也可以经由配管332导入与含氖气体相同组成的第3气体。
145.(6)根据第1实施方式，配管351向激光腔10和配管331导入与含氖气体相同组成的第3气体。由此，作为泄漏检查用的第3气体，能够移用构成激光介质气体的含氖气体，因此，能够减少气体的供应品类数。此外，能够削减第3气体的配管施工的成本。
146.(7)根据第1实施方式，配管331与收纳有含氟气体的含氟气体瓶23连接，配管332和351与收纳有含氖气体的含氖气体瓶24连接。
147.此外，根据第1实施方式，在配管332和351与含氖气体瓶24之间连接有包含分支部24a的配管242、243和244。
148.由此，能够使与配管332和351连接的气体瓶共通化。此外，不需要氦气的配管，能够削减配管施工的成本。
149.(8)根据第1实施方式，配管351向激光腔10、配管331和332导入第3气体。由此，不仅是激光腔10，配管331和332等也能够同时进行泄漏检查。
150.(9)根据第1实施方式，激光装置1包含从激光腔10和配管331排出气体的排气装置37。由此，能够向被排气的激光腔10和配管331导入第3气体来进行泄漏检查。
151.(10)根据第1实施方式，激光装置1包含从激光腔10、配管331和332排出气体的排气装置37。由此，能够向被排气的激光腔10、配管331和332导入第3气体来进行泄漏检查。
152.3.根据气压的变化来进行泄漏检查的激光装置
153.使用图9对第2实施方式进行说明。第2实施方式的结构与第1实施方式的结构相同。在以下说明的泄漏检查的子例程中，第2实施方式的动作与第1实施方式的动作不同。
154.图9是示出第2实施方式中的泄漏检查的过程的流程图。代替图8的s35a，在图9的s35b中，气体控制部32检测一定期间t内的激光腔10的内部的气压的变化，由此判定含氖气体是否泄漏到封闭空间的外部。
155.例如，气体控制部32从激光控制部30接收由压力计p测定的激光腔10的内部的气压p1，进而，从激光控制部30接收经过了一定期间t时的气压p2。然后，气体控制部32计算以下的值δp或dp/dt。
156.δp＝|p1-p2|
157.dp/dt＝|p1-p2|/t
158.气体控制部32在δp为规定的阈值以下的情况下、或dp/dt为规定的阈值以下的情况下，判定为含氖气体未泄漏到封闭空间的外部。气体控制部32在δp大于规定的阈值的情况下、或dp/dt大于规定的阈值的情况下，判定为含氖气体泄漏到封闭空间的外部。
159.关于其他方面，第2实施方式的动作与第1实施方式的动作相同。
160.根据第2实施方式，检测封闭空间的内部的气压的变化，判定含氖气体是否泄漏到封闭空间的外部(图9的s35b)。由此，能够使泄漏检查自动化，减少作业者的工时数。
161.4.进行更换用激光腔的泄漏检查的激光装置
162.使用图10和图11对第3实施方式进行说明。第3实施方式的结构与第1和第2实施方式的结构相同。第3实施方式与第1和第2实施方式的不同之处在于，进行更换用激光腔10d的泄漏检查。
163.4.1更换用激光腔
164.图10概略地示出更换用激光腔10d的结构。更换用激光腔10d设置有窗口10a和10b，在内部收纳有电极11a和11b，这点与激光腔10相同。在上述维护作业包含激光腔10的更换的情况下，从激光装置1取下激光腔10，图10所示的更换用激光腔10d被安装于激光装置1。
165.4.2泄漏检查的过程
166.图11是示出第3实施方式中的泄漏检查的过程的流程图。由虚线的框包围的步骤表示激光装置1的制造者的动作。
167.在s1中，激光装置1的制造者在激光装置1的制造工厂中向更换用激光腔10d封入含氖气体，使未图示的存储装置存储更换用激光腔10d的内部的气压p1和测定时刻t1。存储装置例如可以是附属于更换用激光腔10d的存储装置。或者，存储装置也可以是能够从被设置于出货目的地的半导体制造工厂的激光装置1的气体控制部32或激光控制部30访问的网络上的存储装置。
168.更换用激光腔10d被向半导体制造工厂出货，通过激光装置1的激光腔更换作业被安装于激光装置1。
169.在s2中，气体控制部32判定是否接收到表示激光腔更换作业的完成的信号。在未接收到表示激光腔更换作业的完成的信号的情况下(s2：否)，气体控制部32待机到接收到表示激光腔更换作业的完成的信号为止。在接收到表示激光腔更换作业的完成的信号的情况下(s2：是)，气体控制部32使处理进入s3。
170.在s3中，气体控制部32从激光控制部30接收由压力计p测定的激光腔10的内部的气压p2和测定时刻t2。该情况下的激光腔10是新被安装的更换用激光腔10d。气体控制部32读出存储装置中存储的气压p1和测定时刻t1，计算以下的值δp或dp/dt。
171.δp＝|p1-p2|
172.dp/dt＝|p1-p2|/(t2-t1)
173.气体控制部32在δp为规定的阈值以下的情况下、或dp/dt为规定的阈值以下的情况下，判定为含氖气体未泄漏到激光腔10的外部。气体控制部32在δp大于规定的阈值的情况下、或dp/dt大于规定的阈值的情况下，判定为含氖气体泄漏到激光腔10的外部。
174.s36～s38的处理与参照图5说明的对应的处理相同。在氦气泄漏到封闭空间的外部的情况下(s36：是)，或者在s38之后，气体控制部32结束本流程图的处理。
175.关于其他方面，第3实施方式与第1或第2实施方式相同。
176.4.3作用
177.根据第3实施方式，进行更换用激光腔10d的泄漏检查(图11的s3)，然后，导入含氟气体等(图11的s38)。由此，由于事先判定为氖气未泄漏，因此，能够抑制在导入了含氟气体
等时氟气从更换用激光腔10d泄漏。此外，与使用氦气进行泄漏检查的情况相比，在使用含氖气体进行泄漏检查的情况下，能够减少s37的排气和s38的气体导入的重复次数。
178.5.其他
179.上述说明不意图限制，而意图简单的例示。因此，本领域技术人员明白能够在不脱离权利要求书的情况下对本公开的实施方式施加变更。此外，本领域技术人员还明白组合使用本公开的实施方式。
180.只要没有明确记载，则本说明书和权利要求书整体所使用的用语应该解释为“非限定性”用语。例如，“包含”、“具有”、“所有”、“具备”等用语应该解释为“不将记载的结构要素以外的结构要素的存在除外”。此外，修饰词“一个”应该解释为意味着“至少一个”或“一个或一个以上”。此外，“a、b和c中的至少一个”这样的用语应该解释为“a”、“b”、“c”、“a b”、“a c”、“b c”或“a b c”。进而，应该解释为还包含它们和“a”、“b”、“c”以外的部分的组合。